等离子去胶机去除锑化铟红外探测器芯片上的光刻胶呢？

深圳市方瑞科技有限公司2026-06-18

InSb在氧等离子体中容易氧化脱锑，导致暗电流增大。方瑞科技采用纯氢气等离子体和低温工艺，以还原环境去除光刻胶，处理后表面XPS显示In/Sb比例不变，探测器探测率保持率99%。方瑞科技为红外探测器客户提供低损伤去胶方案。

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简介：专注于等离子设备的研发、生产和销售，服务于半导体、汽车、电子等多个行业，产品远销全球。

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