晶片湿法设备是用于半导体制造过程中的一种设备,主要用于在晶圆表面进行化学处理和清洗。它的主要组成部分包括以下几个部分:1.反应室:反应室是晶片湿法设备的主要部分,用于容纳晶圆并进行化学反应。反应室通常由耐腐蚀材料制成,如石英或特殊合金,以防止化学物质对设备的腐蚀。2.液体供给系统:液体供给系统用于提供各种化学液体,如酸、碱、溶剂等,用于晶... 【查看详情】
在湿法设备中,压力是一个重要的参数,它会直接影响到处理效果。压力的变化会对湿法设备的操作和处理效果产生以下影响:1.液体分散性:较高的压力可以增加液体的分散性,使得处理液更加均匀地分布在物料表面上。这有助于提高处理效果,确保物料能够充分接触到处理液。2.渗透性:较高的压力可以增加处理液在物料中的渗透性,使得处理液能够更深入地渗透到物料内部... 【查看详情】
湿法设备在处理过程中,可以通过以下几种方式来控制液体介质的流量:1.阀门控制:通过调节阀门的开度来控制液体介质的流量。可以使用手动阀门或自动控制阀门,根据需要进行调节。2.泵控制:通过调节泵的转速或出口阀门的开度来控制液体介质的流量。可以使用变频器或调节阀门的方式来实现。3.流量计控制:安装流量计来监测液体介质的流量,并通过反馈信号来控制... 【查看详情】
光伏电池湿法设备是一种用于制造太阳能电池的工艺设备,其优点如下:1.高效能转化:光伏电池湿法设备采用了高效的化学反应和电化学过程,能够将太阳能光线转化为电能的效率更大化。2.成本低廉:相比于其他制造太阳能电池的工艺,光伏电池湿法设备的成本相对较低。湿法工艺使用的原材料成本较低,并且设备本身的制造和维护成本也相对较低。3.生产规模可控:光伏... 【查看详情】
电镀铜的电流效率是指在电镀过程中,实际沉积在工件表面的铜质量与理论上应沉积的铜质量之比。电流效率的计算公式为:电流效率=实际沉积铜质量/理论沉积铜质量×100%其中,实际沉积铜质量可以通过称量电镀前后工件的重量差来计算,而理论沉积铜质量则可以通过法拉第电解定律来计算。法拉第电解定律表明,在相同的电流密度下,电解质量与电流时间成正比,与电解... 【查看详情】
湿法是一种工业生产过程中常用的一种方法,它主要用于提取、分离或处理物质中的溶解性成分。湿法通常涉及将物质与液体(通常是水)接触,以便通过溶解、反应或其他化学过程来实现目标。湿法在许多领域中都有广泛的应用。例如,在冶金工业中,湿法被用于从矿石中提取金属。这包括浸出、溶解、萃取等过程,通过将矿石与溶剂接触,使金属溶解在溶液中,然后通过进一步的... 【查看详情】
电镀铜设备工艺的光伏电池片产能:当前PERC生产成本相对较低,且由于具备更高效率的N型电池,如TOPCon、HJT、IBC出现,我们认为未来PERC电池会被逐步替代,PERC电池不具有采用电镀铜工艺的必要性。N型电池作为新技术路线,降本是其规模化发展逻辑,电镀铜工艺作为降本增效的技术,为其降本可选技术路线之一。根据CPIA对各类电池技术市... 【查看详情】
铜电镀工艺流程:种子层沉积—图形化—电镀—后处理,光伏电镀铜工艺流程主要包括种子层沉积、图形化、电镀及后处理四大环节,目前各环节技术路线不一,多种组合工艺方案并行,需要综合性能、成本来选择合适的工艺路线。(1)种子层沉积:异质结电池表面沉积有透明导电薄膜(TCO)作为导电层、减反射层,由于铜在TCO层上的附着性较差,两者间为物理接触,附着... 【查看详情】