机器人的线性导轨需具备高耐磨、低摩擦与防腐蚀的特性,传统导轨表面处理易出现磨损导致运行精度下降,或摩擦系数过高影响运动效率。复合陶瓷纳米沉积技术针对这一需求,采用低摩擦耐磨涂层设计,摩擦系数低至 0.03-0.08,能减少导轨与滑块之间的摩擦损耗,提升运动效率;涂层硬度达 HRC60-70,耐磨性能突出,可延长导轨的使用寿命,减少维护频次...
查看详细 >>赛翡斯涂层的无磷特性,使其在表面处理过程中更具环保优势,同时避免了磷元素对环境与产品性能的潜在影响。传统的一些表面处理工艺会使用含磷化合物,这些物质不仅可能对水体、土壤等环境造成污染,还可能在涂层中残留,影响涂层的附着力、耐腐蚀性等性能。而赛翡斯涂层采用无磷超级钝化剂等环保材料,在生产过程中不会产生含磷污染物,对环境更加友好;同时,无磷配...
查看详细 >>赛翡斯涂层作为苏州赛翡斯新材料科技有限公司深耕轻金属表面处理领域的创新成果,以结构功能一体化技术为,为轻金属材料赋予了多重突破性性能。依托复合陶瓷纳米沉积等先进工艺,该涂层不仅能在轻金属表面形成致密且附着力极强的防护层,还实现了散热、防腐、绝缘、润滑四大功能的有机融合,彻底改变了传统轻金属表面处理功能单一的局限。无论是面对复杂工况下的腐蚀...
查看详细 >>无人机的控制系统电路板需具备防潮、防尘、防腐蚀与绝缘兼顾的特性,传统电路板表面处理易出现受潮短路、灰尘污染或腐蚀导致电路失效。复合陶瓷纳米沉积技术为电路板提供了防护方案,其制备的涂层具备优异的防潮性,能有效隔绝山区、沿海等环境中的水汽,防止电路板受潮短路;涂层致密度高,可阻挡灰尘颗粒侵入,保持电路板表面洁净;同时,涂层绝缘性能优异,绝缘电...
查看详细 >>在机器人行业,赛翡斯涂层的定制化优势得到了充分发挥。机器人的关节部件、外壳、传动结构等多采用轻金属材质,既要求具备轻量化以提升续航与灵活性,又需要应对频繁运动带来的摩擦损耗、复杂环境中的腐蚀风险以及电子元件的绝缘需求。赛翡斯涂层针对机器人不同部件的使用场景,可灵活调整配方与工艺参数,为关节部件提供优异的润滑性能,减少摩擦磨损,延长使用寿命...
查看详细 >>赛翡斯涂层的无磷特性,使其在表面处理过程中更具环保优势,同时避免了磷元素对环境与产品性能的潜在影响。传统的一些表面处理工艺会使用含磷化合物,这些物质不仅可能对水体、土壤等环境造成污染,还可能在涂层中残留,影响涂层的附着力、耐腐蚀性等性能。而赛翡斯涂层采用无磷超级钝化剂等环保材料,在生产过程中不会产生含磷污染物,对环境更加友好;同时,无磷配...
查看详细 >>电子半导体行业的高精度生产要求,对轻金属载具、治具、封装材料、引线框架等部件的表面性能提出了极高标准,赛翡斯涂层凭借改性能力适配了这一细分领域。电子半导体生产过程中,轻金属部件不仅需要具备极高的尺寸稳定性,还需抵御生产环境中的化学物质侵蚀,同时要保障导电性能稳定或具备特定的绝缘效果。赛翡斯涂层通过精细化的工艺控制,能够在不影响轻金属基材性...
查看详细 >>赛翡斯涂层的低能耗生产特性,符合现代产业节能降耗的发展要求,为企业降低生产成本、实现绿色发展提供了有力支持。传统表面处理工艺往往需要消耗大量的能源,如高温加热、长时间固化等,不仅增加了企业的生产成本,还带来了较高的碳排放。而赛翡斯涂层在生产过程中,通过优化配方与工艺设计,降低了生产过程中的能源消耗,如缩短固化时间、降低反应温度等,同时减少...
查看详细 >>赛翡斯涂层的技术创新,为轻金属材料的功能拓展提供了无限可能。随着科技的不断进步,各行业对轻金属材料的功能需求日益多元化,传统的表面处理技术已难以满足。赛翡斯涂层通过持续的技术创新,不断拓展其功能边界,除了的散热、防腐、绝缘、润滑功能外,还在抗静电、自清洁、生物相容性、抗紫外线等多个方面实现了突破。例如,针对电子行业需求开发抗静电涂层,针对...
查看详细 >>赛翡斯涂层技术在现代工业中扮演着至关重要的角色,在于通过先进的表面处理工艺赋予基础材料全新的性能维度。这项技术不是简单的表面覆盖,而是在微观层面上实现材料界面的优化与功能重组。对于轻金属而言,如铝合金、镁合金等,赛翡斯涂层能有效克服其表面硬度不足、易腐蚀、耐磨性差等先天弱点。通过在基材表面构筑一层由复合陶瓷纳米材料组成的致密防...
查看详细 >>航空航天领域的轻金属蒙皮需具备轻量化、高耐磨、防腐蚀与抗老化的特性,传统蒙皮表面处理易出现腐蚀、磨损导致气动性能下降,或老化开裂影响结构安全。复合陶瓷纳米沉积技术通过特殊复合陶瓷涂层配方,解决了这一行业痛点:涂层厚度为 5-10μm,对蒙皮重量影响微乎其微,适配航空航天轻量化需求;涂层硬度达 HRC60-70,耐磨性能优异,能减少飞行过程...
查看详细 >>电子半导体的光刻设备部件对表面精度与洁净度要求极高,传统表面处理易产生颗粒残留或表面粗糙度超标,影响光刻精度。复合陶瓷纳米沉积技术针对这一严苛需求,采用高纯度陶瓷粉末与超洁净沉积工艺,制备的涂层表面粗糙度 Ra≤0.05μm,无颗粒残留,能满足光刻设备的洁净度要求;同时涂层硬度达 HRC60-70,耐磨性能优异,可减少设备运行过程中的磨损...
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