气氛炉基本参数
  • 产地
  • 安徽合肥
  • 品牌
  • 合肥真萍电子科技有限公司
  • 型号
  • 多种型号
  • 是否定制
气氛炉企业商机

气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验,还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型,额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃,根据不同的气氛,不同的温度,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。吊反应箱时,应指挥吊车摆正位置,垂直提升。须待箱体全部拨出后,才能开动大车吊走。严禁真真空气氛炉的炉车在运行中吊反应箱。放反应箱时,按顺序摆放。装炉工应将去掉的四链钩放于箱体之内,以免起钩时挂住外沿使箱体移动位置或箱体碰伤操作人员。为什么大家都选择合肥真萍科技的气氛炉,原因真萍告诉您。芜湖气氛炉规格尺寸

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三综合试验箱是指综合温度、湿度、振动三个环境应力的试验箱,具有极宽大的温湿度控制范围,可满足用户的各种需要。且此试验箱采用独特的平衡调温调湿方式,可获得安全、精确的温湿度环境。同时可在三综合试验箱内将电振动应力按规定的周期施加到试品上,供用户对整机(或部件)、电器、仪器、材料等作温湿度、振动综合应力筛选试验,以便考核试品的适应性或对试品的行为作出评价。下面为大家介绍一下真萍科技的温湿度振动三综合试验箱特点:1.试验室与制冷系统整体组合式结构,紧凑美观,便于操作制冷压缩机组及主要配件均为口。2.进口LCD彩色液晶触摸屏,温、湿度程序自动控制,配有RS232通讯接口3.可根据用户要求选配不同制造商不同型号的振动台,振动台接口接口可有多种形式选用,保证冷、热、汽密封的同时,振动台具有良好的力学传递性。4.可根据用户要求设计、制造不同规格。福州气氛炉厂家直供气氛炉常见的用途有哪些?合肥真萍告诉您。

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气氛炉的种类很多,可按炉体内的气氛分类(F—放热式,X—吸热式,YL—有机液体裂解,D—氮基,A—氨制备,M—木炭,N—氨气,的Q表示气氛)气氛炉的特点是在某一既定温度下,向炉内通入一定成分的人工制备气氛,以达到某种热处理的目的,如气体渗碳,碳氮共渗及光亮淬火,退火,正火等。为了控制炉内的气氛,维持炉内的压力,炉内工作空间始终要与外界空气隔绝,尽量避免漏气和吸入空气,故要求炉壳,砌体,炉门及所有外界连接零件如风扇,热电偶,辐射管,推拉料机等采用密封装置。

加热方法为了保证气氛的稳定性,气氛炉可分为马弗炉和无马弗炉两种,马弗炉的火焰在马弗外,工件在马弗内进行间接加热;无马弗炉采用各种火焰辐射管或者电辐射管,将火焰或者电热体与炉气隔开,以免破环炉内气氛的稳定。防爆装置还原气体和空气混合达到一定混合比,在一定温度下易引起,故对炉子的前,后室,淬火室以及缓冷室等均设有防爆装置,炉子供气和排气的控制系统也要有防爆措施。无马弗气氛炉采用还原性气体,为了不影响砌体的使用寿命,以及不破环正常炉内气氛,要求炉膛砌体采用抗渗碳耐火材料。气氛炉有哪些具体功能呢?

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下面为大家介绍一下全自动HMDS真空烤箱的整机尺寸、真空腔体尺寸。1.内胆尺寸:650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.载物托架:2块3.室温+10℃-250℃控温范围:温度分辨率:0.1℃温度波动度:0.5℃4.真空泵:油泵或无油真空泵。真空度:133pa,5.加热方式:腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板(防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态)6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片;6寸晶圆片;8寸晶圆片等。7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间(正常工艺在50分钟-120分钟(按产品所需而定烘烤时间),为正常工作周期不含降温时间(因降温时间为常规降温)。气氛炉的发展前景如何呢?芜湖气氛炉规格尺寸

合肥真萍告诉您气氛炉的运用方式。芜湖气氛炉规格尺寸

中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理,下面为大家介绍一下中温气氛箱式炉的系统配置。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃(恒温800℃,1h)二、气氛系统1.炉膛气氛2路氮气,流量计量程为2~20L/min;每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气囱,用于废气排放,废气3.经过水封清洗后进入大气中,减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量:5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量芜湖气氛炉规格尺寸

公司主要生产和经营以下产品:

1.烘烤制程设备:电热鼓风烘箱、精密充氮烘箱、精密鼓风烘箱、洁净烘箱,厌氧烘箱、水冷无氧烘箱、压力真空烘箱、真空烤箱、高真空烤箱、高温高真空烤箱、AGV+自动烤箱、加热台等;

2.半导体工艺设备:PI排氧固化炉,BCB无氧固化炉,PBO无氧固化炉,真空无氧烘箱,HMDS涂胶预处理系统,氨气反转炉、全自动立式真空烤箱、全自动压力真空烤箱、全自动SIC复合覆膜立式炉、全自动立式炉系列、全自动合金炉系列,全自动退火炉系列,全自动氧化炉系列、全自动甲酸回流焊接等;

3.可靠性试验设备:可编程高低温试验箱;恒温恒湿试箱;可编程高低温交变湿热试验箱;温度冲击试验设备;热老化箱等;

4.材料热处理设备:快速反应网带炉、气氛控制网带炉、干燥隧道炉等;

5.存储设备:HMSD使用低湿防潮柜系列;氮气柜系列;洁净氮气柜系列;

本公司自成立之初,一直秉承真诚、真心、真实的服务理念,以客户至上为服务原则,满足客户持续增长的需求,不断为客户提供品质优良、价格合理的产品,降低客户的生产成本,提高客户产品的竞争力,为客户创造比较大化价值。

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