金华线路板蚀刻液回用及提铜方法

蚀刻：将覆铜箔板表面由化学药水蚀刻去除不需要的铜导体，留下铜导体形成线路图形，这种减去法工艺是当前印制电路板加工的主流。蚀刻溶液： 目前是以氯化铜与盐酸的酸性氯化铜蚀刻液，及以氯化铜与氨水的碱性氯化铜蚀刻液为主流。蚀刻操作条件：蚀刻操作条件是对温度、压力、时间以及溶液浓度等工艺参数的控制，使蚀刻过程处于良好状态。蚀刻设备是围绕着生产效率、蚀刻速度和蚀刻均匀性而不断改进。目前主流是水平传送喷淋式。固定式：早期的设备是一个槽缸，存放蚀刻液后，将PCB板浸泡在里面。缺点：放板取板效率低；蚀刻效率低；无法做细线路，线条宽度/间距在0。5mm以上。蚀刻液中的含氨尾气回收利用装置,包括吸收塔本体,副槽以及药水循环组件。金华线路板蚀刻液回用及提铜方法

蚀刻液废水中含有大量的铜离子，对酸性蚀刻液废水末端处理时对废液需要采用电解处理将废液中的铜离子提出来，电解后得到的电清液直接中和排放，在对污泥进行处理时，需要重新配置酸性溶液倒入污泥中以及棕化液中，将其中的 铜离子释放出来，通过电解的方式提取出来，酸性电解液在配置这一过程中比较浪费水资源，在配置酸性溶液时也较为浪费原料。将电解后得到的电清液通入污泥稀释仓内，酸性电清液对污泥进行稀释，污泥内的铜离子可充分混入电清液内，避免对污泥电解处理时再次配置酸性溶液造成的原料浪费，在将稀释污泥时可将棕化液通入污泥内，同时对其进行稀释，稀释后的到的含有铜离子的废液重新通入电解罐内进行电解，电解后的电清液通入污泥内继续进行稀释，通过循环作用直至污泥内的铜离子含量排放达标。金华线路板蚀刻液回用及提铜方法蚀刻液容易再生与回收，从而减少污染。

一种蚀刻液循环再生及提铜装置及方法：该技术的基本原理是将印制线路板碱性蚀刻废液与酸性氯化铜蚀刻废液进行中和沉淀，生成的碱式氯化铜沉淀用于生产工业级硫酸铜；沉淀压滤母液用于生产碱性蚀刻液；其余废水经金属铝肩置换去除铜离子，进行蒸发浓缩生产混合铵盐。另将三氯化铁蚀刻废液投铁提铜后通入氯气并蒸发浓缩，生成三氯化铁回用于线路板蚀刻。该方法的缺点有以下几点:1.普遍采取分散运输、集中处理的方式，在运输过程中存在跑、冒、滴、漏的现象。据统计，运输损失达3%?5%，对环境造成了污染；2.均需要向废液里加入化学品，从而破坏了废液成分，无法循环使用；3.铜回收效率低，产品价值低，处理成本高，产生废水处理成本高。

蚀刻废液的处理法：目前通行的做法是，在各印制板厂内储存起来，放在密封的池子或储罐内等待外单位拉走处理。外单位一般是经当地环保部门审批过有资质的回收公司，他们把废液拉回去后，使用化学方法（中和法、电解法、置换法）回收废液内的铜，或提炼成硫酸铜产品。这些方法，工艺落后，铜回收不彻底，处理的经济效益不明显，有二次污染污染物排放。特别是碱性蚀刻，由于有大量的氨离子存在，一旦处理不当往外排放，势必对水体生态系统造成大的冲击。蚀刻液主要包括酸性蚀刻液和碱性蚀刻液。

碱性氯化铜蚀刻液：适用于图形电镀金属抗蚀层，如镀覆金、镍、锡铅合金，锡镍合金及锡的印制板的蚀刻。 蚀刻速率快，侧蚀小，溶铜能力高，蚀刻速率容易控制。蚀刻液可以连续再生循环使用，成本低。蚀刻过程中的主要化学反应：在氯化铜溶液中加入氨水，发生络合反应：CuCl2＋4NH3 →Cu(NH3)4Cl2在蚀刻过程中，板面上的铜被[Cu(NH3)4]2+络离子氧化，其蚀刻反应如下：Cu(NH3)4Cl2＋Cu →2Cu(NH3)2Cl所生成的[Cu(NH3)2]1+为Cu1+的络离子，不具有蚀刻能力。在有过量NH3和Cl-的情况下，能很快地被空气中的O2所氧化，生成具有蚀刻能力的[Cu(NH3)4]2+络离子，其再生反应如下：2Cu(NH3)2Cl＋2NH4Cl＋2NH3＋1/2 O2 →2Cu(NH3)4Cl2＋H2O从上述反应可看出，每蚀刻1克分子铜需要消耗2克分子氨和2克分子氯化铵。因此，在蚀刻过程中，随着铜的溶解，应不断补加氨水和氯化铵。蚀刻废液,使废蚀刻液经再生,回到生产回用,这样企业不再购买蚀刻子液。肇庆蚀刻液回用及提铜哪家便宜

蚀刻液的浓度，应根据金属腐蚀原理和铜箔的结构类型，通过试验方法确定浓度，它应有较大的选择余地。金华线路板蚀刻液回用及提铜方法

蚀刻液是什么?由氟化铵、草酸、硫酸钠、氢氟酸、硫酸、硫酸铵、甘油、水组成。氟化铵：分子式为NH4F，白色晶体，易潮解，易溶于水和甲醇，较难溶于乙醇，能升华，在蚀刻液中起腐蚀作用，一般选用工业产品。草酸：在蚀刻液中作还原剂使用，一般选用工业产品。硫酸钠：在蚀刻液中作为填充剂使用，一般选用工业产品。氢氟酸：即氟化氢的水溶液，为无色液体，能在空气中发烟，有强烈腐蚀性和毒性，能侵蚀玻璃，需贮存于铅制、蜡制或塑料容器中，可作为蚀刻玻璃的主要原料，一般选用工业品。金华线路板蚀刻液回用及提铜方法

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