适当的结构化光投影仪通常包括激光设备，该激光设备采用衍射图案实现期望的结构化光图案。一个示例激光设备是结合激光条纹使用的垂直腔面发射激光器(vcsel)。但是，存在与这种配置相关联的局限。例如，使用激光条纹获取精确的剖面信息的局限主要归因于与激光相关联的噪声和采样误差，因为激光条纹的中心可能不是在相机的像素中心成像并且可能不是检测到的强度峰值。当在图像上定位激光条纹的中心时出现采样误差。存在尝试从激光条纹提取相关信息的诸如，比较大强度、强度中心、高斯拟合、以及过零点之类的图像处理技术。与这些技术中的若干技术相关联的问题在于，其给出了比较高峰值的位置，但是该位置不是条纹的真实中心。与激光相关联的噪声主要采取激光斑点的形式，该激光斑点当从该部分的表面被反射出来时是激光的强度剖面的振荡并且是由激光的相干导致的。可以使用对接收的图像的数字后处理来补偿激光斑点。但是，这会是计算密集的并且导致相对较高的功率消耗，并且进一步导致3d图像的创建的延迟。因此，根据本公开的实施例，结构化光投影仪采用新型激光源设计，该激光源设计在相对于标准技术不增加计算负担的条件下减少或基本消除了激光斑点。另外。菲涅尔透镜型号价格咨询。上海微型红外透镜结构
在一些实施例中，衬底302是玻璃衬底(例如，pyrex衬底或硼硅玻璃衬底)或蓝宝石衬底(al2o3)。根据实施例，横跨衬底302的表面的每个vcsel结构304彼此各不相同。每个vcsel结构304包括具有多个镜像层(例如，布拉格反射器)的层堆叠，这些镜像层将多个量子阱层夹在中间，以生成从每个vcsel结构304的顶部传导出来并且沿衬底302的表面的法线的激光辐射。每个vcsel304可以按顺序布置在衬底302的整个表面。在一个示例中，vcsel304被布置在2d阵列图案中，每个vcsel在横跨衬底302的表面的x方向和y方向上相隔相同的距离。也可以按照其他顺序模式布置vcsel304，或者可以将其被布置在伪随机图案中。尽管衬底302被示出为具有圆形，但这不是限制性的，并且衬底302可以具有任何形状和大小。在一些实施例中，衬底302是来自在x方向和y方向上具有毫米或厘米级的尺寸的较大衬底的冲模(die)。另外，在一些实施例中，从数百个vcsel到数百万个vcsel甚至更多的任意数目的vcsel304可以被布置在衬底302上。图4示出了根据实施例的具有***多个vcsel402和第二多个vcsel404的衬底302的侧视图。***多个vcsel402和第二多个vcsel404中的每个vcsel单独地从衬底302的表面向外延伸。重庆人体红外透镜结构设计菲涅尔透镜性能价格咨询。
并且每个第二vcsel结构单独地在衬底的表面上方延伸。本申请另一方面提供了一种激光源。该激光源包括：衬底；vcsel结构，vcsel结构在衬底的表面上并且在衬底的表面上方延伸，vcsel结构具有顶层；以及多个亚波长结构，多个亚波长结构在vcsel结构的顶层上，其中，多个亚波长结构中的一个或多个亚波长结构包括芯材和壳材，壳材在芯材的一个或多个表面。附图说明参考附图，随着下面的详细描述的继续，请求保护的主题的实施例的特征和优点将变得明显，在附图中：图1示出了根据本公开的实施例配置的光投影仪系统。图2提供了根据本公开的实施例配置的光投影仪系统的更详细的图示。图3示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的自顶向下的视图。图4示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的侧视图。图5提供了根据本公开的实施例的具有不同孔径宽度的设备的示例激光光谱。图6示出了根据本公开的实施例的用在光投影仪系统中的光源的自顶向下的视图。图7示出了根据本公开的实施例的具有亚波长结构的光源的一部分的侧视图。图8示出了根据本公开的实施例的亚波长结构的更详细的视图。图9a至9c示出了根据本公开的实施例的示例亚波长结构。
因此使用词语“顶”并不将该层限制到任何具体的空间或几何关系。本文描述的任意vcsel结构可以包括用于操控光输出的一个或多个元原子800。应该理解的是，为了清楚起见*示出了单个元原子，但是任意数目的元原子可以被图案化在顶层802上。尽管在本实施例中示出了圆柱形状，但是任意形状可以用于元原子800。元原子800可以具有基于来自vcsel的发射光的峰值波长的直径。例如，元原子800可以具有范围在λ/10到λ/5之间的总直径。类似地，元原子800的总厚度取决于来自vcsel的发射光的峰值波长。例如，元原子800可以具有大约λ/2的厚度。芯材804可以是具有相对较低的折射率但是高沉积速率的材料，因此提高了制造元原子800时的吞吐量。例如，芯材804可以是氮化硅(si3n4)，并且可以使用化学气相沉积(cvd)或物***相沉积(pvd)技术沉积。随后可以使用标准等离子体蚀刻工艺对所沉积的氮化硅层进行蚀刻，以形成每个元原子800的芯材804。壳材806可以是具有相对较高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如，诸如氧化钛(tio2)或硅之类的材料可被用于壳材806，并且可以通过使用原子层沉积(ald)技术来非常薄地沉积。ald允许壳材806以非常薄的厚度共形地覆盖芯材804的外表面上。菲涅尔透镜厚度检测技术。
示例39包括示例33至38中任一项的主题，其中，芯材和壳材具有大约λ/2的厚度，其中，λ是光源的峰值输出波长。示例40包括示例33至39中任一项的主题，其中，壳材包括硅。示例41包括示例33至40中任一项的主题，其中，芯材具有基部和顶部，并且基部比顶部宽。示例42包括示例33至40中任一项的主题，其中，芯材具有基部和顶部，并且基部比顶部窄。本文采用的术语和表述被用作描述性术语而非限制性术语，并且使用这些术语和表述不意在排除所示出和描述的特征(或其部分)的任意等同，并且应认识到在权利要求范围内的各种修改是可能的。因此，权利要求用于覆盖所有这些等同。本文已经描述了各种特征、方面、和实施例。根据本公开将理解的是，这些特征、方面、和实施例易于相互组合以及做出变形和修改。因此，应该认为本公开涵盖这些组合、变形、和修改。期望本公开的范围不受限于具体实施方式，而是由所附权利要求来限定。要求本申请的优先权的未来递交的申请可以通过不同方式请求保护保护所公开的主题，并且一般可以包括这里的各种公开或者以其他方式表达的一个或多个元素的任意**。投影用的菲涅尔透镜批发厂家。浙江微型红外透镜按需定制
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壳材806可以具有小于10nm、小于5nm、小于1nm的厚度或单层原子。图9a至9c示出了根据一些实施例的图案化在vcsel结构的顶层802上的元原子的不同示例。图9a示出了***元结构902，其中，壳材806围绕用于每个元原子的芯材804，但是不覆盖顶层802在每个元原子之间的区域。在蚀刻工艺期间，使用例如光刻胶或硬掩模来保护壳材806的围绕芯材804的部分，以移除壳材806在顶层802的表面上的暴露部分。图9b示出了第二元结构904，其中，壳材906共形地覆盖包括芯材804的所有表面和顶层802的表面。图9c示出了第三元结构906，其中，壳材806*覆盖芯材804的一个或多个侧壁。在沉积壳材806后，可以执行包层各向异性干法蚀刻工艺，以移除壳材806的所有水平平面部分，*留下芯材804的侧壁上的那些部分。图10示出了根据实施例的包括不止一种类型的元原子的元结构1000(这里称为“元分子(metamolecule)”)的另一示例。根据实施例，***元原子1002包括具有基部1006和顶部1008的芯材。基部1006可以比顶部1008更宽或更窄。第二元原子1004包括芯材1010，并且***元原子1002和第二元原子1004二者被壳材1012环绕。上海微型红外透镜结构
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