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等离子刻蚀机能否刻蚀氧化镓？

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深圳市方瑞科技有限公司2026-05-20

等离子刻蚀机可以刻蚀氧化镓，这是超宽禁带半导体材料。使用BCl₃/Ar或Cl₂/Ar气体体系，在高射频偏压下进行反应离子刻蚀。方瑞科技的PE-200刻蚀机对Ga₂O₃的刻蚀速率可达200-400 nm/min，侧壁光滑，对掩模选择比高。刻蚀后表面粗糙度低，适合功率器件台面隔离和沟槽蚀刻。方瑞科技提供Ga₂O₃刻蚀工艺开发服务。

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简介：专注于等离子设备的研发、生产和销售，服务于半导体、汽车、电子等多个行业，产品远销全球。
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联系人： 焦金萍

手   机： 15219492755

网   址： http://www.szfari.com

地   址：
广东省深圳市宝安区马田街道合水口社区第七工业区第三栋厂房A401
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