深圳市方瑞科技有限公司2026-07-23
PMMA在氧等离子体中可能被过度刻蚀导致表面粗糙。方瑞科技采用“终点精细控制”:设备通过光学发射光谱实时监测CO特征谱线,当谱线强度下降90%时自动停止去胶,避免过刻蚀。同时采用低功率和氩气稀释,减少物理轰击。去胶后表面粗糙度Ra<0.3nm。
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