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在晶圆制造过程中，制程偏差是导致良率损失的主要因素之一，其典型表现即为晶圆上Die的区域性集群失效。此类失效并非随机分布，而是呈现出与特定制程弱点紧密相关的空间模式，例如由光刻热点、CMP不均匀或热应力集中所导致的失效环、边缘带或局部区块。然而，一个更为隐蔽且严峻的挑战在于，在这些完全失效的Die周围，往往存在一个“受影响区”。该区域内的Die虽然未发生catastrophicfailure，其内部可能已产生参数漂移或轻微损伤，在常规的CP测试中，它们仍能满足规格下限而呈现出“Pass”的结果。这些潜在的“薄弱芯片”在初期测试中得以幸存，但其在后续封装应力或终端应用的严苛环境下，早期失效的风险将明细高于正常芯片。为了将这类“过测”的潜在失效品精确识别并剔除，避免其流出至客户端成为可靠性隐患，常规的良率分析已不足以应对。必须借助特定的空间识别算法，对晶圆测试图谱进行深度处理。

上海伟诺信息科技有限公司Mapping Over Ink功能提供精确的算法能够通过分析失效集群的空间分布与形态，智能地推断出工艺影响的波及范围，并据此将失效区周围一定范围内的“PassDie”也定义为高风险单元并予以剔除。这一操作是构建高可靠性产品质量防线中至关重要的一环。 Mapping Over Ink处理系统持续优化以适配先进制程需求，保持技术优势。湖南PAT平台

YMS（良率管理系统）的本质是将海量测试数据转化为精确的质量决策依据。系统兼容ETS88、J750、ASL1000、Chroma等主流Tester设备，自动解析stdf、csv、log、jdf等多种格式数据，完成端到端的数据治理。在此基础上，通过标准化数据库实现时间序列追踪与晶圆区域对比，例如发现某批次中心区域缺陷密度突增，可联动WAT参数判断是否为离子注入剂量漂移所致。SYL与SBL的自动计算功能为良率目标达成提供量化基准，而灵活报表工具支持一键导出PPT、Excel或PDF格式报告，减少手工整理负担。这种从原始数据到管理行动的无缝衔接，极大提升了质量团队的工作效能。上海伟诺信息科技有限公司专注于半导体行业软件研发，确保YMS功能紧贴实际生产需求。云南可视化MappingOverInk处理服务商Mapping Over Ink处理技术适用于消费类至车规级全品类芯片，覆盖广泛应用场景。

在半导体工厂高频率、多设备并行的测试环境中，人工处理异构数据极易延误问题响应。YMS系统通过自动化流程，实时汇聚来自STS8200、TR6850、ASL1000、MS7000等设备的多格式原始数据，完成统一解析与清洗，消除因格式差异导致的信息断层。结构化的数据库使良率数据可追溯、可比对，支持从批次到晶圆级别的精细监控。当某一批次良率骤降时，系统可迅速调取对应区域的缺陷热力图，并关联WAT、CP、FT参数变化，辅助工程师在数小时内锁定根本原因。SYL/SBL卡控功能则在指标超限时自动预警，防止不良品流入下一环节。周期性报表一键生成并支持多格式导出，满足从产线到高管的差异化信息需求。上海伟诺信息科技有限公司凭借对封测与制造场景的深入理解，持续优化YMS的数据驱动能力。

良率管理系统的价值不仅在于技术实现，更在于对半导体企业关键痛点的精确回应。当设计公司或制造工厂面临测试数据分散、格式混乱、分析滞后等问题时，YMS系统通过对接ETS364、SineTest、Juno、AMIDA、CTA8280、T861等设备，自动完成从数据采集到异常过滤的全流程治理。标准化数据库为多维度分析奠定基础，使时间趋势、区域对比、参数关联等洞察成为可能。例如，通过对比同一晶圆边缘与中心区域的良率差异，可判断光刻或刻蚀工艺的均匀性问题；结合FT与CP数据偏差，可追溯封装环节的潜在风险。SYL与SBL的自动计算功能，则为良率目标达成提供量化依据。报表系统支持灵活配置与多格式导出，明显降低管理沟通成本。上海伟诺信息科技有限公司以“以信为本，以质取胜”为准则，推动YMS成为国产半导体提质增效的可靠伙伴。DPAT模块动态调整阈值以适应批次差异，分场景优化测试限设定。

不同封测厂的设备组合、工艺路线和管理重点差异明显，标准化系统难以满足全部需求。YMS提供高度可定制的生产良率管理方案，可根据客户实际接入的Tester设备（如T861、STS8107、MS7000等）和数据结构，调整解析逻辑、分析维度与报表模板。例如，针对高频返工场景，可定制缺陷聚类规则；针对客户审计需求，可开发合规性报告模块。系统底层保持统一数据治理规范，上层应用则灵活适配业务流程，确保数据质量与使用效率兼顾。SYL/SBL自动计算与多格式报表导出功能，进一步提升质量闭环速度。这种“量体裁衣”式的服务模式，使系统真正融入客户日常运营。上海伟诺信息科技有限公司将定制开发视为价值共创过程，以技术灵活性支撑客户业务独特性。Mapping Over Ink处理推动封测环节向预测性质量演进，实现主动风险管理。湖北晶圆GDBC解决方案

Mapping Over Ink处理支持结果回溯，确保数据在供应链中无缝传递。湖南PAT平台

晶圆边缘区域良率持续偏低却难以定位原因，是工艺工程师常见的痛点。YMS系统在完成stdf、log等原始数据清洗后，依据晶圆空间坐标对缺陷进行分类，生成色彩渐变的热力图，直观呈现中心、过渡区与边缘的缺陷密度差异。用户可对比不同批次在同一区域的表现，识别是否为光刻对焦偏差或刻蚀均匀性问题所致。叠加时间维度后，还能判断该现象是偶发异常还是系统性漂移。这种空间+时间的双维分析，使优化措施从“整体调整”转向“精确干预”，明显提升工艺调试效率。上海伟诺信息科技有限公司基于半导体制造的实际需求，将YMS打造为缺陷定位的可视化利器。湖南PAT平台

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