广东德国BEAM光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米

2D材料加工：二维异质结的precise构筑，在石墨烯等2D材料研究中，Polos光刻机实现了异质结的高精度图案化。利用NWA-100的0.3μm分辨率，科研人员可在石墨烯表面刻制精密电极，构建二维晶体管。其非接触式曝光方式避免了对超薄材料的损伤，配合多种基材兼容特性，还可实现石墨烯与其他二维材料的precise叠层，为下一代柔性电子器件研发提供关键工具。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​纳 / 微机械：亚微米级结构加工，微型齿轮精度达 ±50nm，推动微机电系统创新。广东德国BEAM光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米

航空航天：微型传感器的可靠加工，航空航天领域对器件小型化与可靠性的高要求，使Polos设备成为理想选择。其加工的微型压力传感器，通过0.8μm精度的应变片图案设计，实现了0.01kPa的测量精度，且能耐受-50℃至150℃的极端温度。在卫星载荷研发中，科研人员利用Beam系列设备制作的微型天线，体积较传统产品缩小70%，信号接收灵敏度却提升25%，充分适配航天器的轻量化需求。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​广东德国BEAM光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米能源收集：微型压电收集器效率 35%，低频振动发电支持无源物联网。

在制备用于柔性显示的纳米压印模板时，Polos 光刻机的亚微米级定位精度（±50nm）确保了图案的均匀复制。某光电实验室使用该设备，在石英基底上刻制出周期 100nm 的柱透镜阵列，模板的图案保真度达 99.8%，边缘缺陷率低于 0.1%。基于此模板生产的柔性 OLED 背光模组，亮度均匀性提升至 98%，厚度减至 50μm，成功应用于下一代折叠屏手机，相关技术已授权给三家面板制造商。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。

细胞培养芯片需根据不同细胞类型设计表面微结构，传统光刻依赖掩模库，难以满足个性化需求。Polos 光刻机支持 STL 模型直接导入，某干细胞研究所在 24 小时内完成了神经干细胞三维培养支架的定制加工。其制造的微柱阵列间距可精确控制在 5-50μm，适配不同分化阶段的细胞黏附需求。实验显示，使用该支架的神经细胞轴突生长速度提升 30%，为神经再生机制研究提供了高效工具，相关技术已授权给生物芯片企业实现量产。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。用户案例broad：全球超500家科研机构采用，覆盖高校、研究所与企业实验室。

超表面通过纳米结构调控光场，传统电子束光刻成本高昂且效率低下。Polos光刻机的激光直写技术在石英基底上实现了亚波长量级的图案曝光，将超表面器件制备成本降低至传统方法的1/5。某光子学实验室利用该设备，研制出宽带消色差超表面透镜，在400-1000nm波长范围内成像误差小于5μm。其灵活的图案编辑功能还支持实时优化结构参数，使器件研发周期从数周缩短至24小时，推动超表面技术从理论走向集成光学应用。无掩模激光光刻(MLL)是一种微加工技术，用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件，开发出一款紧凑且经济高效的MLL系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成，操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小，非常适合研究实验室，并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域，为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。材料科学：超疏水表面纳米图案化，接触角 165°，防腐蚀性能增强 10 倍。广东德国BEAM光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米

Polos-BESM XL：加大加工幅面，满足中尺寸器件一次性成型需求。广东德国BEAM光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米

软件系统：操作门槛的大幅降低，Polos配套的控制软件简化了专业光刻操作，基于Windows系统的界面支持CAD文件与位图直接导入，导航逻辑类似CNC系统，无需专业编程知识即可上手。SFTprint软件的自动剂量测试功能，可根据光刻胶类型自动匹配曝光参数，新手也能获得稳定的加工效果。多层对准向导功能则将复杂的多层光刻流程拆解为步骤化操作，使非专业人员也能完成高精度叠加加工。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌，以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计，产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列，分辨率达 0.3-23μm，适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域，为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案，推动技术普惠。​广东德国BEAM光刻机基材厚度可达到0.1毫米至8毫米