分析纯高氯酸钾商家
电子工业对材料纯度与性能稳定性要求极高，高氯酸钾凭借可控的氧化特性，成为半导体制造、电路板加工的关键材料。在半导体晶圆清洗中，它作为氧化剂去除硅片表面的有机污染物，使颗粒残留量＜5 个 / 平方厘米，满足 12 英寸晶圆的超净工艺要求。电路板蚀刻环节，高氯酸钾与盐酸组成的蚀刻液对铜箔的蚀刻速率稳定在 20-25μm/min，线宽精度控制在 ±5μm，适配 5G 高频电路板的微孔加工。某电子元件厂使用后，PCB 蚀刻废品率从 7% 降至 1.2%，生产效率提升 30%。
百顺兴新材料供...
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