企业商机
BOE蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • BOE蚀刻液
  • 纯度级别
  • 电子纯MOS
  • 类别
  • 无机盐
  • 产品性状
  • 液态
BOE蚀刻液企业商机

    所述组合物包含540重量%的甲基四氢呋喃和6095重量%的式C4F90R的九氟丁基烷基醚。的甲基四氢呋喃是2-甲基四氢呋喃。在式C4F90R的九氟丁基烷基醚中,九氟丁基甲基醚和九氟丁基乙基醚。不论R是什么,的九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟异丁基烷基醚组成。共沸或共沸型的组合物是特别有利的。当R为甲基时,该共沸或共沸型的组合物包含515重量%的甲基四氢呋喃和8595重量%的九氟丁基甲基醚。包含8重量%的甲基四氢呋喃和92重量%的九氟丁基甲基醚的共沸组合物在大气压下具有°C的沸点。当R为乙基时,该共沸或共沸型的组合物包含1040重量%的甲基四氢呋喃和6090重量%的九氟丁基乙基醚。包含%的甲基四氢呋喃和%的九氟丁基乙基醚的共沸组合物在大气压()下具有°C的沸点。共沸组合物是两种或更多种化合物的液体混合物,其具有可高于或低于各化合物的沸点的恒定沸点(即,在沸腾或蒸发期间没有分馏的倾向)。因此,在蒸发期间形成的蒸气的组成与初始的液体组合物相同或者几乎相同。共沸型组合物是两种或更多种化合物的液体混合物,其具有基本上恒定的沸点,也就是说,共沸型组合物起到单一化合物的作用。质量好的做BOE蚀刻液的公司。江苏哪些新型BOE蚀刻液

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    odeunemplazamientopeligrosoaotronopeligroso,asícomoenlasentradasysalidasdelasenvolventesmetálicasdeequiposeléctricosquepuedanproducirarcosotemperaturaselevadas,cuandoseempleentubosdeacero,sedeberáevitarelpasodegasesovaporesinflamables,paraelloserealizaráelselladodeestospasosmediantelautilizacióóndelmaterialeléctricoserárealizadadeacuerdoconelartíéctricos,serealizarádeacuerdoconelmododeproteccióéctrico,paraentradasdecablesnoutilizados,deberáncerrarsemediantepiezasacordes,alobjetodemantenerelmododeproteccióóndefuerzaserealizarádesdeuncuadrodedistribución,compuestoporuninterruptorautomáticodeproteccióngeneral,undiferencialmásunaseriedesalidasseparadasporcadareceptor,cadaunaconproteccióóngeneralseinstalaráóngeneraldelasinstalacionessellevaráacaboconlamáximaintensidadyamplitudqueseaposible,suplementadosporaparatoslocalesenlospuntosqueserequieraobservacióónseestablecerádemaneraqueprocurelamayorseguridaddelpersonalquetrabajedenoche。BOE蚀刻液联系方式BOE蚀刻液,有效控制,呈现好的蚀刻效果。

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    T156WXB-500HB156WX1-100HT156WXB-502HB156WX1-600HB156WX1-500NT156WHM-N21HB156WX1-200NT156WHM-N10HB156FH1-301HB156FH1-401NT156WHM-N22NT156WHM-N12NT156WHM-N42NV156FHM-N31NT156WHM-N50NV156FHM-N41HT150X02-100HT150X02-101TDA150-004HM150X01-101TDA150-002HM150X01-200HT141WXB-100HT140WXB-100HT140WXB-501HT140WXB-101HT140WXB-300HT140WXB-400HB140WX1-100HT140WXB-601HB140WX1-200HW14WX101HW14WX102HW14WX103HB140WX1-300HB140WX1-500HB140WX1-600HB140WX1-101HT14X1B-121HB140WX1-501HB140WX1-401HB140WX1-400HB140WX1-301HB140WHA-101HB140WX1-503HB140FH1-401HB140WH1-504HB140FH1-301HB140WX1-601HT133WXB-100HN133WU3-100HB133WX1-402HB133WX1-403HN133WU1-100HB133WX1-201JH1330010LD1330020AV128HDM-NW0HB125WX1-100HB125WX1-200BA121S01-100TT121S0M-NW0HT116WXB-100IT1160020HN116WX1-100IT1160030IT1160040HN116WX1-102NT116WHM-N11NT116WHM-N21NT116WHM-N10IT1160060BA104S01-100BA104S01-200HT101WSA-100HT101WSB-100HT101WSB-101HT101WSB-200HT101WSB-201BA101WS1-100BP101WX1-100BP101WX1-200BP101WX1-300BA101WS2-100BP101WX1-203BP101WX1-20。

    所述的磷酸浓度为82-87%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,醇醚类的含量为%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,表面活性剂的含量为%。进一步地,本发明涉及上述蚀刻液,所述的醇醚类为选自二乙二醇单甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇单甲醚、三甘醇单丁醚等中的至少一种;表面活性剂为选自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸钠、月桂酰氨乙基硫酸钠、醇醚羧酸盐等中的至少一种。进一步地,在使用本发明的蚀刻液进行氮化硅层蚀刻时,蚀刻温度为152-165℃,蚀刻时间为5-60min。通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂,改善了磷酸的浸润性和表面张力,明显提高了蚀刻液对氮化硅层的润湿和蚀刻均匀性。为了便于验证氮化硅薄膜层的蚀刻均匀性,本发明使用淀积了氮化硅薄膜的晶圆样片(初始厚度约为)。蚀刻液配制完成后,先使用表面张力仪检测该蚀刻液的表面张力;然后将氮化硅晶圆片切割成1cm*3cm的小样片,采用超纯水清洗和氮气吹干后,使用接触角测量仪检测蚀刻液对氮化硅层的接触角大小。在蚀刻前,使用椭圆偏振光谱仪对氮化硅样片取不同位置共6个点进行厚度的测量。苏州性价比高的BOE蚀刻液。

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