MEMS制作工艺柔性电子：柔性电子（FlexibleElectronics）是一种技术的通称，是将有机/无机材料电子器件制作在柔性/可延性基板上的新兴电子技术。相对于传统电子，柔性电子具有更大的灵活性，能够在一定程度上适应不同的工作环境，满足设备的形变要求。但是相应的技术要求同样制约了柔性电子的发展。首先，柔性电子在不损坏本身电子性能的基础上的伸展性和弯曲性，对电路的制作材料提出了新的挑战和要求；其次，柔性电子的制备条件以及组成电路的各种电子器件的性能相对于传统的电子器件来说仍然不足，也是其发展的一大难题。超薄石英玻璃双面套刻加工技术，在 100μm 以上基板实现微流道与金属电极的高精度集成。广东MEMS微纳米加工之PI柔性器件
柔性 MEMS 器件因可弯曲、生物兼容的特性，在植入式医疗、可穿戴设备中极具潜力，深圳市勃望初芯半导体科技有限公司通过定制化 MEMS 微纳米加工工艺，攻克柔性材料加工难题。公司以 PI 为柔性基底，开发 “光刻 - 干法刻蚀 - 金属化 - 封装” 的全流程加工方案：首先通过光刻定义电极与结构图案，采用氧等离子体干法刻蚀实现 PI 薄膜的高精度图形化（线宽误差 ±2μm）；然后通过磁控溅射沉积金或铂金属层（厚度 50-100nm），制作柔性电极，确保电极在弯曲时的导电性稳定；采用生物兼容封装材料（如 PDMS）保护结构，避免体液腐蚀。这种工艺制作的柔性 MEMS 电极，可用于植入式生物电刺激 —— 在动物实验中，将电极植入大鼠脑内，可连续 14 天稳定记录脑电信号，且对脑组织的损伤率低于 5%；同时，依托 PI 材料的太赫兹波透过性，加工的柔性太赫兹调制器，可贴合皮肤表面，用于皮肤的太赫兹成像检测，通过微纳米结构调控太赫兹波相位，提升成像对比度。某可穿戴设备公司借助该工艺，开发出柔性心率监测贴片，电极通过 MEMS 加工实现微型化（面积 2mm×2mm），佩戴舒适度大幅提升，体现了柔性 MEMS 加工的创新价值。天津MEMS微纳米加工性能台阶仪与 SEM 测量技术确保微纳结构尺寸精度，支撑深硅刻蚀、薄膜沉积等工艺质量管控。
驾驶辅助系统升级带动MEMS＆传感器价值提升。自动驾驶已成大趋势，环境信息的感知是实现自动驾驶的基础，越高级别的自动驾驶对信息感知能力的需求越高，对应的MEMS＆传感器用量和价值量也会相应提升。根据NXP和Strategyanalysis的数据，L1/2级别的自动驾驶只需要1个摄像头模组、1-3个超声波雷达和激光雷达，以及0-1个融合传感器，新增半导体价值在100-350美元，而至L4/5级别自动驾驶车辆将会引入7-13个超声波雷达和激光雷达、6-8个摄像头模组并会引入V2X模块以及多传感器融合方案，新增半导体价值在1000美元以上。另外，短期来看，现实条件暴露了ADAS的缺陷，导致了一些安全事故的发生，由此对ADAS系统的安全性需求猛增，这些缺点重新致力于改进LIDAR、RADAR和其他成像设备，将多面传感器系统集成到自动驾驶汽车中。
MEMS传感器的主要应用领域有哪些？2、汽车MEMS压力传感器主要应用在测量气囊压力、燃油压力、发动机机油压力、进气管道压力及轮胎压力。这种传感器用单晶硅作材料，以采用MEMS技术在材料中间制作成力敏膜片，然后在膜片上扩散杂质形成四只应变电阻，再以惠斯顿电桥方式将应变电阻连接成电路，来获得高灵敏度。车用MEMS压力传感器有电容式、压阻式、差动变压器式、声表面波式等几种常见的形式。而MEMS加速度计的原理是基于牛顿的经典力学定律，通常由悬挂系统和检测质量组成，通过微硅质量块的偏移实现对加速度的检测，主要用于汽车安全气囊系统、防滑系统、汽车导航系统和防盗系统等，除了有电容式、压阻式以外，MEMS加速度计还有压电式、隧道电流型、谐振式和热电偶式等形式。硅片、LN 等基板金属电极加工工艺，通过溅射沉积与剥离技术实现微米级电极图案化。
MEMS的采样精度，速度，适用性都可以达到较高水平，同时由于其体积优势可直接植入人体，是医疗辅助设备中关键的组成部分。传统大型医疗器械优势明显，精度高，但价格昂贵，普及难度较大，且一般一台设备只完成单一功能。相比之下，某些医疗目标可以通过MEMS技术，利用其体积小的优势，深入接触测量目标，在达到一定的精度下，降低成本，完成多重功能的整合。以近期所了解的一些MEMS项目为例，通过MEMS生物传感器对体内某些指标进行测量，同时MEMS执行器（actuator）可直接作用于病变组织进行更直接的医疗，同时系统可以通过MEMS能量收集器进行无线供电，多组单元可以通过MEMS通信器进行信息传输。个人认为，MEMS医疗前景广阔，不过离成熟运用还有不短的距离，尤其考虑到技术难度，可靠性，人体安全等。基于 0.35/0.18μm 高压工艺的神经电刺激 SoC 芯片，实现多通道控制与生物相容性优化。江西MEMS微纳米加工厂家直销
电子束光刻是 MEMS 微纳米加工中一种高分辨率的加工方法，能制造出极其微小的结构。广东MEMS微纳米加工之PI柔性器件
MEMS制作工艺深硅刻蚀即ICP刻蚀工艺：硅等离子体刻蚀工艺的基本原理干法刻蚀是利用射频电源使反应气体生成反应活性高的离子和电子，对硅片进行物理轰击及化学反应，以选择性的去除我们需要去除的区域。被刻蚀的物质变成挥发性的气体，经抽气系统抽离，然后按照设计图形要求刻蚀出我们需要实现的深度。干法刻蚀可以实现各向异性，垂直方向的刻蚀速率远大于侧向的。其原理如图所示，生成CF基的聚合物以进行侧壁掩护，以实现各向异性刻蚀刻蚀过程一般来说包含物理溅射性刻蚀和化学反应性刻蚀。对于物理溅射性刻蚀就是利用辉光放电，将气体解离成带正电的离子，再利用偏压将离子加速，溅击在被蚀刻物的表面，而将被蚀刻物质原子击出(各向异性)。对于化学反应性刻蚀则是产生化学活性极强的原(分)子团，此原(分)子团扩散至待刻蚀物质的表面，并与待刻蚀物质反应产生挥发性的反应生成物(各向同性)，并被真空设备抽离反应腔广东MEMS微纳米加工之PI柔性器件
