PCD超精密精密制造

微泰，生产各种用于MLCC和半导体的精密真空板。工业真空盘由于其吸气孔较大，会对被吸物造成伤害，因此精密真空板的需求越来越大。薄膜等薄片型产品，如果孔较大，可能会造成产品损伤或压花。因此市场需求超精密多微孔真空板。微泰生产并为工业领域提供高精度真空板，这些板由Φ0.1到Φ0.03的微孔组成。半导体行业普遍使用陶瓷真空板，但由于其颗粒大，很难控制平面度及均匀的压力。客户对真空板的重要性日益凸显。其尺寸各不相同，均匀压力管理有所不同。但根据客户的需求，我们生产并提供了质量优、性能优的真空板，并提供平面度0.001um和Φ0.03um的真空板（吸膜板，吸附板）。微泰产品应用于半导体用真空卡盘、薄膜吸膜板，吸附板，倒装芯片键合真空块、MLCC堆叠VacuumPlate、MLCC印刷吸膜板。加工环境的洁净度对超精密加工至关重要，避免尘埃颗粒造成表面划伤。PCD超精密精密制造

精密加工被定义为对细节的要求格外费心的工业技术，且需要掌握各种各样的知识，像是测量、制造和控制等，才能准确操作。以下将用一张表格，让你更快了解精密加工与粗加工的差别：粗加工粗加工也能称为一般加工，与精密加工相比精度要求较不高，是普遍的加工方式，手法又可分为粗车、粗刨、粗铣、钻、毛锉等，会留下明显的加工痕迹，若要求美观产品会需要额外打磨处理。粗加工的应用范围广，不仅在工业领域中基本的组装零件会选择，在民生消费如五金行等地方贩售的螺丝、螺帽等也是粗加工的应用范围。<延伸阅读：车床加工怎么选？3大方向找到合适的合作伙伴！>精密加工精密加工是指在维持精细公差，并于工件上去除材料、精加工等过程。常见的有CNC车床、研磨加工、放电及线切割加工等，由于大部分都由程式输入数据后加工，误差低且又可以保持一定的生产速度；此外，透过精密加工产生出来的零件精细度高，不仅能提升产品的品质与耐用度，还能达到客制化的效果，为企业带来品牌辨识度。PCD超精密精密制造硬脆材料的超精密加工易产生裂纹，需采用特殊刀具与切削参数。

微泰以30年的技术和经验为基础，生产各种Cutter刀片和Blade刀具。对于MLCC及Film、二次电池等各种生产现场的切割处理，所需的刀片类不是单纯的切割，而是需要精密的进给度及切割边缘的角度管理、先进的材料管理等，以避免对被切割物造成损伤。通常，Cutter类被称为blade、cutter、knife、verticalblade、wheelcutter等多种名称，关键技术刀刃部的管理技术是Cutter类的重点技术点。为此，微泰提供了可靠、可靠的高精度、好品质、长寿命的各种刀片。超薄，超锋利的镜头切割器，光滑无毛边地切割塑料镜片的浇口，占韩国塑料镜头切割刀片90%以上的市场。

20世纪60年代为了适应核能、大规模集成电路、激光和航天等技术的需要而发展起来的精度极高的一种加工技术。到80年代初，其加工尺寸精度已可达10纳米（1纳米=0.001微米）级，表面粗糙度达1纳米，加工的小尺寸达1微米，正在向纳米级加工尺寸精度的目标前进。纳米级的超精密加工也称为纳米工艺(nano-technology)。超精密加工是处于发展中的跨学科综合技术。20世纪50年代至80年代为技术开创期。20世纪50年代末，出于航天等技术发展的需要，美国率先发展了超精密加工技术，开发了金刚石刀具超精密切削——单点金刚石切削(Singlepointdiamondturning，SPDT)技术，又称为“微英寸技术”，用于加工激光核聚变反射镜、战术导弹及载人飞船用球面、非球面大型零件等。超精密加工的自动化技术可提高加工稳定性，减少人为操作带来的误差。

微泰，采用先进的飞秒激光的高速螺旋钻削自主技术，进行半导体产业所需的各种形状的微孔加工，MIN可做到5微米的微孔，公差可做到±2微米，孔距可做到0.3微米。还可以进行MAX10度角的倒锥孔和各种几何形状的微孔，飞秒激光利用相对较短的激光脉冲，热损伤很小，加工对象没有物性变形层，表面平整，实现超精密微孔加工。MLCC层压的真空板相同区域内可加工不规则位置的孔；可以混合加工不规则尺寸，孔间距可达0.3μm；可加工多达800,000个孔，用于MLCC印刷吸膜板，MLCC叠层吸膜板，吸附板。半导体制造中的晶圆划片通过超精密加工实现高精度切割，提升芯片良率。PCD超精密精密制造

超精密加工技术的发展为人工智能、量子科技等领域提供了关键制造支撑。PCD超精密精密制造

通过介于工件和工具间的磨料及加工液，工件及研具作相互机械摩擦，使工件达到所要求的尺寸与精度的加工方法。对于金属和非金属工件都可以达到其他加工方法所不能达到的精度和表面粗糙度，被研磨表面的粗糙度Ra≤0.025µm，加工变质层很小，表面质量高。精密研磨的设备简单，主要用于平面、圆柱面、齿轮齿面及有密封要求的配偶件的加工，也可用于量规、量块、喷油嘴、阀体与阀芯的光整加工。但精密研磨的效率较低（如干研速度一般为10-30m/min，湿研速度为20-120m/min），对加工环境要求严格，如有大磨料或异物混入时，将使表面产生很难去除的划伤。抛光是利用机械、化学、电化学的方法对工件表面进行的一种微细加工，主要用来降低工件表面粗糙度，常用的方法有手工或机械抛光、超声波抛光、化学抛光、电化学抛光及电化学机械复合加工等。手工或机械抛光是用涂有磨膏的抛光器，在一定的压力下，与工件表面做相对运动，以实现对工件表面的光整加工，加工后工件表面粗糙度Ra≤0.05µm，可用于平面、柱面、曲面及模具型腔的抛光加工，手工抛光的加工效果与操作者的熟练程度有关。超声波抛光是利用工具端面做超声振动，通过磨料悬浮液对硬脆材料进行光整加工。PCD超精密精密制造