等离子刻蚀机如何实现铌薄膜的各向异性刻蚀？

深圳市方瑞科技有限公司2026-07-11

铌用于超导量子比特。方瑞科技以SF₆/Ar为气体，在深低温ICP刻蚀，各向异性比>10:1，刻蚀后铌膜剩余电阻比>10，超导转变温度Tc无变化。方瑞科技已服务于量子计算公司。

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简介：专注于等离子设备的研发、生产和销售，服务于半导体、汽车、电子等多个行业，产品远销全球。

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