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等离子去胶机去除PMMA电子束胶后表面粗糙度上升如何解决?

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深圳市方瑞科技有限公司2026-07-23

PMMA在氧等离子体中可能被过度刻蚀导致表面粗糙。方瑞科技采用“终点精细控制”:设备通过光学发射光谱实时监测CO特征谱线,当谱线强度下降90%时自动停止去胶,避免过刻蚀。同时采用低功率和氩气稀释,减少物理轰击。去胶后表面粗糙度Ra<0.3nm。

深圳市方瑞科技有限公司
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简介:专注于等离子设备的研发、生产和销售,服务于半导体、汽车、电子等多个行业,产品远销全球。
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