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南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务,可进行以下先进集成材料制备和研发:1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆,用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器;2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆,用于低损耗光学平台;3)AlGaAs-on-insulator,绝缘体上AlGaAs晶圆,用于光量子器件等新一代片上光源平台;4)Miro-Cavity-SOI,内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆,用于环栅GAA,MEMS等器件平台;5)SionSiC/Diamond,解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈;6)GaNonSiC,解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈;7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司可提供定制化光电器件及电路开发方案和工艺加工服务。甘肃硅基氮化镓器件及电路芯片测试

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南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司是国内为数不多拥有先进太赫兹测试能力的单位之一。公司能够进行高效准确的测试工作,可以测试至400GHz的各类元器件、MMIC电路及模块的散射参数测试和器件建模。此外,公司还能够实现高达500GHz的电路功率测试和噪声测试。这些能力展示了公司在太赫兹测试领域较强的实力。通过持续的创新和研发,公司不断拓展技术边界,为客户提供更加专业、高质量的服务。作为高频器件产业企业,公司为整个行业的发展贡献着自己的力量。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司将继续致力于太赫兹测试技术的创新和应用,为推动整个行业的进一步发展做出更大的贡献。云南太赫兹芯片开发南京中电芯谷高频器件产业技术研究院公共技术服务平台的光刻工艺技术服务,可以实现50nm级别的芯片制造。

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南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司的固态功率源产品以其出色的性能深受客户的认可和好评。从产品的设计、研发到生产制造,研究院确保每一个细节都经过精心打磨,以使产品的性能达到更高的水平。研究院的固态功率源产品不仅在电力、电气自动化、通信等领域广泛应用,而且在新能源领域也展现出了广阔的市场前景。随着社会的不断发展和技术的不断进步,越来越多的行业对于高性能固态功率源的需求也越来越迫切。芯谷高频以其独特的设计理念和先进的生产工艺,成功开发出了一系列符合市场需求的固态功率源产品,可以满足各行业的不同应用需求。未来,南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司将继续致力于科技创新和产品研发,为客户提供更加高性能的固态功率源产品。

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司具备较强的异质异构集成技术研发实力和研发基础,公司的研发团队具备深厚的专业知识和丰富的实践经验。通过不断的探索,公司在异质异构集成技术领域取得了重要的突破和进展。在异质异构集成技术方面,公司一直致力于进一步提升产品性能和降低成本,通过对不同材料和结构的理解和应用,实现了不同材料、不同元器件的集成,突破了传统器件的限制,显著提高了产品的性能。公司拥有先进的异质异构集成科研设施和研发平台,为科研人员提供了良好的条件和环境。在这里,研发人员可以充分发挥创造力和智慧,开展深入的研究和实验,不断推进技术的突破和创新。公司与多家高校和科研机构建立了长期稳定的合作关系,共同开展科学研究和成果转化,为公司的发展提供源源不断的动力。南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供Si基GaN微波毫米波器件与芯片技术开发服务。

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南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台是一家专业提供先进芯片工艺技术服务、微组装及测试技术服务的机构。该平台汇聚了一支经验丰富、技术精湛的团队,致力于为客户提供技术支持和解决方案。在芯片工艺技术服务方面,平台具备先进的工艺设备,能够提供高质量的工艺服务,包括制程设计、工艺优化、工艺流程开发、单步或多步工艺代工等方面的支持,帮助客户实现芯片制造的各项工艺。此外,平台还拥有先进的微组装及测试设备,为客户提供器件及电路的测试、模块组装等服务。这些服务包括微组装技术、封装工艺、器件测试等方面的技术支持,以保证客户的产品性能。平台以客户需求为导向,注重与客户的密切合作,为客户提供一站式的技术服务和解决方案。秉承着技术创新和持续改进的理念,南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台将不断提升技术实力,丰富技术服务内容。芯谷高频研究院可以对外提供光电芯片测试服务,包括光电集成芯片在片耦合测试、集成微波光子芯片测试等。贵州化合物半导体器件及电路芯片设计

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供定制化GaAs/InP SBD太赫兹集成电路芯片技术开发服务。甘肃硅基氮化镓器件及电路芯片测试

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司公共技术服务平台在背面工艺方面,拥有键合机、抛光台、磨片机等,可以进行晶片的减薄、抛光以及划片工艺。公司公共技术服务平台支持晶圆键合工艺,可以支持6英寸及以下晶圆的键合,并具备介质、热压、共晶、胶粘等键合能力,键合精度达到2um。键合工艺可以将不同的晶圆材料组合在一起,从而制造出具有更高性能的芯片。凭借研究院的技术实力和专业的服务团队,公共技术服务平台将为客户提供更加优良的技术服务,不断创新晶圆键合工艺,助力高科技产业的发展。甘肃硅基氮化镓器件及电路芯片测试

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