PLD设备如何兼顾研发与生产两种不同需求？

科睿設備有限公司2026-05-26

这是该设备的设计理念之一。科睿设备提供的卷对卷脉冲激光沉积系统在研发模式下，用户可使用低速（如1-10米/小时）、单道、短带（米级）进行工艺开发，配合灵活的工艺参数调节窗口，探索不同温度、速度、气氛下的成膜规律。系统高精度的控制和数据记录功能确保实验可重复。在生产模式下，设备可切换到高速（100-500米/小时）、多道（5条并行）、长带（公里级）运行，利用稳定的温控、张力和真空系统保障产品一致性。用户无需购买研发和生产两台设备，同一平台可完成从工艺开发到小批量试制再到规模化生产的全链条任务。

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