captive bubble 法的典型应用场景包括：多孔材料（如陶瓷膜、过滤膜）的润湿性能检测，因这类材料会吸收液滴导致 sessile drop 法无法形成稳定液滴，而悬泡法可在液体环境中避免样品吸水；透明薄膜的两面润湿性能对比，将薄膜浸没后在两侧分别产生气泡，可同时测量两面的接触角，评估薄膜的双面改性效果；粉末压片的润湿性能检测，粉末... 【查看详情】

RPS远程等离子源在医疗设备制造中的卫生标准：医疗设备（如植入物或手术工具）需要极高的清洁度和生物相容性。RPS远程等离子源能够彻底去除有机残留物和微生物污染物，满足严格的卫生标准。其非接触式过程避免了二次污染，确保了设备的安全性。例如，在钛合金植入物制造中，RPS远程等离子源可用于表面活化，促进细胞附着。同时，其在低温下操作的能力使其适... 【查看详情】

随着3D NAND堆叠层数突破500层，深孔刻蚀后的残留物清洗成为技术瓶颈。RPS远程等离子源利用其优异的自由基扩散能力，可有效清理 深宽比超过60:1结构底部的聚合物残留。通过优化远程等离子体参数，在保持刻蚀选择比大于100:1的同时，将晶圆损伤深度控制在2nm以内。某存储芯片制造商在引入RPS远程等离子源后，将深孔清洗工序的良品率从8... 【查看详情】

氮化镓（GaN）作为第三代半导体材料，具备宽禁带、高击穿电场、高电子迁移率等特性，广泛应用于高频功率器件、光电子器件，其制造中退火对温度精度要求极高，晟鼎精密 RTP 快速退火炉凭借 ±1℃控温精度与快速热加工能力，成为 GaN 器件制造理想设备。在 GaN 基 HEMT（高电子迁移率晶体管）器件制造中，需对 AlGaN/GaN 异质结退... 【查看详情】

RPS远程等离子源在先进封装中的解决方案针对2.5D/3D封装中的硅通孔（TSV）工艺，RPS远程等离子源提供了完整的清洗方案。在深硅刻蚀后，采用SF6/O2远程等离子体去除侧壁钝化层，同时保持铜导线的完整性。在芯片堆叠键合前，通过H2/N2远程等离子体处理，将晶圆表面氧含量降至0.5at%以下，明显 改善了铜-铜键合强度。某封测厂应用数... 【查看详情】

便携式接触角测量仪采用视频外观轮廓分析方法,测量液体与固体之间的接触角,测量固体表面能.对于一些超大玻璃，触摸屏检测，或者是需要外带接触角工作的场景，便携式接触角没理仪非常好的满意用户的需求。产品特点:体积小,重量轻,可手持测量超大平面产品。考虑周到的结构，以确保实际适用性2、光学和微型机械创新结合了速度和高分辨率，用作实验室仪器控制的测... 【查看详情】

接触角测量仪由五大部分组成：控制系统、样品平台、滴液系统、视频采集系统和分析系统。接触角测量仪产品原理：通过光学外观投影的原理，对液体与固体样品的轮廓进行分析。接触角测量仪四大分析功能：接触角：主要针对气液固三相之间的能量测量，测量方式：座滴法、插板法、纤维测量法等；表界面张力：主要针对气液之间的能量测量，测量方式：悬滴法。测量固体表面的... 【查看详情】

晟鼎精密的水滴角的测试方法主要是有几种：宽高法，圆法，椭圆法，微分圆法，微分椭圆法。测值更为直接准确的是晟鼎精密自主研发的微分圆法，微分椭圆法.水滴角测试方法的原理主要是将液滴滴到固体表面，通过显微镜头与相机获得液滴的外形图像.再运用数字图像处理和一些算法将图像中的液滴的接触角计算出来.其中涉及到的计算方法主要是基于某数学模型如液滴可视为... 【查看详情】

RPS远程等离子源在功率器件制造中的可靠性提升：功率器件（如GaN或SiC半导体）对界面质量极为敏感。污染会导致漏电流或击穿电压下降。RPS远程等离子源提供了一种温和的清洁方法，去除表面氧化物和金属杂质，而不引入缺陷。其均匀的处理确保了整个晶圆上的电性能一致性。在高温工艺中，RPS远程等离子源还能用于钝化层沉积前的表面准备。随着电动汽车和... 【查看详情】

RPS远程等离子源在超表面制造中的精密加工在光学超表面制造中，RPS远程等离子源通过SF6/C4F8远程等离子体刻蚀氮化硅纳米柱，将尺寸偏差控制在±2nm以内。通过优化刻蚀选择比，将深宽比提升至20:1，使超表面工作效率达到80%。实验结果显示，经RPS远程等离子源加工的超透镜，数值孔径达0.9，衍射极限分辨率优于200nm。RPS远程等... 【查看详情】

RPS远程等离子源在航空航天领域的应用：航空航天组件常使用高温合金或复合材料，其制造过程需要高精度清洁。RPS远程等离子源能够去除油脂、氧化物或其他污染物，确保涂层或粘接的可靠性。在涡轮叶片涂层沉积前，使用RPS远程等离子源进行表面处理，可以提升涂层的附着力和耐久性。其低损伤特性保护了精密部件，避免了疲劳寿命的降低。随着航空航天标准日益严... 【查看详情】

金刚石薄膜具备超高硬度、优异导热性、良好电学绝缘性，广泛应用于刀具涂层、热沉材料、电子器件领域，其制备中退火对温度精度要求严苛，晟鼎精密 RTP 快速退火炉凭借高温稳定性与精细控温能力，在金刚石薄膜制备中发挥重要作用。在 CVD（化学气相沉积）金刚石薄膜后续退火中，需去除薄膜中非金刚石相（石墨相）、缺陷与残留应力，提升纯度与结晶质量。传统... 【查看详情】