软件系统:操作门槛的大幅降低,Polos配套的控制软件简化了专业光刻操作,基于Windows系统的界面支持CAD文件与位图直接导入,导航逻辑类似CNC系统,无需专业编程知识即可上手。SFTprint软件的自动剂量测试功能,可根据光刻胶类型自动匹配曝光参数,新手也能获得稳定的加工效果。多层对准向导功能则将复杂的多层光刻流程拆解为步骤化操作,使非专业人员也能完成高精度叠加加工。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌,以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计,产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列,分辨率达 0.3-23μm,适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域,为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案,推动技术普惠。科研成果转化:中科院利用同类技术制备跨尺度微盘阵列,研究细胞浸润机制。湖北PSP光刻机分辨率1.5微米

低成本桌面化光刻:SPS POLOS µ的科研普惠!Polos系列在微流体领域实现复杂3D流道结构的快速成型。例如,中科院理化所利用类似技术制备跨尺度微盘阵列,研究细胞浸润行为,为组织工程提供新策略3。Polos的高精度与灵活性支持仿生结构批量生产,推动医疗诊断芯片研发,如tumor筛查与药物递送系统的微型化64。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。天津德国POLOS光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸Polos-µPrinter 入选《半导体技术》年度创新产品,推动无掩模光刻技术普及。

2D材料加工:二维异质结的precise构筑,在石墨烯等2D材料研究中,Polos光刻机实现了异质结的高精度图案化。利用NWA-100的0.3μm分辨率,科研人员可在石墨烯表面刻制精密电极,构建二维晶体管。其非接触式曝光方式避免了对超薄材料的损伤,配合多种基材兼容特性,还可实现石墨烯与其他二维材料的precise叠层,为下一代柔性电子器件研发提供关键工具。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌,以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计,产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列,分辨率达 0.3-23μm,适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域,为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案,推动技术普惠。
在organ芯片研究中,模拟人体organ微环境需要微米级精度的三维结构。德国 Polos 光刻机凭借无掩模激光光刻技术,帮助科研团队在 PDMS 材料上构建出仿生血管网络与组织界面。某再生医学实验室使用 Polos 光刻机,成功制备出肝芯片微通道,其内皮细胞黏附率较传统方法提升 40%,且可通过软件实时调整通道曲率,precise模拟肝脏血流动力学。该技术缩短了organ芯片的研发周期,为药物肝毒性测试提供了更真实的体外模型,相关成果入选《自然・生物技术》年度创新技术案例。多材料兼容性:同步加工陶瓷 / PDMS / 金属,微流控芯片集成电极与通道一步成型。

单细胞分选需要复杂的流体动力学控制结构,传统光刻难以实现多尺度结构集成。Polos 光刻机的分层曝光功能,在同一片芯片上制备出 5μm 窄缝的细胞捕获区与 50μm 宽的废液通道,通道高度误差控制在 ±2% 以内。某细胞生物学实验室利用该芯片,将单细胞分选通量提升至 1000 个 / 秒,分选纯度达 98%,较传统流式细胞仪体积缩小 90%。该技术已应用于循环tumor细胞检测,使稀有细胞捕获效率提升 3 倍,相关设备进入临床验证阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。生物界面创新:微纳结构可控加工,为组织工程提供新型仿生材料解决方案。重庆德国PSP-POLOS光刻机分辨率1.5微米
高频元件验证:成功开发射频器件与IDC电容器,加速国产芯片产业链突破。湖北PSP光刻机分辨率1.5微米
材料科学:功能材料的可控组装,在功能材料领域,Polos光刻机为精确组装提供了技术保障。上海某化学研究所借助其光刻技术,成功制备多组分纳米纤维,实现了新能源器件的结构化设计。设备可在柔性基底上加工导电图案,为柔性电池、智能穿戴设备的研发奠定基础。其0.1μm的高重复性,确保了功能材料批量制备的一致性,加速科研成果向产业化转化。德国 Polos 是桌面级紫外激光直写光刻机领域benchmark品牌,以 “高精度、低成本、易操作” 为core定位。主打无掩模技术与紧凑设计,产品覆盖 NanoWriter、Beam 等系列,分辨率达 0.3-23μm,适配多基材加工。广泛应用于微电子、生物医学等领域,为科研机构与中小企业提供高性价比微纳加工解决方案,推动技术普惠。湖北PSP光刻机分辨率1.5微米
在tumor转移机制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻机构建了仿生tumor微环境芯片。通过无掩模激光光刻技术,在 PDMS 基底上制造出三维tumor血管网络与间质纤维化结构,其中血管直径可精确控制在 10-50μm。实验显示,该芯片模拟的tumor微环境中,tumor细胞迁移速度较传统二维培养提升 2.3 倍,且化疗药物渗透效率降低 40%,与临床数据高度吻合。该团队通过软件实时调整通道曲率和细胞外基质密度,成功复现了tumor细胞上皮 - 间质转化(EMT)过程,相关成果发表于《Cancer Research》,并被用于新型抗转移药物的筛选平台开发。全球产业链整合:德国精...