氮化铝陶瓷:半导体制造设备的“洁净防护材料” 半导体晶圆加工对环境洁净度要求严苛,设备部件需具备耐腐蚀、无杂质析出特性。氮化铝陶瓷以超高纯度(99.9%以上) 为关键优势,化学稳定性极强,可耐受半导体制造中的氢氟酸、盐酸等腐蚀气体与液体,不产生金属离子、氧化物等杂质,避免污染晶圆。 其耐高温性能优异(较高使用温度达1800℃),能适配晶圆热处理、刻蚀等高温工艺环节,且机械强度高,可加工成精密载物台、腔体衬板等部件,加工精度达±0.002mm,保障设备运行稳定性。当前,半导体行业向7nm及以下制程突破,对设备材料的洁净度与精度要求更高,氮化铝陶瓷成为半导体好的制造设备的关键材料,应用前景广阔。结构陶瓷,抗冲击不易裂,重型机械防护部件好材料。东莞氧化锆医疗陶瓷原材料

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氮化铝陶瓷片 氮化铝陶瓷片是以氮化铝(AIN)为原料的高性能陶瓷制品,通过粉末冶金工艺(成型、烧结等)制成,具有一系列独特性能,在好的电子领域应用多。 氮化铝陶瓷片主要应用于电子散热领域,作为大功率芯片(如LED、IGBT、射频芯片)的散热基板、封装衬底;金属冶炼,作为熔融金属(如铝、铜)的导流管、坩埚内衬,耐金属熔体侵蚀且不污染熔体。氮化铝陶瓷片因性能优异,主要用于对散热、绝缘和材料匹配性有严苛要求的好的场景。结构陶瓷,导热性可控,新能源设备热管理好帮手。

在高频电子领域,这款氧化铝陶瓷的应用优势十分。作为高频天线基板,其低介电损耗特性可减少信号衰减,提升天线接收与发射信号的效率;用于高频连接器绝缘件,高绝缘性与高精度能保障连接器的信号传输稳定性与连接可靠性;在射频模块中作为载体,良好的热传导性能可及时散出模块工作时产生的热量,避免模块因高温出现性能下降或损坏;同时,其优异的化学稳定性,能适配电子制造中的焊接、镀膜等工艺,降低生产过程中的不良率,提升生产效率。氧化铝陶瓷,表面光滑易清洁,多个领域适用广。东莞氧化锆医疗陶瓷原材料
高温不变性,高压不退缩,磨损不妥协- 医疗陶瓷,为工业极限工况而生。东莞氧化锆医疗陶瓷原材料
氧化铝陶瓷以高纯度氧化铝为关键原料,具备好的物理化学特性。其硬度高达HRA85-90,只次于金刚石,耐磨性能远超金属材质,可承受长期摩擦而不易损耗;耐高温性突出,长期使用温度可达1600℃,短期耐受温度更高达1800℃,在高温环境下仍能保持结构稳定;同时拥有优异的绝缘性能,体积电阻率高,且化学稳定性强,耐酸碱腐蚀,不与绝大多数化学介质发生反应。此外,其密度低、重量轻,兼具强度高与低膨胀系数,在严苛工况下能稳定发挥性能,是好的工业领域的理想材料。东莞氧化锆医疗陶瓷原材料
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