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高能脉冲磁控溅射技术的研发与应用是该研究所的重点方向之一。其开发的技术通过高脉冲峰值功率与低占空比的协同调控,实现了溅射金属离化率的 提升,并创新性地将脉冲电源与等离子体淹没离子注入沉积方法结合,形成...