赣州PCB蚀刻液回用及提铜

蚀刻液一般分为酸性蚀刻液和碱性蚀刻液两种。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。它的机理是：酸性蚀刻液具有蚀刻速率易控制,蚀刻液在稳定状态下能达到高的蚀刻质量的特性；同时，它的溶铜量大；酸性蚀刻液也较容易再生与回收，从而减少污染。有研究表明，酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻系数通常为3，以硝酸为基础的蚀刻系统可以做到几乎没有侧蚀，达到蚀刻的线条侧壁接近垂直，其蚀刻效果非常好。结合以上特性，酸性蚀刻液一般用于多层印制板的内层电路图形的制作或微波印制板阴板法直接蚀刻图形的制作。生物絮凝法是利用微生物或微生物产生的代谢物进行絮凝沉淀的一种除污方法。赣州PCB蚀刻液回用及提铜

在印刷线路板(pcb)的制造过程中，需要采用蚀刻液去除pcb板上的除线路以外的铜，该过程会产生蚀刻废液，蚀刻液主要包括酸性蚀刻液和碱性蚀刻液，其中，酸性蚀刻液因具有侧蚀小、速率易控制和易再生等特点而被普遍应用。在蚀刻过程中，随着蚀刻反应的进行，蚀刻液中的铜离子浓度、酸度、比重或亚铜离子浓度增加至一定值时，蚀刻液就不能保证快速且稳定地蚀刻铜箔，故需要在蚀刻过程中不断地补加再生子液来保证蚀刻液的稳定工作，然而现有再生回用系统中再生液回用率相对较低，且配制再生子液时需要加入大量的补加剂，才能保证再生子液的酸度、氯离子及氨氮值达标。赣州PCB蚀刻液回用及提铜碱性蚀刻液电解提铜系统主要能实现生产药水的循环使用，节省成本物料。

湿法蚀刻是将晶圆浸入合适的化学溶液中，或将化学溶液喷射到晶圆上进行淬火，通过溶液与被蚀刻物体的化学反应去除薄膜表面的原子，从而达到蚀刻的目的。进行湿法刻蚀时，溶液中的反应物首先通过停滞边界层扩散，然后到达晶片表面，发生化学反应，产生各种产物。蚀刻化学反应的产物是液相或气相产物，然后这些产物通过边界层扩散并溶解到主溶液中。湿法蚀刻不只会在垂直方向蚀刻，还会有水平蚀刻效果。干蚀刻是一种各向异性蚀刻，具有良好的方向性，但选择性比湿蚀刻差。在等离子体蚀刻中，等离子体是一种部分离解的气体，气体分子被离解成电子、离子和其他具有高化学活性的物质。干蚀刻大的优点是“各向异性蚀刻”。然而，（自由基）干蚀刻的选择性低于湿蚀刻。这是因为干蚀刻的蚀刻机理是物理相互作用；因此，离子的冲击不只可以去除蚀刻膜，还可以去除光刻胶掩模。

酸性氯化铜蚀刻液 1) 蚀刻机理： Cu+CuCl2→Cu2Cl2 Cu2Cl2+4Cl-→2(CuCl3)2- 2) 影响蚀刻速率的因素：影响蚀刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蚀刻液的温度等。Cl-含量的影响：溶液中氯离子浓度与蚀刻速率有着密切的关系，当盐酸浓度升高时，蚀刻时间减少。在含有6N的HCl溶液中蚀刻时间至少是在水溶液里的1/3，并且能够提高溶铜量。但是，盐酸浓度不可超过6N，高于6N盐酸的挥发量大且对设备腐蚀，并且随着酸浓度的增加，氯化铜的溶解度迅速降低。 添加Cl-可以提高蚀刻速率的原因是：在氯化铜溶液中发生铜的蚀刻反应时，生成的Cu2Cl2不易溶于水，则在铜的表面形成一层氯化亚铜膜，这种膜能够阻止反应的进一步进行。过量的Cl-能与Cu2Cl2络合形成可溶性的络离子(CuCl3)2-，从铜表面上溶解下来，从而提高了蚀刻速率。 碱性蚀刻液的蚀刻速率快(可达70μm/min以上),侧蚀小。

蚀刻液回收处理储罐材质选择及储存注意事项：蚀刻液储罐需储放于阴凉、通风的库房，远离火种、热源，库温不宜超过35℃。应与酸类、金属粉末等分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的储存容器。蚀刻液储罐发生泄漏时应迅速撤离泄漏污染区人员至安全区，并进行隔离，严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿防酸碱工作服。不要直接接触泄漏物，尽可能切断泄漏源；小量泄漏：用砂土、蛭石或其它惰性材料吸收，也可以用大量水冲洗，洗水稀释后放入废水系统。大量泄漏：构筑围堤收容。酸性蚀刻液主要成分氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵。深圳酸性蚀刻液回用及提铜多少钱

蚀刻液过程中应注意的问题：侧蚀严重影响印制导线的精度。赣州PCB蚀刻液回用及提铜

蚀刻液配制系统,包括:多个单酸贮池组,至少一个混合贮池,至少一个成品混酸贮池,至少一个蚀刻设备贮池,所述的蚀刻液配制系统还包括有:至少一个回收贮池,至少一个压滤机,至少一个过滤贮池,至少一个沉淀贮池组,至少一个废液贮池和至少一个废液池。本发明可对蚀刻废液进行回收利用,解决了蚀刻领域蚀刻废弃药液直接排放造成使用和处理成本过高等问题,降低了生产成本,而且也有利于环保。另外,本发明还配备浓度自动测定仪,混合贮池中设置有称重装置,可以自动完成配比,杜绝人为计算配比出现偏差,提高配制精度。赣州PCB蚀刻液回用及提铜

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