志成达研发的真空机,真空除油设备通过引入微波加热辅助技术 可在10-15秒内将顽固油污分子链断裂,配合真空环境下的分子扩散效应,实现金属加工件表面油膜残留量低于0.05μm,特别适用于精密齿轮、轴承等动密封部件的超净处理。在半导体晶圆制造领域,真空除油设备采用兆声波(1-3MHz)空化效应...
该技术通过六阶段闭环系统实现高效除油:
1.预处理:工件置于可旋转支架,采用氮气密封舱体至10⁻³Pa级气密性。
2.抽真空:多级泵组3-5分钟内将压力降至100Pa,主泵进一步达10⁻¹Pa以下,同步预加热至30-80℃。
3.负压蒸发:红外加热结合循环气流,矿物油在0.09MPa下沸点降至80℃,薄油膜5-10分钟完成蒸发。
4.冷凝回收:-20℃半导体制冷片实现99%油蒸气回收,分离净化后循环使用。
5.干燥破空:真空干燥至-40℃,充入-60℃氮气并设气流屏障防污染。
6.后处理:激光测厚检测油膜厚度,集成MES系统自动匹配参数,预测性维护周期超5000小时。 设备配备精密压力传感器,实时监测盲孔内部压力变化,确保清洗过程安全可控。四孔位真空机常见故障与检修

针对行业定制化方案的选择:
1.航空航天领域选择
具备ISO13009认证的设备,配置HEPA过滤系统(控制颗粒污染)。推荐使用真空超声波+等离子体复合清洗(去除纳米级污染物)。
2.医疗器械行业
罐体材质需为316L不锈钢(符合FDA标准),采用双机械密封防止泄漏。集成微生物检测模块(如ATP荧光检测仪)。
3.电子元件行业配置
真空度梯度控制系统(分步降压防止元件炸裂)。选用无磷环保脱脂剂(满足RoHS指令)。 四孔位真空机常见故障与检修真空负压 3 秒!0.1mm 微孔油渍无处藏!

颠覆传统的技术通过-0.1MPa真空负压系统+动态压力波动技术,强制排出0.1mm微孔内空气,使镀液100%渗透深径比10:1的盲孔底部,突破"孔口厚、孔底薄"的行业难题!✨五大颠覆性优势✅全孔均匀度:镀层厚度偏差≤5%(传统工艺20%!)✅深孔穿透率:300μm盲孔垂直深镀能力✅良品率飙升:某电子厂实测从65%→92%✅效率飞跃:单批次处理时间缩短40%✅绿色智造:镀液消耗降50%+废水减30%
修整工件表面,去除工件表面的油脂、锈皮、氧化膜等,为后续的镀层沉积提供所需的工件表面。长期生产实践证明,如果金属表面存在油污等有机物质,虽有时镀层亦可沉积,但总因油污“夹层”使电镀层的平整程度、结合力、抗腐蚀能力等受到影响,甚至沉积不连续、疏松,乃至镀层剥落,使丧失实际使用价值。因此,镀前的除油成为一项重要的工艺操作。除油剂的组成根据油脂的种类和性质,除油剂包含两种主体成分,碱类助洗剂和表面活性剂。 设备搭载智能故障诊断系统,可提前预警真空泵组异常,保障 24 小时连续稳定运行。

本设备是针对盲孔类工件电镀及前处理工艺研发的专业真空处理系统,适用于半导体、精密电子、航空航天等领域的复杂结构工件处理。
【功能】
1.真空置换系统:采用旋片式真空泵组,可在60秒内将工作腔压力降至10mbar以下,通过动态真空置换技术实现盲孔内空气的高效抽离
2.智能补液系统:配备流量闭环控制系统,可根据工件孔径自动调节药液填充速率,确保微孔填充率≥99.8%
3.工艺可视化:配置5.7英寸工业级触控屏,实时显示真空度、液位高度、处理时间等关键参数
【技术优势】
1.采用304不锈钢内胆+高硼硅玻璃视窗组合,耐酸碱腐蚀且便于观察
2.可调式硅橡胶密封条配合气压补偿装置,确保真空度稳定维持在±0.5mbar
3.模块化设计支持单工位/双工位/多工位扩展,处理效率提升40%以上
【应用价值】
通过建立可控的负压环境,有效解决盲孔类工件因气穴导致的漏镀、膜厚不均等问题,使镀层均匀性提升至±5μm以内,降低不良品率。设备符合ISO9001质量管理体系及CE安全认证,已成功应用于100+客户的量产线,平均提升良品率25%,降低生产成本18%。 真空除油设备通过降低环境压力,使清洗液渗透盲孔深层油脂,提升 30% 以上清洁效率。四孔位真空机常见故障与检修
陶瓷微孔除油,烧结后零缺陷!四孔位真空机常见故障与检修
真空除油设备通过负压技术实现高效表面清洁,其优势在于深度渗透深盲孔(长深比>10:1)、微型沟槽等复杂结构,清洁率可达 99.5% 以上。通过降低气压使液体沸点降低(如 50℃沸腾),结合超声波空化效应,可在低温下快速剥离顽固油污,避免高温对材料的损伤。设备采用模块化设计,可根据行业需求定制:半导体领域配置分子泵实现 1×10⁻⁶Pa 极限真空;航空航天行业集成高温真空系统处理烧结油污;新能源电池领域通过真空置换干燥控制水分<10ppm。相比传统工艺,其化学药剂用量减少 60%,能耗降低 70%,适用于精密光学、医疗植入物、液压元件等高要求场景。未来趋势向智能化(AI 优化参数)、绿色化(超临界 CO₂清洗)发展,满足半导体、航天等领域的超洁净需求。 四孔位真空机常见故障与检修
志成达研发的真空机,真空除油设备通过引入微波加热辅助技术 可在10-15秒内将顽固油污分子链断裂,配合真空环境下的分子扩散效应,实现金属加工件表面油膜残留量低于0.05μm,特别适用于精密齿轮、轴承等动密封部件的超净处理。在半导体晶圆制造领域,真空除油设备采用兆声波(1-3MHz)空化效应...
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