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等离子去胶机去除EUV光刻胶时如何避免纳米颗粒残留？

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深圳市方瑞科技有限公司2026-06-10

EUV光刻胶在去胶过程中易形成不挥发的金属纳米颗粒。方瑞科技的PD-200 RIE去胶机采用两步工艺：先用CF₄/O₂混合等离子体将金属有机胶转化为挥发性金属氟化物，再用纯氧等离子体碳骨架。配合高抽速分子泵和低温冷阱，可捕集颗粒物，去胶后晶圆表面颗粒数少于10颗/cm²。方瑞科技为先进逻辑节点客户提供颗粒检测服务。

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联系人： 焦金萍

手   机： 15219492755

网   址： http://www.szfari.com

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广东省深圳市宝安区马田街道合水口社区第七工业区第三栋厂房A401
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