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    本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种晶圆加热装置。背景技术：随着科技进步，晶片的加工工艺越来越复杂，要求在单位晶圆面积内制作的器件更多，致使晶圆内线路的宽度变得更窄，晶圆在热盘上加热时，对热盘温度的均匀性要求更高。晶圆加热中使用的热盘都是由上盘和压片中夹一块加热片，或是在上盘中埋入几个加热管构成，通过一个温度传感器和一个控制器控制热盘的温度。使得热盘表面温度并不均匀，不能满足高精度晶圆的加工需求。再如中国实用新型u所公开的一种电控晶圆加热盘，包括硅橡胶电热圈、热导金属板、晶圆托盘、电子显示盒和屏蔽罩。所述硅橡胶电热圈与热导金属板连接；所述热导金属板与电子显示盒连接；所述晶圆托盘放置在热导金属板上方，并与电子显示盒相连；所述的屏蔽罩与电子显示盒相连，该实用新型只使用一个电热圈，会出现加热不均匀的情况。技术实现要素：一、要解决的技术问题针对现有技术所存在的上述缺陷，现有的晶圆加热方法存在的均匀性不佳的问题。二、技术方案为解决上述问题，特提供一种晶圆加热装置，晶圆加热装置包括控制模块和多分区热盘，多分区热盘包括***分区和第二分区；***分区包括***加热模块和***温度检测模块。发热体设置在发光管的内部，且发热体以碳作为主要成分。MSA FACTORYPA6015-WP-PCC20A加热板代理

    为了保证测控精度，采用红外线温度测控模块作为温度测控模块。图1是本发明实施例的结构原理示意图；图2是未采用本发明技术方案的温度与时间关系示意图；图3为采用本发明技术方案的温度与时间关系示意图。具体实施例方式下面结合附图和实施例对本发明技术方案进一步说明如图1、图2和图3所示，本发明提供一种精确控温的高频加热装置，包括有对物件进行升温的高频机1，监测物件温度并反馈正比电压信号的美国雷泰红外线温度测控模块2和接收电压信号并控制高频机输出功率的信号调理模块3.采用上述精确控温高频加热装置的方法，包括如下步骤第一步，开始高频加热，高频机1满负荷加热升温，美国雷泰红外线温度测控模块2监测物件温度，当物件温度距目标温度80120°C时，改为动态功率加热；第二步，美国雷泰红外线温度测控模块2根据不同温度，反馈与温度成正比的电压值，信号调理模块3根据电压值的大小反比例调节高频机1的功率输出，使其越接近目标温度，输出功率越小；第三步，信号调理模块3动态调节高频机1的功率输出，物件温度保持在目标温度值的士5°C的范围内。本申请人在未采用上述高频加热温度控制装置及方法时，连续生产过程中测试分析数据。江苏PH132加热板而当使用多层加热桶时，则由于加热桶体积变大、结构变得复杂，因此生产成本增加。

    ***温度检测模块和第二检测模块均采用型号为pt1000的铂热电阻；***加热模块包括***功率继电器和***加热丝；第二加热模块包括第二功率继电器和第二加热丝；在本实施中，晶圆加热处于温度稳定阶段，并且将控制模块的温度稳定阶段的精度值设置为℃，本领域普通技术人员可根据实际需求设置该阶段的精度值。为了更好地解释本发明，假设***温度检测模块检测到的温度值为℃，第二温度检测模块检测到的温度值为℃，控制模块接收到上述两个温度值后，通过下述公式得到差值：差值＝|℃℃|＝℃控制模块将上述计算得到的差值与精度值进行比较，在本实施中，差值为℃，大于精度值℃；控制模块通过增大第二功率继电器的输出功率，提高第二加热丝的工作功率，直到***温度检测模块检测到的温度值和第二温度检测模块检测到的温度值之间的差值小于℃；当然本领域普通技术人员也可以通过减小***加热丝的工作功率，使得***温度检测模块检测到的温度值和第二温度检测模块检测到的温度值之间的差值小于℃。通过对热盘进行分区化的温度管理，使得热盘温度均匀，满足了高精度晶圆的加工需求。实施例2：本实施与实施例1的不同点是晶圆加热处于加热升温阶段，在该阶段控制模块的精度值设置为℃。

    本实用新型涉及等离子体cvd晶圆加热器的领域，尤其涉及一种等离子体cvd晶圆加热器用表面修磨装置。背景技术：随着半导体技术的不断飞速发展,单个芯片上所承载的晶体管数量以惊人的速度增长,与此同时,半导体制造商们出于节约成本的需要迫切地希望单个晶圆上能够容纳更多的芯片,这要求更加精细的制造工艺.一种常用的工艺是等离子体化学汽相淀积(pecvd).化学汽相淀积(pecvd)一般用来在半导体晶圆衬底上淀积薄膜,气体起反应在晶圆加热器表面形成一层材料；等离子体cvd晶圆加热器是半导体芯片加工的关键设备，起承载吸附晶圆及提供加热的作用,随着使用次数增加,晶圆在工艺过程中和等离子体cvd晶圆加热器表面接触,高温状态晶圆加热表面的铝材会被晶圆不停磨损,导致晶圆加热器表面平整度及吸附区域尺寸变差,吸附力下降,导致工艺无法正常完成,工艺结果变差。因此就需要将等离子体cvd晶圆加热器表面进行修复,保证表面的平整度和吸附区域尺寸,保证工艺正常进行；现有技术的修复方法是使用数控机床或手工进行修复,但是存在材料去除量较大，数控机床一次去除量为，导致晶圆加热器的可修磨次数少，使用成本高；另外晶圆加热器表面沟槽多、材料太软，导致不好控制表面平整度。实施方式所涉及的加热器具备发光管、发热体及反射膜。

    本发明半导体加工领域，尤其涉及一种晶圆加热器。背景技术：现有的晶圆加热设备，加热丝呈螺旋状从中心向**旋转，加热丝在热盘中的分布不够均匀，无法达到均匀加热的目的，无法满足晶圆的高精度加热，而高精度加热对半导体的工艺至关重要。如中国发明专利cna所公开的一种能够提高照射效率的加热器。实施方式所涉及的加热器具备发光管、发热体及反射膜。发光管呈筒状，且所述发光管透光。发热体设置在发光管的内部，且发热体以碳作为主要成分。反射膜设置在发光管的外周面，并对光进行反射。上述现有技术的晶圆加热器无法恒温的均匀加热。技术实现要素：一、要解决的技术问题本发明的目的是针对现有技术所存在的上述问题，特提供一种晶圆加热器，解决现有加热器无法恒温的均匀加热的问题。二、技术方案为解决上述技术问题，本发明提供一种晶圆加热器，包括：加热盘、底板和若干垫柱；加热盘上设有七个加热区域，分别为***加热区域、第二加热区域、第三加热区域、第四加热区域、第五加热区域、第六加热区域和第七加热区域；***加热区域设置于中心区域，第二加热区域和第三加热区域设置于***加热区域外圆周。信号调理模块根据电压值的大小反比例调节高频机的功率输出。上海 PA6015-PCC20A加热板

加热器支撑圆盘、研磨盘，晶圆加热器设置在加热器支撑圆盘和研磨盘之间。MSA FACTORYPA6015-WP-PCC20A加热板代理

    让冷水流过得到加热。但是，当使用一个加热桶时，由于加热桶体积大，因此加热注入于桶内的冷水所需的时间较长；而当使用多层加热桶时，则由于加热桶体积变大、结构变得复杂，因此生产成本增加。并且，加热桶内的流量按自然流速流动，速度非常慢，因此，在高温下加热器周围形成油脂或石灰石，从而降低热导率、缩短加热器的寿命、增大耗电率。如中国**cn。本发明提出了一种电磁感应加热单元结构，配合10kv高压电磁感应技术，使得综合效率大幅提高。技术实现要素：发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供一种电磁感应加热单元结构，解决电磁感应加热过程中电磁场泄漏的问题，保证加热管壁高效运行，无过热风险。技术方案：为实现上述目的，本发明采用的技术方案为：一种电磁感应加热单元结构，包括两端开口的中心加热筒，沿所述中心加热筒切向依次套装有内筒体和外筒体；所述内筒体与外筒体底部位于同一封闭平面，内筒体与外筒体之间形成倒u型辅助加热水套；所述外筒体顶端与中心加热筒顶端位于同一平面；所述中心加热筒与辅助加热水套连接处开有若干通孔；所述内筒体与中心加热筒之间均匀设置有线圈固定装置，沿所述线圈固定装置外侧螺旋绕装有线圈。MSA FACTORYPA6015-WP-PCC20A加热板代理

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