在桥梁、隧道等大型基础设施的结构健康监测中,光纤测温技术可辅助判断结构的应力状态和损伤情况。温度变化是影响桥梁、隧道结构变形的重要因素,例如混凝土桥梁在温度梯度作用下会产生收缩或膨胀,长期反复会导致裂缝产生;隧道衬砌的温度异常可能反映结构背后的围岩稳定性问题。分布式光纤测温系统可沿桥梁主梁、桥墩、隧道衬砌布设光纤,实现对结构温度场的连续监...
查看详细 >>光纤测温技术在医疗领域的应用日益频繁,为医疗设备运行和诊疗环境提供了精细的温度监测保障。在核磁共振(MRI)、CT 等大型医疗设备中,设备运行时会产生大量热量,且存在强磁场环境,传统金属测温元件会受磁场干扰,而光纤的非磁性、抗电磁干扰特性可精细监测设备主要点部件的温度,避免因过热导致设备故障;在手术室中,光纤可监测手术器械的灭菌温度、麻醉...
查看详细 >>对于需要长期连续监测的场景(如电力设备运维、工业生产过程监控),光纤测温系统的稳定性与长期运行性能至关重要。光纤本身具有较好的物理稳定性,其传输特性和温度敏感系数在长期使用中变化极小,使用寿命可达到 20 年以上,远超过传统测温元件的 3~5 年寿命。系统硬件方面,激光发射器采用高稳定性半导体激光器,光探测器采用低噪声雪崩光电二极管,主要...
查看详细 >>随着数据中心算力的不断提升,服务器、交换机等设备的散热压力日益增大,光纤测温技术为机房温度精细控制提供了高效解决方案。数据中心机房内设备密集,发热量大,局部热点易导致设备宕机,影响数据安全。分布式光纤测温系统可采用贴近式部署,将光纤传感器直接敷设在服务器机柜内部、UPS 电源模块、电缆桥架等关键部位,实时监测各设备的运行温度,测量精度达 ...
查看详细 >>在油气长输管道领域,光纤测温技术有效解决了传统监测方式覆盖不足、响应滞后的难题。油气管道多穿越沙漠、山区、海底等复杂地形,面临泄漏、腐蚀、第三方破坏等风险,而温度异常是泄漏事故的重要特征 —— 原油或天然气泄漏后会与周围环境发生热交换,导致局部温度明显变化。分布式光纤测温系统可与管道同沟敷设,实现全程无死角监测,单根光纤测量距离可达 10...
查看详细 >>在高压设备监测场景(如高压输电线路、变电站设备、电力电缆)中,光纤测温技术的绝缘特性使其具备不可替代的优势。传统测温元件(如热电偶、铂电阻)需要金属导线连接,在高压环境中容易产生电磁感应、漏电等安全隐患,且测量信号会受到强电场、强磁场的严重干扰,导致测温数据失真。而光纤测温系统采用绝缘的光纤作为信号传输介质,不导电、不辐射电磁信号,既不会...
查看详细 >>在冷链物流领域,光纤测温技术为食品、药品等温控物资的运输和存储提供了全程温度追溯保障。冷链物资(如生鲜食品、疫苗、生物制剂)对温度波动极为敏感,需维持在 - 20℃~8℃的恒定温度范围,温度超标会导致物资变质失效。分布式光纤测温系统可在冷藏车、集装箱、冷库内部布设光纤传感器,实现对车厢或库房内多个点位的同步温度监测,数据采样间隔可低至秒级...
查看详细 >>在长期运行的监测系统,功耗是重要的考量因素,光纤测温系统凭借其低功耗特性具备明显的节能优势。光纤测温系统的主要点功耗部件包括激光发射器、光探测器和信号处理模块,其中激光发射器采用低功耗半导体激光器,工作电流只为几十毫安,光探测器和信号处理模块采用低功耗芯片设计,整个系统的待机功耗可控制在几瓦以内,工作功耗也不超过 20 瓦。相较于传统测温...
查看详细 >>半导体制造过程对温度精度要求极高,光纤测温技术为光刻、蚀刻、薄膜沉积等关键工艺提供了精细的温度监测保障。在光刻工艺中,晶圆的温度均匀性直接影响光刻图案的精度,温度偏差超过 ±0.1℃就可能导致芯片报废;在薄膜沉积过程中,反应腔室的温度稳定性决定了薄膜的厚度均匀性和电学性能。光纤测温系统采用微纳光纤探头,可精细部署在反应腔室内部、晶圆承载台...
查看详细 >>随着光电子技术、信号处理技术的不断进步,光纤测温技术的精度和性能持续提升,呈现出明显的发展趋势。在传感原理方面,从早期的瑞利散射、拉曼散射,逐步发展出布里渊散射测温技术,布里渊散射信号的温度敏感性更高,且受光纤损耗影响更小,使测量距离和精度得到双重提升,目前基于布里渊散射的光纤测温系统测量距离已突破 200km,精度达到 ±0.3℃。在硬...
查看详细 >>光纤测温技术突破了传统点式测温的局限,具备多测点同步监测的能力,这一特性源于其分布式传感的本质。一根光纤即可实现沿线路所有点位的温度监测,测点数量理论上不受限制,只取决于系统的信号采样频率和数据处理能力。主流分布式光纤测温系统的采样点数可达到每公里 1000 个以上,一根 10km 长的光纤即可实现 10000 个测点的同步监测,且所有测...
查看详细 >>半导体制造过程对温度精度要求极高,光纤测温技术为光刻、蚀刻、薄膜沉积等关键工艺提供了精细的温度监测保障。在光刻工艺中,晶圆的温度均匀性直接影响光刻图案的精度,温度偏差超过 ±0.1℃就可能导致芯片报废;在薄膜沉积过程中,反应腔室的温度稳定性决定了薄膜的厚度均匀性和电学性能。光纤测温系统采用微纳光纤探头,可精细部署在反应腔室内部、晶圆承载台...
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