MEMS制作工艺-声表面波器件的原理：声表面波器件是在压电基片上制作两个声一电换能器一叉指换能器。所谓叉指换能器就是在压电基片表面上形成形状像两只手的手指交叉状的金属图案，它的作用是实现声一电换能。声表面波SAW器件的工作原理是，基片左端的换能器(输入换能器)通过逆压电效应将愉入的电信号转变成声信号，此声信号沿基片表面传播，然后由基片右边的换能器(输出换能器)将声信号转变成电信号输出。整个声表面波器件的功能是通过对在压电基片上传播的声信号进行各种处理，并利用声一电换能器的特性来完成的。微纳加工产业化能力覆盖设计、工艺、量产全链条，月产能达 50,000 片并持续技术创新。青海MEMS微纳米加工之PI柔性器件
超声影像芯片的全集成MEMS设计与性能突破：针对超声PZT换能器及CMUT/PMUT新型传感器的收发需求，公司开发了**SoC超声收发芯片，采用0.18mm高压SOI工艺实现发射与开关复用，大幅节省芯片面积的同时提升性能。在发射端，通过MEMS高压驱动电路设计，实现±100V峰值输出电压与1A持续输出电流，较TI同类产品提升30%，满足深部组织成像的能量需求；接收端集成12位ADC，采样率可达100Msps，信噪比（SNR）达73.5dB，有效提升弱信号检测能力。芯片采用多层金属布线与硅通孔（TSV）技术，实现3D堆叠集成，封装尺寸较传统方案缩小40%。在二次谐波抑制方面，通过优化版图布局与寄生参数补偿，将5MHz信号的二次谐波降至-40dBc，优于行业基准-45dBc，***提升图像分辨率。目前TX芯片已完成流片，与掌上超声企业合作开发便携式超声设备，可实现腹部、心血管等部位的实时成像，探头尺寸*30mm×20mm，重量＜50g，推动超声诊断设备向小型化、智能化迈进，助力基层医疗场景普及。甘肃MEMS微纳米加工资费金属流道 PDMS 芯片与 PET 基板键合，实现柔性微流控芯片与刚性电路的高效集成。
EBL 电子束光刻技术是实现纳米级高精度结构加工的手段，深圳市勃望初芯半导体科技有限公司掌握该技术并将其广泛应用于 MEMS 器件加工，打破传统光刻的分辨率局限。相比传统紫外光刻（小线宽约 1μm），EBL 电子束光刻可实现 50nm 以下的超精细结构加工，且支持多种衬底（PI、硅、金属、氟化钙等）。在光学超表面加工中，公司通过 EBL 技术在石英衬底上制作纳米柱阵列（柱径 50nm、高度 100nm），通过调控柱径与间距，实现对可见光或太赫兹波的精细调控，例如制作的太赫兹超透镜，可将太赫兹波聚焦光斑直径缩小至波长的 1/2，大幅提升成像分辨率；在生物传感芯片加工中，利用 EBL 技术在硅衬底上制作纳米级金属微柱阵列（柱高 200nm、间距 100nm），通过表面等离子体共振效应，增强生物分子检测信号，使检测灵敏度提升 10 倍以上。某医疗设备公司借助勃望初芯的 EBL 加工服务，开发出高灵敏检测芯片，通过纳米微柱阵列捕获病毒抗原，检测限低至 100 copies/mL，且检测时间缩短至 20 分钟，体现了 EBL 技术在 MEMS 加工中的创新价值。
MEMS制作工艺-微流控芯片：
微流控芯片技术(Microfluidics)是把生物、化学、医学分析过程的样品制备、反应、分离、检测等基本操作单元集成到一块微米尺度的芯片上，自动完成分析全过程。微流控芯片（microfluidicchip）是当前微全分析系统（MiniaturizedTotalAnalysisSystems）发展的热点领域。
微流控芯片分析以芯片为操作平台,同时以分析化学为基础,以微机电加工技术为依托,以微管道网络为结构特征,以生命科学为目前主要应用对象，是当前微全分析系统领域发展的重点。它的目标是把整个化验室的功能,包括采样、稀释、加试剂、反应、分离、检测等集成在微芯片上,且可以多次使用。 公司开发的神经电子芯片支持无线充电与通讯，可将电信号转化为脉冲用于神经调控替代。
在脑科学与精细医疗领域，公司开发的MEA柔性电极采用超薄MEMS工艺，兼具物相容性与高导电性，可定制化设计“触凸”电极阵列，***降低植入式脑机接口的手术创伤，同时提升神经信号采集的信噪比。针对药物递送与检测需求，通过干湿结合刻蚀技术制备的微针器件，既可实现组织间液的无痛提取，又能集成电化学传感功能，为糖尿病动态监测、透皮给药系统提供硬件支持。此外，公司**的MEMS多重转印工艺，可将光刻硅片模板快速转化为PMMA、COC等硬质塑料芯片，支持10个工作日内完成从设计图纸到塑料芯片成型的全流程，极大加速微流控产品的研发验证周期。热敏柔性电极采用 PI 三明治结构，底层基板、中间电极、上层绝缘层设计确保柔韧性与导电性。北京MEMS微纳米加工材料区别
MEMS具有以下几个基本特点？青海MEMS微纳米加工之PI柔性器件
微纳结构的多图拼接测量技术：针对大尺寸微纳结构的完整表征，公司开发了多图拼接测量技术，结合SEM与图像算法实现亚微米级精度的全景成像。首先通过自动平移台对样品进行网格扫描，获取多幅局部SEM图像（分辨率5nm，视野范围10-100μm）；然后利用特征点匹配算法（如SIFT/SURF）进行图像配准，误差＜±2nm/100μm；通过融合算法生成完整的拼接图像，可覆盖10mm×10mm区域。该技术应用于微流控芯片的流道检测时，可快速识别全长10cm流道内的微小缺陷（如5μm以下的毛刺或堵塞），检测效率较单图测量提升10倍。在纳米压印模具检测中，多图拼接可精确分析100μm×100μm范围内的结构一致性，特征尺寸偏差＜±1%。公司自主开发的拼接软件支持实时预览与缺陷标记，输出包含尺寸标注、粗糙度分析的检测报告，为微纳加工的质量控制提供了高效工具，尤其适用于复杂三维结构与大面积阵列的计量需求。青海MEMS微纳米加工之PI柔性器件
