电路正常运行。如：TVS管保护是靠击穿，击穿后相当于短路，一般承受电流能力大；ESD是电容放电加钳位，过电流能力不强。TVS的开启电压较高，动作时间也太慢，无法单独满足ESD保护的需要。ESD主要用于板级保护，TVS一般用于初级和次级保护。问：哪些接口需要做防雷接口？-----一般有通信的接口，网络接口，CAN总线接口，视频接口等等。答：...

因氧化层开设有防水凹槽，即便环境中存在水汽，水汽在侵入时也会聚集在防水槽1031，不会进入到肖特基结，进一步确保肖特基二极管不会失效。在本申请实施例的一种可能的实施方式中，衬底101和外延层102可以为n型半导体层，半导体环104可以为p型半导体环。在本申请实施例的另一种可能的实施方式中，衬底101和外延层102可以为p型半导体层，半导体...

没有水流流过。上海衡丽图3二极管的类比以及IV曲线以上，右图是二极管为重要的IV曲线，基本上用到所有的二极管都需要重点开此图，从上图可以清楚看出，不管二极管的正向电流或者反向电压都不能超过额定值，否则会损坏。2.整流二极管利用二极管单向导电性，可以把方向交替变化的交流电变换成单一方向的脉动直流电。图4AC/DC转换电路简图3.续流二极管在...

还是快管?RCD电路常用于一些需要钳位的场合，比如flyback原边MOS的电压钳位，次级整流管的电压钳位。有些技术文献说应该用慢恢复管，理由是慢恢复管由于其反向恢复时间比较长，这样钳位电容中的一部分能量会在二极管反向恢复过程中回馈给电路，这样整个RCD电路的损耗可以降低。不过这个只适合小电流，低di/dt的场合。比如小功率flyback...

2020年销量将达到140万辆，2025年突破550万辆。作为与新能源汽车高度相关的互补品，充电桩进一步推动了功率半导体市场的进一步扩大。目前充电桩的功率模块有两种解决方案，一是采用MOSFET芯片，另一种是采用IGBT芯片。其中IGBT适用于1000V以上、350A以上的大功率直流快充，其成本可达充电桩总成本的20-30%;当下基于充电...

13.什么是碳化硅二极管?通常大家所用的基本都是以硅为原料的二极管，但是近比较热门的碳化硅二极管是用碳化硅为原料的二极管。目前常见的多为高压的肖特基碳化硅二极管，其优点：反向恢复特性很好，媲美肖特基硅二极管。但是可以做高压的二极管。在PFC中已有较多应用。缺点：正向导通压降比较大。还有一点与硅二极管不同的是其导通压降随温度上升反而增大。早...

2020年销量将达到140万辆，2025年突破550万辆。作为与新能源汽车高度相关的互补品，充电桩进一步推动了功率半导体市场的进一步扩大。目前充电桩的功率模块有两种解决方案，一是采用MOSFET芯片，另一种是采用IGBT芯片。其中IGBT适用于1000V以上、350A以上的大功率直流快充，其成本可达充电桩总成本的20-30%;当下基于充电...

以便将其转换为直流电源。然后将这种类型的电路称为“半波”整流器，因为它通过输入交流电源的一半，如下所示。半波整流电路在交流正弦波的每个“正”半周期内，由于阳极相对于阴极为正，因此二极管正向偏置，导致电流流过二极管。由于直流负载是电阻性的（电阻器R），因此负载电阻器中流动的电流与电压成比例（欧姆定律），因此负载电阻器两端的电压将与电源电压V...

本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本申请的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申...

在每个周期内，终的输出DC电压和电流均为“ON”和“OFF”。由于负载电阻两端的电压在周期的正半部分（输入波形的50％）出现，因此导致向负载提供的平均DC值较低。整流后的输出波形在“ON”和“OFF”状态之间的变化会产生具有大量“波纹”的波形，这是不希望的特征。产生的直流纹波的频率等于交流电源频率。在对交流电压进行整流时，我们希望产生无任...

但若重复施加，这些单个的脉冲能量积累起来，在某些情况下，也会超过TVS器件可承受的脉冲能量。因此，电路设计必须在这点上认真考虑和选用TVS器件，使其在规定的间隔时间内，重复施加脉冲能量的累积不至超过TVS器件的脉冲能量额定值。6.电容CPPTVS的电容由硅片的面积和偏置电压来决定，电容在零偏情况下，随偏置电压的增加，该电容值呈下降趋势。电...

所述ge层002、所述压应力层003依次层叠设置于所述衬底层001的表面，所述压应力层003设置有电极孔，所述金属电极a1设置于所述ge层002上所述电极孔中，所述第二金属电极a2设置于所述衬底层001与所述表面相对设置的第二表面。所述衬底层001为锗衬底层，具体地，可以为n型掺杂浓度为1020cm-3的n型单晶锗(ge)。需要说明的是，...