微泰半导体闸阀具有诸多特点:其阀门驱动部分的所有滚子和轴承都经过精心防护处理,形成屏蔽和保护环(Shield Blocker 和 Protection Ring),通过三重预防方式有效切断粉末(Powder),从而延长阀门驱动及使用寿命。该闸阀采用的三重预防驱动方式中的 Shield 功能,能够出色地防止气体和粉末侵入阀体内部,同时具备三...
查看详细 >>微泰,三(多)位闸阀、三位闸阀、多位闸阀应用于• 蒸发•溅射• Diamond growth by MW-PACVD• PECV• PVD• 涂层• 蚀刻• 扩散•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。其特点是*3个位置功能-阀门打开,阀门关闭,第3位置*设备可通过连接到阀门的9 Pin D-Sub来读取阀门状态*手动和气动阀...
查看详细 >>专门从事 K 半导体材料和零件! 微泰,专业制造半导体设备中的精密元件,包括半导体晶圆真空卡盘、半导体孔卡盘和半导体流量计,并在自己的研发技术实验室帮助提高产品质量和技术开发。 积极参与公司和国家研究支持项目,帮助实现零件本地化,并建立了系统的质量控制和检测系统,以及战略性集成的制造基础设施。我们为客户快速提供品质好、有竞争力的产品。与...
查看详细 >>微泰导电树脂,微泰晶圆树脂是碳纳米管复合材料,韩国微泰自主研发的绝缘散热树脂,其独特之处在于碳纳米管(CNT)被精确地嵌入金属铝中,再巧妙地融合高分子聚合物而成。其技术的亮点在于,通过控制碳纳米管在金属铝中的嵌入程度,赋予了材料多样的功能特性:部分嵌入时,材料展现出优异的导电性能,性能媲美金属;适中嵌入时,可作为润滑涂层使用;而完全嵌...
查看详细 >>客户可以信赖的超精密 K 半导体材料和元件的加工品牌,微泰,将客户满意度放在中心半导体晶圆真空卡盘、半导体孔卡盘和半导体流量计。 专业制造半导体设备的精密组件,包括半导体液位传感器(ODM/OEM)。处理无氧铜等特殊材料半导体设备,以及精密零件制造。为模件装配提供解决方案。精密零件加工方面,对于特殊材料,精密加工急件、具有快速服务及应急响...
查看详细 >>微泰高散热基板,它是碳纳米管与复合绝缘材料组成,将CNT嵌入氧化铝粉末颗粒并与高分子材料混合,形成。韩国微泰自主技术研发的另一种新的PCB绝缘材料。特点:很好的散热、低热膨胀、强度大、耐腐蚀、出色绝缘及低介电损耗。避免静电产生,解决PCB散热及静电噪声问题。微泰散热基板是碳纳米管复合材料半固化片与铜板经热压制成CCL,散热性能优于MCCL...
查看详细 >>微泰高散热基板它是碳纳米管复合绝缘材料,其独特之处在于将碳纳米管(CNT)巧妙地嵌入氧化铝粉末颗粒中,并与高分子材料混合,该材料还避免了静电的产生,从而有效解决了PCB散热问题以及因静电产生的静电噪声问题。进一步地,碳纳米管复合材料半固化片与铜板经过热压处理,制成覆铜板,其散热性能远胜于MCCL和陶瓷基板。利用这种半固化片制作的CCL...
查看详细 >>微泰高散热基板特点:1.高散热性,散热性远超铝基板。2.耐电压,做成电路板后都可耐42kV高压。3.强度大,且容易实现基板薄片化。4.轻量化设计,其比重为1.9(铝比重为2.7单位),有效降低了材料重量。5.提高PCB的生产性,降低工程费用,无需贴保护膜,且避免了蚀刻工艺上的金属腐蚀和污染问题,减少了后加工需求。6.解决了铝的表面处理、保...
查看详细 >>微泰耐高温基板,耐电压基板,高温耐电压基板它是碳纳米管CNT插入氧化铝粉末颗粒里后与高分子材料混合而成,韩国微泰研发出来的新型耐电压高散热基板,其特点是散热性能好,耐高温可达700度,耐电压,在做好线路板的情况下可耐42千伏电压。在高温下也可以耐电压,解决了小家电加热厂家的高温耐电压困扰。热膨胀率低,强度大,耐腐蚀,绝缘性能好,不产生静电...
查看详细 >>微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,这里介绍一下阀门控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遥控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,开放/关闭速度LCD显示;2,当阀门或泵错误时,灯点亮:3,自动关闭功能...
查看详细 >>焚泰医废处理设备,焚泰医疗垃圾焚烧炉、医疗垃圾处理炉,日韩技术,采用了独有的高温多段分解自主技术,首先能使炉温达到高温,MAX可达1250度,一般焚烧炉达不到这个温度 大概在400度左右,2016年韩国检测部门现场直接连接排放口,处理工业废弃物,收集废气检测,各项指标都达到了国际排放标准。2020年11月国内机构也做了检测,均达到国家...
查看详细 >>微泰,屏蔽闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• 溅射• Diamond growth by MW-PACVD• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)• Coating(涂层)• Etch• Diffusion•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。其特点是*阀体和阻断器之间的间隙小于1mm*...
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