工业气体配比柜说明书

德国LT气体混配器：对于化工行业中，在一些不饱和树脂的生产工艺中，需要对化工原料仓储罐体或者反应釜内部，保持一个5-8%的含氧量。这2样可以维持材料的活性。一般可以采用O2+N2进行混合，也可以采用AIR+N2进行混合。德国LT的贫氧混配器大量应用于巴斯夫，孚宝,科思创，帝斯曼，毕克化学等众多世界化工巨头，稳定可靠的质量赢得了客户的一致好评和赞誉！ 洁净气体管道及机电项目服务中，上海慕共配套气体混配器保障气体洁净度与配比精度。工业气体配比柜说明书

科研实验室的高通量筛选、多批次平行实验等场景，对气体混配的效率与重复性要求极高，ZTGas 气体混配器通过智能化配方管理功能，大幅提升实验效率。设备支持 20 组自定义气体配方存储，科研人员可将常用的气体比例（如不同浓度的 CO₂-O₂-N₂混合气、惰性气体与反应气体配比等）预设存储，实验时通过触控屏一键调用，无需重复设置参数，避免人为操作误差。针对催化反应实验，可预设 5 组梯度浓度配方（如 1%、3%、5%、8%、10% 的反应物气体比例），实现自动化连续实验；生物培养实验则存储不同细胞类型的气体环境配方，如干细胞培养需 5% CO₂+95% 空气，厌氧菌培养则适配 100% 氮气配方。配比精度达 ±0.1%，确保多批次实验的气体环境一致性，提升实验数据的可重复性。配备 USB 数据导出功能，可记录每组实验的气体配比参数、运行时间等数据，便于实验报告整理与结果追溯。支持与实验室自动化平台（如 LabVIEW）对接，实现远程控制与配方同步更新，为高通量科研实验提供高效、规范的气体混配解决方案。实时监测气体混配器生产厂家上海慕共有限公司先后通过 ISO9001:2015、ISO14001:2015 以及 ISO45001:2018 体系认证。

在半导体行业，高纯度气体的精确配比是主要工艺环节之一，而德国 ZTGas 气体混配器凭借优良的抗腐蚀设计与智能控温系统，成为半导体企业的首要选择设备。半导体生产中使用的多种工艺气体（如氯气、氟化氢等）具有强腐蚀性，普通设备的管路与部件易被腐蚀，导致气体泄漏或污染，影响生产安全与产品质量。ZTGas 气体混配器的接触气体部件均采用哈氏合金、蒙乃尔合金等耐腐蚀性极强的材料，经过特殊钝化处理，可有效抵御强腐蚀气体的侵蚀，确保设备长期稳定运行。同时，该设备配备智能控温系统，通过高精度温度传感器实时监测设备内部温度，并自动调节加热或散热模块，将设备工作温度控制在良好范围，避免因温度波动影响气体密度与配比精度。此外，设备还具备气体纯度监测功能，可实时预警气体纯度异常，确保输入气体符合半导体生产的高纯度要求，为芯片制造提供洁净、稳定的混合气体。

德国LT气体混配器各型号压力参数按系列划分清晰，适配不同工况的压力需求。Smart型进口压力设定为12-25barg，出口压力范围2-9barg，满足常规低压用气场景；Comfort型进口压力保持12-25barg，出口压力拓展至2-22barg，可适配中高压生产需求。Advanced型无固定压力范围，支持按客户需求定制进出口压力，出口压力可高达8barg，能匹配精密制造等特殊压力要求的场景。所有型号在对应压力范围内运行时，压力波动不会影响混合比例稳定性，无需额外加装压力补偿装置，只需确保气源压力符合设备进口压力要求即可正常工作。ZTGas 多通路气体混配器支持多气体同时输入，适配氮气、二氧化碳等多种介质，安装维护简便。

半导体与电子制造行业对气体纯度与配比精度的严苛要求，使 ZTGas 气体混配器成为先进制程的重要支撑设备。该设备针对光刻、化学气相沉积（CVD）、离子注入等关键工艺，内置高效纯化柱（分子筛 + 金属有机框架材料），可将水分、氧气、碳氢化合物等杂质含量控制在 10ppb 以下，避免杂质影响薄膜生长或离子注入效果。依托高精度质量流量控制器（MFC）与闭环反馈系统，配比精度达 ±0.2%，24 小时波动不超过 ±0.05%，例如在 CVD 工艺中可稳定实现硅烷与氮气 1:99 的标准配比。设备严格符合 SEMI F47 标准，具备强抗电磁干扰能力，防止静电放电引发气体安全风险，适配 14nm 及以下先进制程芯片生产。针对硅烷、氨气、氟气等特种气体，采用耐腐蚀管路与无间隙密封设计，搭配前置干燥单元与过滤器，避免杂质堵塞 MFC 或管路腐蚀泄漏。其自动化联动功能可与半导体工厂生产系统无缝对接，实现混合气体供应的实时调控，为芯片制造的稳定性与良率提升提供关键保障。催化反应实验中，ZTGas气体混配器支持反应气体与载气精确配比，适配催化剂活性评价实验场景。小流量气体配比柜参数

气体混配器为食品饮料低温灌装场景定制，支持-20℃工况稳定运行，保障冷链食品气调保鲜一致性。工业气体配比柜说明书

ZTGas ZT 系列混配器采用电子版设计，支持远程参数监控与数据导出，混配精度优于 ±0.5%，流量覆盖 0-639Nm³/H，适配半导体生产的不同产能需求。搭配 Sensotec Rapidox 6100 分析仪，可满足工艺气体的纯度管控，分析仪压力量程覆盖 0.3-35bar，支持泵回采样模式，测量时间可灵活设定，能精确捕捉痕量杂质。该组合适配 - 10℃至 40℃的环境温度，混配器的宽流量范围与分析仪的高精度检测能力相结合，满足半导体生产从研发到量产的全流程气体管控需求。上海慕共实业提供设备选型与售后校准服务，确保组合方案符合半导体行业标准。工业气体配比柜说明书

上海慕共实业有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在上海市等地区的机械及行业设备中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，上海慕共实业供应携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！