PLD设备如何优化靶材利用率？

科睿設備有限公司2026-05-26

科睿设备提供的卷对卷脉冲激光沉积系统的REBCO靶材（直径10英寸）是运行成本的主要组成部分，价格昂贵。传统“静态烧蚀”方式只在靶材固定区域刻蚀，利用率不足30%。该设备采用两项技术提升利用率：1，靶材旋转——沉积过程中靶材绕中心轴旋转，使激光均匀扫描环形区域；2，摆动编程——伺服电机驱动靶材在水平方向往复摆动，使激光刻蚀路径覆盖靶材表面更大面积。两者结合可将靶材利用率提升至50%以上。3，系统可实时监测激光能量和刻蚀状态，自动调整扫描参数，避免局部过度烧蚀。这些设计直接降低了带材生产的耗材成本。

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