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酸&碱槽式超声清洗设备能否用于光学元件清洗?

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安田丰技术(江苏)有限公司2026-06-17

可以用于光学玻璃、透镜、滤光片等元件的清洗。光学元件在研磨、抛光后表面常残留抛光粉、蜡及油渍。碱槽可去除有机类污染物,酸槽可去除金属离子或氧化物残留。超声作用有助于将附着在光学表面的微小颗粒剥离。需要注意的是,应根据光学元件的镀膜及材料特性选择合适的清洗液浓度和处理时间,以避免对膜层或基材造成影响。该设备在光学制造领域有应用实例。

安田丰技术(江苏)有限公司
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简介:安田丰公司专注于智能制造工艺装备和新材料,服务于AR和半导体行业,致力于提供高性能、高效率的解决方案
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