镇江大型气氛炉

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的的测控系统和控制系统。一、测控系统1.温度控制装置：日本进口温控器，内置PID自动整定，斜率设定功能2.温度控制方式为SSR固态继电器功率调整输出，温度采集探头为特制铠装K型热电偶3.温度监控装置：采用日本六通道巡回检测有纸记录仪，可将烤箱内实时环境温度进行检测打印。二、控制系统1.操作控制系统，采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制，更快速，更稳定。2.防护措施：紧急停止，超温保护,断线报警，相序保护，过载保护，短路保护，漏电保护，及电磁门禁保护等。合肥真萍科技气氛炉的运用领域。镇江大型气氛炉

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜的氮气监控系统。1.2.3寸LED大屏幕数字显示湿度/温度。2.温湿度显示值0.1％-99.9％RH，温度显示值0.1℃-60.0℃。3.温湿度收集采准确传感器，长距离传输无误差。4.湿度控制：4.1利用湿度设定值来控制氮气流入，到达湿度设定值即停止进气，节省氮气耗用。4.2湿度在1％-60％RH可调整。芜湖哪里有气氛炉合肥真萍科技气氛炉价格更优惠。

真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。1.长方体工作室，增加有效容积，微电脑温度控制器，精确控温。2.双层玻璃视窗观察工作室内物体，一目了然。3.箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。6.真空程序分段控制，该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。气氛炉的工作原理，真萍科技告诉您！

真萍科技洁净烘箱是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。下面为大家介绍一下洁净烘箱的技术指标。1.无尘等级：Class100：（符合FED-STD209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）2.温度范围：+60℃~+250℃（极限温度350℃）3.温度均匀性：2℃（空箱测试）4.温度精确度：1℃（空箱测试）5.设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;1000*1300*1000;1000*1400*1000;合肥真萍气氛炉评价。福州气氛炉保养

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下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的用途和设计。一、产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。二、设计特点1.后门设计热风电机2.降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向3.通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的镇江大型气氛炉

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