企业商机
Tracepro基本参数
  • 产地
  • 上海
  • 品牌
  • Tracepro
  • 型号
  • Tracepro
  • 是否定制
Tracepro企业商机

TracePro中提供的二维对称和三维非对称的优化器,使初始设计和交互控制点以及分段点能够快速规范设置。优化器内置了交互式光线追迹工具来快速判断设计的可行性,这个工具通过拉一个控制点或分段点来自动更新光线追迹。TracePro的优化过程能迅速确定设计的可行性,同时还允许对结果进行连续监测,并用于该模型的后续完善。复杂的非对称设计支持三维优化,这完美的解决了设计不常见形状的导光管及LED透镜的设计问题。

麟甲优化

TracePro中提供的麟甲优化器,可以优化背光显示器的散射点分布。首先定义一个辐照分布的目标,然后定义一些控制点的分布范围。优化程序将调整设置这些点的密度,以达到目标分布。 上海复光Tracepro课程。湖北口碑好Tracepro多少钱

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报告

TracePro中可以生成各种光学追迹和属性的报告。例如:

光通量报告提供了所选面的表面积,入射光线的数量,入射和被吸收的光通量和所有光源减少的光通量等等信息的总结。每个物体都能显示体吸收和入射的光通量。属性数据报表显示这些模型的光学表面和物体属性定义。光线追迹报告显示物理和虚拟内存使用情况和经历光线追迹的时间。


版本

TracePro的三个版本可根据功能的提高适用于所有不同要求的使用者和几乎所有应用。这为用户的需求和体验的提升提供了一个方便实用的升级路径。基础版是针对标准照明和导光管的应用。标准版非常适合大多数光学和照明设计,分析和杂散光分析的任务。当需要为麟甲背光设计或生命科学应用提供先进的功能,就需要旗舰版中的数百万散射点和体散射的模拟生物组 织能力的功能。


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TracePro的2D和3D优化器是一个很直观的设计工具,能很容易被光学工程师或者设计工程师掌握。

这款工具的主要功能如下:

l  表面列表

有各种类型的表面,例如平面的,B样条的,参数化的(双锥形表面),2D轮廓(非对称,对称,椭圆的),用户自定义路径(2D,3D)。

l  物体外观

显示不同类型的物体,例如辐射对称体,挤压体,透镜,扫描体,双轴的;在属性编辑器里建立可调的初始参数。

l  属性编辑器

根据不同的选择可以编辑不同的参数,大概包括起点,中心,角度(X,Y,Z),倾斜度,位移,厚度,材料种类,表面属性,拔模角,折射率。

l  优化

选择使用选择对象的哪些值作为优化目标,包括:光通量,色空间(CIE),辐照度分布,辐照度曲线,强度,坎德拉曲线,均匀性。用户也可以定义他们自己的优化目标。

可视化 & 渲染

TracePro具有多种表面和光线显示选项,可帮助识别问题区域并可视化通过任何光学或照明系统的能量传播。具有线性或对数刻度的大型且可读的辐照度/照度图和坎德拉图,几种调色板,配置文件和3D查看选项使您能够了解任何表面上的光通量或辐照度。TracePro的拟真渲染功能利用模型的光源和光学特性以及真实的光线追踪和光子贴图算法,使您可以从任何位置可视化设计照明外观。TracePro 提供了Texture Optimizer,可让您优化背光上散射点的分布。首先定义目标辐照度分布,然后定义点的起点分布。 优化器将调整点的密度以实现您的目标分布。


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(5)成像系统:

  1、使用非序列性描光方式精确计算透镜系统的杂散光行为,并可仿真对象表面的入射、吸收与能量损失。

  2、可仿真多层镀膜的光学性质。

  3、可汇入主流光学透镜分析软件(如 OSLO、Code V ) 的透镜设计文件。

  4、使用重点取样或自动重点取样功能来过滤散射传播路径,来增加天文望远镜或导弹系统中光线到达感光器的样本数。  

(6)生物医学产业:

  1、可定义相位函数,仿真光线在人体组 织中的影响。

  2、可使用人体组 织数据库,可方便地建立人体组 织之模型。

  3、可分析体散射效应,并可使用体通量观测器来监看能量于组 织内的传递过程。 TracePro是一套获奖无数、功能完善的光学设计仿真分析软件。贵州口碑好Tracepro市场前景如何

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提供了三个版本的TracePro,这些版本的功能和复杂性不断提高,适用于所有用户级别以及几乎所有应用程序。随着用户需求和体验的增加,这提供了方便实用的升级途径。LC版针对标准照明和光导条应用。标准版非常适合大多数光学和照明设计,分析和杂散光任务。当需要用于纹理背光设计或生命科学应用的高级功能时,**版具有***的功能,可以对数百万个散射点和大量散射功能进行建模,以模拟生物组 织。


TracePro® 是一款享誉世界的用于光学设计,分析和优化光学和照明系统的几何光学软件。凭借其直观的CAD界面和诸如交互式优化器之类的强大功能,TracePro为用户提供了强 大的光学设计环境,并拥有较短的学习周期,从而加快了产品上市时间。


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