特种气体采用单独气源,多用点采用VMB或VMP分路供应,VMB或VMP采用支路气动阀,氮气吹扫,真空辅助排空等。由于系统气源总量大,多采用单独的气体房,单独的抽风系统除了简单的供气系统以外,特气房一般都单独于主场房而单独建设,其规划时需考虑建筑物的防火、泄爆、防火防爆间距、危险物的总量控制等。常规供气系统一般也采用多种气瓶柜共设在一个气体... 【查看详情】
在半导体工厂的建设过程中,大宗特气系统的建设周期与投资成本均占据较大比重。系统建设涉及设备采购、场地规划、管道铺设、安装调试等多个环节,每个环节都需要严格把控质量与进度。由于特气系统的专业性极强,建设过程中需要专业的设计团队、施工团队与监理团队协同配合,确保系统建设符合相关标准与规范。同时,系统建设还需充分考虑后期运维的便利性,合理规划设... 【查看详情】
特气管道系统特点特气系统中的每台设备均配有PLC控制、彩色触摸屏操作,带有温度、压力、烟雾、泄漏监控报警,并可扩展地震监控报警;单台设备可以独成系统单独运转,也可多台设备用PLC或TGO连起来组成大系统,在监控中心统一监控管理,其报警系统还可以与安监系统、消防系统对接。电子特种气体是光电子、微电子等领域,特别是超大规模集成电路、液晶显示器... 【查看详情】
通过GDS系统(气体检测报警系统)实现集实时监测、预警处理、远程控制、设备管理与一体,能够实现对厂区内危险气体泄漏实时监测并智能判断报警,支持声光报警、视频联动报警等多种报警效果。可有效预防企业安全事故的发生,实现生产过程气体泄漏与管理,保障企业安全生产。 监测惰性、可燃性、有毒性气体泄漏的监测控制系统。系统基于开放的系统结构,具备与其他... 【查看详情】
在集成电路芯片制造中,大宗特气系统的复杂性与代表性尤为突出。由于制程节点不断微缩,工艺步骤繁多,所需气体种类涵盖氮气、氢气、氧气、氩气以及特种气体如硅烷、氨气、六氟化钨等数十种。这些气体不*用量巨大,其纯度通常需达到99.999%乃至更高,任何细微污染都可能导致整批晶圆失效。因此,大宗特气系统通过集成纯化装置、实时监测与自动切换功能,构建... 【查看详情】
控制设备是特气管道系统的“大脑中枢”,以气体管理系统(GMS)为主,实现对全系统的实时监视与智能调控。GMS通过各类传感器实时采集储存、输送、分配各环节的压力、流量、温度、气体浓度等关键参数,将数据汇总至控制平台进行分析处理。当系统出现参数异常或气体泄漏等情况时,GMS可自动发出报警信号,并联动触发紧急切断、泄压、排风等应急措施,同时支持... 【查看详情】
废气处理特性半导体工艺中常使用的化学物质及其副产物,一般依照其化学特性与其不同的影响范围,可分为:1.易燃性气体如SiH4、H2等2.毒性气体如AsH3、PH3等3.腐蚀性气体如HF、HCl等4.温室效应气体如CF4、NF3等。由于以上四种气体对环境或人体皆具有一定的危害性,必须防止其直接排放大气中,所以,一般半导体厂都以加装大型废气处理... 【查看详情】