增材制造基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳激光直写
  • 规格
  • 双光子聚合
  • 产地
  • 德国
增材制造企业商机

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特别高分辨率的3D无掩模光刻技术,用于快速,特别高精度的微纳加工,可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械,传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术,可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作;也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下,实现不同参数的创新3D结构的制作。增材制造推动了生产模式的变革,使分布式生产成为可能,企业可更灵活地布局生产,降低物流成本。湖北科研增材制造无掩膜光刻

湖北科研增材制造无掩膜光刻,增材制造

3D打印高性能增材制造技术摆脱了模具制造这一明显延长研发时间的关键技术环节,兼顾高精度、高性能、高柔性,可以快速制造结构十分复杂的零件,为先进科研事业速研发提供了有力的技术手段。在微光学领域,Nanoscribe表示,其3D打印解决方案“破坏和打破以前复杂的工作流程,克服了长期的设计限制,并实现了先进的微光驱动的前所未有的应用。换句话说,PhotonicProfessionalGT系列与您的平均3D打印机不同,因此可用于创建在其他机器上无法生产的功能性光学产品。该系列与正确的材料和工艺相结合,据称允许用户“直接制造具有比标准制造方法,高形状精度和光学平滑表面几何约束的聚合物微光学部件”。湖北科研增材制造无掩膜光刻3D打印技术可用于制造轻量化零部件。

湖北科研增材制造无掩膜光刻,增材制造

这种新型制造工艺只要把设计输入机器里,然后把功能部件从机器的另一边取出来即可,这种想法以前出现在上一代人的科幻小说里,虽然现在我们仍离《星际迷航》电影里那样复制人类的技术还很遥远,但我们正在缩小这个差距。塑料、橡胶、陶瓷、油墨、贵金属和一些特殊合金材料,每天都在不同的行业中被制造及应用,其应用领域非常广,包括普通玩具、模具,甚至到人体部位等。现在这一切都可以利用3D打印(增材制造)技术打印出来。Nanoscribe公司作为精密之傲高精度3D打印系统制造商,于2018年在中国成立了分公司,加强了德国高科技公司在中国销售活动,完善了整个亚太地区的客户服务范围。荣获多个奖项的德国Nanoscribe公司开发并销售的3D打印机是高度专业化的综合解决方案,在科学和工业领域,有1,000多位用户正在使用这种空前的全新应用。这包括为微创手术打印显微针、附加生产微镜头阵列、以及生产芯片上微光学元件。每周都有新的科学文献强调应用该器械的多种方式,并称之为“创新引擎”。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。需要小批量精密金属零件?纳糯三维提供快速交付服务。

湖北科研增材制造无掩膜光刻,增材制造

Nanoscribe是非常独特的纳米和微米级3D打印技术。该公司成立于2007年,目前已经在激光光刻行业处于领头的地位。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT光刻系统主要通过在微尺度上运用激光来固化感光材料。3D打印材料主要包括液态的光敏材料和固态的旋涂光刻材料。凭着其独特的微尺度3D打印技术与人性化的软件,Nanoscribe毫无疑问是增材制造领域里的一股颠覆性力量。ORNL的科学家们使用Nanoscribe的增材制造系统来构建世界上特别小的指尖陀螺,该迷你玩具的宽度只为100微米(与人类头发的宽度相当)增材制造技术具有高的坚固性,稳定性.浙江生物工程增材制造Quantum X shape

纳糯三维提供专业金属3D打印解决方案,助力您的产品快速迭代。湖北科研增材制造无掩膜光刻

随着各行各业的发展及科技的进步,人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体,可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计,甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe公司专注于微观3D打印技术,而全新推出的QuantumX平台新型高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的优异性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。湖北科研增材制造无掩膜光刻

与增材制造相关的**
信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责