热压法能够有效增大光刻胶光栅的占宽比你,...
三氟乙酸在有机合成中得到广泛应用。它可以...
除了使用小分子作为金属氧化物配体的光刻胶...
近年来,随着EUV光源功率提高,制约EU...
2005年,IBM公司的Naulleau...
荷兰光刻研究中心的Castellanos...
加强光刻胶的机理研究,对新型光刻胶的设计...
光刻胶主要由主体材料、光敏材料、其他添加...
起初被广泛应用的化学放大型EUV光刻胶是...
感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光...
1999年,美国3M公司Kessel等率...
更高的分辨率和抗刻蚀性,合适的灵敏度,更...