室内温湿度传感器品牌

奥地利E+E露点仪EE354-T63GA/TD002M 德国威卡WIKA毛细管温度计SC1560德国席卡SIKA温度计27 22 12 11 06 321德国久茂JUMO温度计902190/20-386-1001-1-6-190-03-4000德国威卡WIKA电缆式热电偶温度计TR40德国威卡WIKA热电阻温度计TR50德国威卡WIKA双金属温度计TGE53/125/75,L=75mm德国威卡WIKA温度计S55+TW45德国威卡WIKA温度计S5550/4日本岛电可编程温控表FP230德国席卡SIKA温度计271 22 011 06323德国席卡SIKA温度计271 2 20 110 6321德国席卡SIKA温度计17 42 201 104 021 Rotronic CF8-D/W-IN Rotronic HC2-LDP HL-DS-NT4-WL Rotronic HP21 Rotronic HP22-A 价格 HP23-A 型号 HygroGen2 - HG2.室内温湿度传感器品牌

奥地利E+E防爆温湿度传感器EE300Ex-MA6HS2T1D1E2K0L50PA0F4C1EX1奥地利E+E温湿度传感器EE300Ex-HT6SADBXXXEXAT/MTx004UW001奥地利E+E温湿度变送器EE300-HT6SExBGFxDxAT/MTx025UW001奥地利E+E温湿度传感器EE300EX-HT6SADBXXXDXAT/MTX002UW001奥地利E+E防爆型温湿度传感器EE300EX-HT6SEDBEHHD1AT/MTX012UW001奥地利E+E防爆型温湿度传感器EE300EX-HT6SADBXXXDXAT/MTX004UW001奥地利E+E防爆型温湿度传感器EE300EX-M1A6HS2T10E2K2L200PA23F4C1EX1MA1SAL0SAH120MB10SBL0SBH100奥地利E+E防爆型温湿度传感器EE300Ex-HT6SADBxxxDxAT/MTX002UW001奥地利益加义E+E防爆型温湿度传感器EE300EX-HT6SADBXXXD1AT/MTX002UW001(墙面安装)奥地利E+E温湿度传感器EE300EX-HT6SMDBEFADxAT奥地利E+E温湿度传感器EE300EX-HT6SEDCFxDxAT/MTx005UW001奥地利E+E温湿度传感器EE300EX-HT6SADBxxxD1AT/MTx007UW001室内温湿度传感器品牌苏州知非机电奥地利E+E室内温湿度传感器EE210-M1T1A3F2D2SBL-40SBH60型号EE210-M1T3A6MB52SBL-10SBH50价格.

瑞士罗卓尼克CF1系列是新研发的一款经济型CO2变送器，它不仅有CO2的信号输出，还可同时输出湿度和温度信号。CF1的组件中不仅包含着Hygromer®IN1这种性能优良的传感器，还具有性价比。CF1简洁的设计风格，使得其很适合于办公室、住宅、公共建筑物里的应用。配合ROTRONIC的SW21/HW4软件使用，参数设置简单，可对CO2和湿度进行量程调整或校准。特点CO2,相对湿度和温度三种信号输出Hygromer®IN-1湿度传感器35%RH或80%RH两点湿度校准电压或电流信号输出单点继电器信号输出袖珍型可配合HW4软件使用三行LED显示在23±5°C时精度<3%RH(10..90%RH)/±0.3,±1°CS型带显示0..2000ppm:±40ppm±3%的测量值0..5000ppm:±10%的测量值参数湿度/温度和CO2应用范围电路：0..50°C测量范围取决于探头0..100％RH，无冷凝测量原理红外线（NDIR）测量范围0..2000ppmor0..5000ppm校准点400ppm和35,80%RHPRESSUREDEPENDENCY+1.6%读数每kPa电源/功耗

E+EEE10室内温湿度变送器EE10是专为常规建筑和商业楼宇BA系统而研发的一款测量精度高、长期稳定性能优越的室内温湿变送器。EE10简洁时尚的外壳设计风格符合欧洲和美国标准，有多种颜色可以选择。可拆卸的设计使安装变得简单。用户可自行对电路板部分进行快速替换，无需借助任何工具。测量数据可选4-20mA或0-10V的模拟信号输出，也可选择带ModbusRTU或BACnet接口的数字信号输出；同时可选择带显示功能。除此之外，EE10还可选择被动温敏元件输出。1201-42B6-6001-005 RFTF-Modbus P 1201-42B6-6012-841 RFTF-Modbus P D5 1201-42B6-6047-005 RFTF-Modbus P T型号。

VAISALA维萨拉是许多半导体制造厂测定钨的CMP研磨液中H2O2浓度的仪器供应商Published:三月17,2021工业测量液体测量化学机械研磨/抛光(CMP)将化学反应和机械研磨结合在一起，是一项成本高昂且具有挑战性的重要纳米抛光工艺。这一工艺是集成电路制造中关键的使能步骤，对产量和工作效率都会产生影响。CMP简介抛光工艺使用含氧化剂的浆料完成，氧化剂通常为过氧化氢(H2O2)。在制造过程中，将晶圆和抛光垫紧密地压在一起，同时使二者各自以略微不同的速度逆时针旋转。将浆料铺在抛光垫中心，然后结合运用机械操作和化学操作，逐步除去晶圆表面的材料，使晶圆表面局部和整体都顺滑平坦。使用CMP浆料前，先在工厂对其进行混合或稀释。氧化物抛光浆料在购买时通常为浓缩状态，使用前在现场加水稀释，以减少运输和人工成本。一些多组分抛光浆料只能随用随混，因为这些浆料在混合后有效期很短。确保正确地混合至关重要，瑞士rotronic罗卓尼克HP23双通道温湿度手持表罗卓尼克S1探头可折叠温湿度手持表GTS纸张工业温湿度手持表.苏州室内温湿度传感器

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