对高纯气体纯度要求不同的用气设备,宜采用分等级高纯气体输送系统;也可采用同等级输送系统,但是在纯度要求高的用气设备邻近处设末端气体提纯装置。为了检测高纯气体的纯度和杂质含量,输送系统除了设置必要的连续检测仪器,如衡量水含量或者氧杂质含量等分析仪外,还应设置定期取样用的检测采样口,以便按规定时间进行采样,分析高纯气体中各种杂质的含量。在亚微... 【查看详情】
气体纯化技术是大宗特气系统保障气体品质的主要技术之一。随着半导体工艺精度的不断提升,对气体中杂质的控制要求越来越严格,纯化系统需能够有效去除气体中的水分、氧气、金属杂质等各类有害杂质。目前常用的纯化技术包括吸附纯化、膜分离纯化、低温精馏纯化等,不同的纯化技术适用于不同类型的气体与杂质。系统会根据气体的特性与纯度要求,选用合适的纯化技术与设... 【查看详情】
储存设备作为特气管道系统的气源主,是保障气体稳定供应的基础环节,其主要设备为特气柜(GC)。特气柜的设计需具备多重安全防护功能,包括气体泄漏检测、自动紧急切断、压力监控与调节等,能够对储存过程中的风险进行实时预警与处置。针对不同特性的特种气体,特气柜还需进行个性化适配,例如为有毒气体配备吸附装置,为高压储存气体强化柜体耐压与密封性能,确保... 【查看详情】
工业集中供气系统是一种现代化集中供气,这种现代化的供气方法得到了社会普遍认可,它是一种将气源通过管路设计集中汇流到用气点的现代化供气设计;这种集中供气方式很大地提高了效益,降低了人力资源的消耗并且安全美观,气体输出更加的稳定流畅;适用于氧气、氩气、二氧化碳、氢气、乙炔、丙烷、液化石油气等各种气体的输送。这种集中供气与传统气瓶供气方式相... 【查看详情】
不同类型的半导体芯片生产,对大宗特气系统的配置需求存在明显差异。例如,逻辑芯片制造过程中,蚀刻工艺需大量使用含氟特气,系统需重点强化氟化物气体的安全防护与腐蚀控制;存储芯片生产则对沉积工艺用气体的纯度要求更高,需配备更精密的纯化系统。因此,大宗特气系统在设计之初,需充分结合具体的芯片生产工艺需求,进行个性化配置。通过与芯片制造企业深入沟通... 【查看详情】
大宗特气系统的技术基础源于大型气柜存储与分配技术的升级,其主要目标在于实现超大规模流量下的不间断供应。系统通常包含低温储罐、汽化器、减压装置、管网及控制系统等部分,通过智能化调度与多路径冗余设计,确保即使在某一环节故障时也能持续供气。这种设计大幅降低了因气体短缺或压力不稳导致的停产风险,尤其适合月产能数十万片以上的先进芯片厂,为其连续运转... 【查看详情】
集中供气系统与气瓶供气相比的优势1、杜绝气瓶留余压的浪费,降低用气成本。2、使用方便、操作简单,减少频繁换气瓶的繁琐劳动。3、液体密闭存储,储量大,质量稳定。4、排除了气瓶在使用和保管过程中的易发生的碰撞、气带磨损、安全间距等危险性。 工业集中供气系统是一种现代化集中供气,这种现代化的供气方法得到了社会普遍认可,它是一种将气源通... 【查看详情】
可燃/有毒气体探测器负责对生产现场的各种气体的检测,并将采集的气体浓度转换成模拟信号。数据采集模块将采集到的信号,以串行通讯的方式传送至GDS控制单元上,GDS控制单元根据检测值分别与各自的报警上/下限进行比较,当某个探测器检测到的浓度超过上限或低于下限时,GDS控制单元通过DO模块输出报警信号,开启声光报警器并开启或关闭相关设备。操作人... 【查看详情】
特气管道系统是指SiH4,NF3,Cl2易燃易爆的气体、有毒的气体、有腐蚀性的气体、纯度特别高(超过99.999%)的一些具有高危险性,应确保安全性的特气储存、输送与分配过程的设备、管道和部件的总称,特气系统工程是用于实现特气系统安全使用的工程。公司提供从供气系统;排气处理、监视系统的综合管理系统;建立以安全为首的特气管理输送系统。提供设... 【查看详情】