宁波医疗器械氮化钛产品介绍

研究新工艺、新材料在齿轮上的应用，提高齿轮的质量和性能，降低生产和使用成本，减少噪音，减少能源和资源消耗具有十分重要的意义。“齿轮表面陶瓷生长工艺的研究”主要研究齿轮表面陶瓷的生长，实现陶瓷生长层与本体紧密结合，为高韧性、耐磨耐热、长寿命的齿轮提供重要的理论依据和试验数据。主要有以下几个方面：①对32Cr2MoV钢离子渗氮进行了研究。通过离子渗氮，提高了32Cr2MoV钢表面硬度，并形成了一定深度的硬化层，为后续的多弧离子镀氮化钛(TiN)陶瓷涂层提供了良好的支撑。②离子渗氮与多弧离子镀复合处理的研究，采用正交试验法，运用多弧离子镀，在32Cr2MoV钢渗氮基体上镀覆TiN陶瓷，研究多弧离子镀各工艺参数对TiN陶瓷性能的影响，优化出了一种工艺，并通过该工艺获得了性能优良的TiN陶瓷涂层。③对32Cr2MoV钢、渗氮层及TiN陶瓷进行了微观结构的分析，研究其结构对整个材料性能的影响。研究了表面TiN陶瓷材料的耐腐蚀性能。④对32Cr2MoV钢氮化与复合处理试样进行了滚子试验，研究其摩擦磨损性能，试验表明：材料经过复合处理后较氮化有更好的抗摩擦磨损性能。⑤制备出了表面陶瓷齿轮，为研究表面陶瓷齿轮的承载能力、磨损、疲劳等性能提供了条件。在镁碳砖中添加一定量的TiN能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。宁波医疗器械氮化钛产品介绍

50.氮化钛(TiN)薄膜以其独特的性能不仅各类商品的表面装饰上有着适合的应用,而且在机械工业也展示了巨大的应用前景。本文利用大功率偏压电源的多弧离子镀技术,采用工具镀工艺,在Ti-6Al-4V合金材料表面制备了TiN薄膜。X射线光电子能谱检测证明了所制备的薄膜确为TiN。机械性能测试表明:具有TiN涂层样品的显微硬度较为高于Ti合金基材,同时耐磨性能也明显得到改善。既可以大幅提高机械产品的表面硬度，提高其耐磨性、降低摩擦系数，进而提高使用寿命。嘉兴纳米氮化钛检测DLC涂层表面纳米硬度、弹性模量及泊松比均高于TiN涂层。

17-4PH钢表面Ti/TiN多层复合薄膜进行了研究,应用电弧离子镀技术分析不同Ti层与TiN层厚度比值和不同复合层数对表面形貌、断面形貌、成分、显微硬度、相结构、致密性、厚度均匀性、耐磨性、结合力等涂层性能的影响。通过研究确认,在Ti单层沉积3min、TiN单层沉积17min条件下制备的Ti/TiN六层复合薄膜具有极好的力学性能,可以使基体材料的表面硬度提高5倍以上,并使膜基结合力达到56N以上。可以有效的提高涂层的结合力，进而提高产品的表面性能。

氮化钛（TiN）作为一种新型的多功能金属陶瓷材料，具有熔点高、硬度大、**、化学稳定性好、导电导热和光性能好等优异的特性。其熔点为2930~2950℃，是热和电的良导体，低温下又有*导性，是制造喷气发动机的材料，随着科学技术的发展和突破在多个领域发挥着不同的作用，其特有的金黄色金属光泽使氮化钛在代金装饰领域也有应用。在刀具制造上的应用氮化钛陶瓷涂层具有的金黄色外表，涂覆于刀具之上虽拥有优化外观的好处，但主要作用却并非是为了装饰，其具有的硬度值在韦氏硬度（HV）高达2500以上，涂覆于刀具上的厚度一般为3至5微米，相较于未进行涂层加工的原产品具有*高的**性和耐热性，使用寿命也*长。将这项技术应用在工业生产中的机械设备上，例如在齿轮滚刀上涂覆氮化钛其寿命可延长3至4倍，在切削齿轮时可将切削速度或进给量提高更多，从而减少材料机加工时间氮化钛涂层刀具由于其优异性能，很快在工业发达国家得以推广使用，并为机械加工行业带来巨大的经济效益。

氮化钛的制备方法有哪些1金属钛粉或TiH2直接氮化法2TiO2碳热还原氮化法3微波碳热还原法4物物理相沉积法5化学气相沉积法6机械合金化法7熔盐合成法8溶胶-凝胶法9自蔓延高温合成法TiN的性质及结构。TiN属于间隙相，熔点高达2955℃，原子之间的结合为共价键、金属键及离子键的混合键，其中金属原子间存在金属键。因此，TiN薄膜具有高硬度（理论硬度21GPa）、优异的耐热耐磨和耐腐蚀等特性，并且具有较好的金属特性：金属光泽、优良的导电性及超导性。TiN具有典型的NaCl型结构，属于面心立方点阵（F.C.C），其中Ti原子占据面心立方的角顶。并且TiN是非计量化合物，Ti和N组成的化合物TiN1-x可以在很宽的组成范围内稳定存在，其范围为TiN0.6—TiN1.16。氮的含量可在一定范围内变化而不引起TiN的结构变化。采用离子镀技术与多弧磁控耦合镀膜技术分别在柱塞上涂覆了TiN涂层和DLC涂层。威海镀黑氮化钛加工

氮化钛熔点高，化学稳定性好硬度大导电、导热和光性能好等好的理化性质，在各个领域都有着非常重要的用途。宁波医疗器械氮化钛产品介绍

在深亚微米(0.15μm及以下)集成电路制造中，后段工艺日趋重要，为降低阻容迟滞(RCDelay)，保证信号传输，减小功耗，有必要对后段工艺进行改进，Via阻挡层MOCVD(Metal-organicChemicalVaporDeposition，金属有机物化学气相淀积)TiN是其中重要研究课题之一。本论文基于薄膜电阻的理论分析，从厚度、杂质浓度和晶体结构三大薄膜电阻影响因素出发系统研究MOCVDTiN材料在平面薄膜上和真实结构中的各种性质，重点是等离子体处理(PlasmaTreatment，PT)下的晶体生长，制备循环次数的选择对薄膜杂质浓度、晶体结构及电阻性能的影响，不同工艺薄膜在真实结构中物理形貌、晶体结构和电阻性能的表现和规律，超薄TiN薄膜(＜5nm)的实际应用等。俄歇能谱、透射电子显微镜和方块电阻测试证明PT作用下杂质浓度降低，同时晶体生长，薄膜致密化而电阻率降低。PT具有饱和时间和深度，较厚薄膜需多循环制备以充分处理，发现薄膜厚度较小时(本实验条件下为4nm)，增加循环次数虽然进一步降低了杂质浓度，但会引入界面而使薄膜电阻率增加。通过TEM观测发现由于等离子体运动的各向异性，真实结构中PT效率在侧壁远低于顶部和底部，这导致侧壁薄膜在PT后更厚。宁波医疗器械氮化钛产品介绍