增材制造基本参数
  • 品牌
  • Nanoscribe
  • 型号
  • 齐全
  • 类型
  • 双光子微纳激光直写
  • 规格
  • 双光子聚合
  • 产地
  • 德国
增材制造企业商机

借助Nanoscribe的3D微纳加工技术,您可以实现亚细胞结构的三维成像,适用于细胞研究和芯片实验室应用(lab-on-a-chip)。我们的客户成功使用Nanoscribe双光子无掩模光刻系统制作了3D细胞支架来研究细胞生长、迁移和干细胞分化。此外,3D微纳加工技术还可以应用在微创手术的生物医学仪器,包括植入物,微针和微孔膜等制作。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具,在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说,在纳米级、微米级以及中尺度结构上,可以直接生产用于工业批量生产的聚合物母版。


3D打印技术正在改变制造业。山东微光学增材制造激光直写

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   Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,南极熊从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款产品,在科学研究中得到了较广的应用,并在哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。


山东微光学增材制造激光直写Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司带您了解金属材料增材制造技术。

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虽然半导体行业一直在使用3D打印技术,我们可能会有一个疑问,为什么我们没有听说,一个因素是竞争。如果全球只有四个庞大的大型公司,它们构成了光刻或制造机器的主要部分,那么这些公司并没有告诉外界关于他们应用3D打印技术的内幕,因为他们想确保的竞争优势。至少,对外界揭示其优化设备性能的技术,这种主观动机并不强。增材制造改善半导体工艺是多方面的,从轻量化,到随形冷却,再到结构一体化实现,根据3D科学谷的市场观察,增材制造使得半导体设备中的零件性能迈向了一个新的进化时代!在许多情况下,3D打印-增材制造可能使这些系统能够更接近理论上预期的工作环境,而不是在机器操作上做出妥协

借助Nanoscribe的3D微纳加工技术,您可以实现亚细胞结构的三维成像,适用于细胞研究和芯片实验室应用(lab-on-a-chip)。我们的客户成功使用Nanoscribe双光子无掩模光刻系统制作了3D细胞支架来研究细胞生长、迁移和干细胞分化。此外,3D微纳加工技术还可以应用在微创手术的生物医学仪器,包括植入物,微针和微孔膜等制作。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具,在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。 Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维告诉您增材制造技术在工业制造领域中的意义是什么。

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增材制造(Additive Manufacturing,AM)俗称3D打印,融合了计算机辅助设计、材料加工与成型技术、以数字模型文件为基础,通过软件与数控系统将专门使用的金属材料、非金属材料以及医用生物材料,按照挤压、烧结、熔融、光固化、喷射等方式逐层堆积,制造出实体物品的制造技术。相对于传统的、对原材料去除-切削、组装的加工模式不同,是一种“自下而上”通过材料累加的制造方法,从无到有。这使得过去受到传统制造方式的约束,而无法实现的复杂结构件制造变为可能。近二十年来,AM技术取得了快速的发展,“快速原型制造(Rapid Prototyping)”、“三维打印(3D Printing )”、“实体自由制造(Solid Free-form Fabrication) ”之类各异的叫法分别从不同侧面表达了这一技术的特点。  走进Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司学习增材制造技术。山东科研增材制造三维光刻

对比传统制造,增材制造有什么优势和特点?山东微光学增材制造激光直写

  Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商,2019年6月25日,南极熊从外媒获悉,该公司近日推出了一款新型的机器QuantumX。该系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件,其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法,“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制,QuantumX采用双光子灰度光刻技术,克服了这些限制,提供了前所未有的设计自由度和易用性,我们的客户正在微加工的前沿工作。“PhotonicProfessionalGT是Nanoscribe此前推出的一款产品,在科学研究中得到了较广的应用,并在哈佛大学纳米系统中心,加州理工学院,伦敦帝国理工学院,苏黎世联邦理工大学和庆应义塾大学使用。 山东微光学增材制造激光直写

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