氦检仪的基本原理是采集被检件中的气体将其电离，根据不同种类气体离子质荷比不同的特点，利用磁偏转分离原理将其区分开来。仪器只对示漏气体氦气有相应信号，而对其他气体没有反应，属于唯1性氦检仪器。检漏过程中，一旦出现信号，就说明有氦气通过漏孔进入被检件，从而指示出漏孔的位置与大小。而之所以选择氦气作为示漏气体，主要是因为氦质量轻，易于穿过漏孔，扩散快，对分析设备制造的要求相对简单；同时氦气在空气中含量少，本底压力小，又为惰性气体，不易发生反应等等，都为提高仪器灵敏度创造了条件。氦检仪的捡漏方法有哪些？真空氦气检测机售后服务
氦检仪现已普遍应用于半导体设备检漏。半导体设备及材料需要检漏原因：1、半导体设备要求高真空，比如磁控溅射台、电子束蒸发台、ICP、PECVD等设备。出现泄漏就会导致高真空达不到或需要大量的时间，耗时耗力；2、在高真空环境洁净度高、水蒸气很少。一旦出现泄漏周围环境中的灰尘和悬浮颗粒或尘埃就会对晶元造成污染，对半导体的特性改变并破坏其性能，因此在半导体器件生产过程中必须进行氦质谱检漏；3、一些半导体设备要用到有毒或有腐蚀性的特殊气体，经过氦质谱检漏后，在低漏率真空条件下，这些气体不易外泄，设备能及时抽走未反应气体和气态反应产物，保障工作人员安全和大气环境。4、芯片封装，一旦出现泄漏，芯片就会失效。综上所述，氦检仪在半导体行业起着至关重要的作用。真空氦气检测机售后服务氦检仪怎么选择适合的检漏方法？
使用氦检仪需注意哪些问题？响应时间与清理时间:正常运行的仪器响应时间与清理时间不应大于3s。氦检仪的响应时间会影响检漏工作的速度:检漏时喷有在漏孔处停留的时间应为仪器响应时间的3倍,该时间再加上氦气在真空系统中的传递时间,即为两次喷氦的较小间隔时间,当然真空系统越庞大,该间隔时间也越长。根据经验,两次喷氦的较小间隔时间控制在30s,如果第1次喷氦后30s内氦检仪还没有反应,则可进行第二次喷氦。仪器的清理时间在理论上与响应时间相同,但由于仪器零件对氦的吸附和脱附作用的影响,清理时间一般要更长些。另外,喷氦量的多少也影响清理时间的长短,喷氦时喷头移动速率合理,可以缩短仪器的清理时间,提高检漏效率。
氦质谱检漏仪的检漏方式通常有两种，一种为常规检漏，另一种为逆扩散检漏。逆扩散检漏是把被检件接在分子泵出气口一端，漏入的氦气由分子泵出气口逆着泵的排气方向进入安装在泵的进气口端的质谱管内而被检测。这一检漏方式是基于分子泵对不同质量的气体具有不同压缩比(气体在分子泵出气口压强与进气口压强之比)即利用不同气体的逆扩散程度不同程度而设计的。氦质谱检漏仪是根据被检工件的不同它所使用的检漏方法也是不同的。对产品检漏前首先要对工件的结构和制造工业有所了解，了解有哪些漏源，才能快，准，狠的完成检漏。检漏过程中，如发现大量氦气进人氦质谱检漏仪，应立即移去吸口。
氦质谱检漏仪调氦峰步骤：1、调氦峰方法：开漏孔开关，单方向(从75~165V或从165~75V)调加速电压“V”，使氦质谱检漏仪放大器输出表指示值出现一个Zda值，然后关漏孔开关，如表头指示值变小，说明氦质谱检漏仪接收到氦信号，即找到氦峰；如表头指示值不变，说明不是氦峰，则继续调“V”，直到找到氦峰(出现氦的“V”一般在85~150V之间)。2、调氦峰分辨不好：①氦和重离子分辨差。②氦和轻离子分辨差。3、调氦峰信号小：①灯丝没正对电离盒上的电子入口。②灯丝离电离盒太远。③分辨不好。氦检仪是对密封容器的泄漏进行快速定位和定量测量的仪器。分体式氦检机单位
氦质谱检漏仪可以对具有内腔的微电子或半导体器件封装的气密性进行细检漏。真空氦气检测机售后服务
氦质谱检漏仪的噪声主要来源于电路噪声和本底噪声，目前设备电子线路和电子元件的改进，使得电路噪声已经降得很低，因此氦质谱检漏仪的本底噪声成为影响设备性能的主要因素。而其本底噪声的产生主要是由于本底峰的不稳定造成的，主要形成的原因包括：一、离子源中的发射电流、加速电压以及分析器的电磁参数不稳定。二、真空油脂、橡胶材料、有机绝缘材料都可吸附和再释放出氦气，而电离规，特别是磁放电真空规对氦有记忆效应，其表面污染时就更为严重。三、抽气系统中抽速不稳定和氦的反扩散。四、氦质谱检漏仪中空气的本底影响。为尽量消除氦质谱检漏仪的本底噪声，需要针对性的采取措施，如减少采用有机材料，不用磁放电规等。真空氦气检测机售后服务
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