来自具有不同波长的两个波束的斑点图案变得不相关。这意味着应该设计各种vcsel的孔径宽度以使得vcsel之间的发射波长差由下式给出：δλ≥λ2/2z(1)其中，z是物体的照明表面的表面剖面高度变化。对于940nm的示例峰值发射波长和z＝，波长差应≥。图5是示出根据实施例的具有不同孔径宽度的两个不同vcsel阵列的激光光谱的图表。顶部的光谱是从***vcsel阵列测得的，其中每个vcsel结构具有4μm的孔径宽度。底部的光谱是从第二vcsel阵列测得的，其中每个vcsel结构具有2μm的孔径宽度。从光谱可以看出，具有较大孔径大小的***vcsel阵列包括两种横向激光模式和具有973nm左右的峰值波长的主导模式。与之对照，第二vcsel阵列*包括其峰值波长在972nm左右的单个激光模式。通过改变孔径大小，可以改变横向激光模式的数目和发射的峰值波长，从而产生不同的斑点图案。图6示出了根据实施例的具有衬底302的光源的另一示例，其中，该衬底包括具有不同孔径宽度的vcsel结构的各种区域。衬底302包括具有***孔径宽度(d1)的多个vcsel的***区域602、具有第二孔径宽度(d2)的多个vcsel的第二区域604、具有第三孔径宽度(d3)的多个vcsel的第三区域606、以及具有第四孔径宽度。菲涅尔透镜的应用发展趋势。辽宁热红外透镜价位
典型的太阳能菲涅尔透镜就是将齿型朝向电池片，这和之前谈到的准直应用中齿型朝向长共轭方向刚好相反。齿型朝内的另外潜在好处的减少太阳辐射对干扰角的冲击，也能够避免结构面里堆积灰尘和沙砾。这种类型菲涅尔透镜通常看作是非成像透镜，因为穿过透镜的有效区域焦距是固定的。其主要的作用是比较大限度增加太阳辐射到电池片上，用于转化成电力，因而无须考虑降低图象球面误差。科研系统中也经常用到菲涅尔透镜，透镜与水平面成45±5?夹角。如果两道不同波长的光线平行穿过透镜，就能够聚焦在直径2mm光斑上；它也可以用于视景系统模拟与仿真。江西制造红外透镜材料菲涅尔透镜衍射检测技术。
亚波长结构包括用作谐振光学天线的比光波长更小的表面结构的密集布置。光表面结构交互的谐振性质提供了操纵光学波振面的能力。根据另一实施例，激光源包括衬底、vcsel结构、以及多个亚波长结构。vcsel结构被布置在衬底的表面上，并且在衬底的表面上方延伸。多个亚波长结构被布置在vcsel结构的顶层。多个亚波长结构中的一个或多个亚波长结构包括芯材和放置在芯材的一个或多个表面上的壳材。注意，如根据本公开将明白的，亚波长结构可以结合本文中根据一些实施例提供的vcsel结构或者根据其他实施例的任何其他vcsel结构使用。vcsel阵列架构图1示出了根据本公开的实施例的用于创建物体104的3d图像的示例光投影仪系统102。物体104可以是放置在与光投影仪系统102相距给定距离处的任意尺寸或形状的物体。光投影仪系统102被设计为向物体104发射辐射106并接收反射辐射108，以生成物体104的3d图像或模型。将参考图2进一步详细论述光投影仪系统102的示例组件。发射的辐射106在物体104的一个或多个表面上形成光图案110。光图案110可以是网格(如图1所示)或者可以具有任何其他预定图案。来自光图案110的反射辐射108被用来确定横跨物体104的各个点的深度。
图3示出了根据实施例的光源202或者光源202的至少一部分的自顶向下的视图。光源202包括衬底302，该衬底具有布置在衬底302的表面上的多个vcsel结构304。在一些实施例中，衬底302可以是：包括第iv族半导体材料(例如，si、ge、sige)、第iii-v族半导体材料(例如，gaas、gaassb、gaasin)、和/或根据本公开将明白的任何一种或多种其他适当材料的大块衬底；绝缘体上的x(xoi)结构，其中，x是前述材料(例如，第iv和/或iii-v族半导体材料)之一，绝缘体材料是氧化物材料或介电材料或者一些其他电绝缘材料，从而xoi结构包括两个半导体层之间的电绝缘材料层；或者一些其他适当的多层结构，其中，顶层包括前述半导体材料(例如，第iv和/或iii-v族半导体材料)之一。这里使用的“第iv族半导体材料”(或“第iv族材料”或统称“iv”)在包括至少一种第iv族元素(例如，硅、锗、碳、锡)，例如，硅(si)、锗(ge)、硅锗(sige)等。这里使用的“第iii-v族半导体材料”(或“第iii-v族材料”或统称“ii-v”)包括至少一种第iii族元素(例如，铝、镓、铟)和至少一种第v族元素(例如，氮、磷、砷、锑、铋)，例如，砷化镓(gaas)、砷化镓铟(ingaas)、砷化铝铟(inalas)、磷化镓(gap)、锑化镓(gasb)、磷化铟。投影用的菲涅尔透镜批发厂家。
并且可以被用来重建物体104的3d表示。发射的辐射106和接收的辐射108可以是具有在大约400nm到大约700nm的范围中的波长的可见光。在另一示例中，发射的辐射106和接收的辐射108包括具有在大约700nm到大约1400nm的范围中的波长的近红外辐射。在一个示例中，发射的辐射106和接收的辐射108均包括在大约935nm到大约945nm范围中的波长。图2示出了根据实施例的光投影仪系统102的各种组件。光投影仪系统102包括光源202、透镜204、检测器206、深度确定电路208、源驱动器电路210、以及处理器212。光源202可以被设计为生成辐射106并向物体发射辐射106。光源202可以是用于生成辐射106的包括一个或多个激光二极管或激光腔的激光源。根据实施例，激光源202包括用于生成辐射106的多个vcsel。多个vcsel可以被布置在诸如硅或其他半导体衬底之类的衬底上，如将参考图3更详细地描述的。透镜204可以表示用于收集接收辐射108并且向检测器206引导接收的辐射的任意数目的透镜元件，如根据本公开将明白的。检测器206接收辐射108，并且将接收的辐射转换为发送给深度确定电路208的电信号。检测器206可以是电荷耦合装置(ccd)或者可以使用互补金属氧化物半导体(cmos)阵列来收集辐射。负菲涅尔透镜生产厂家电话多少？湖南微型红外透镜定制价格
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适当的结构化光投影仪通常包括激光设备，该激光设备采用衍射图案实现期望的结构化光图案。一个示例激光设备是结合激光条纹使用的垂直腔面发射激光器(vcsel)。但是，存在与这种配置相关联的局限。例如，使用激光条纹获取精确的剖面信息的局限主要归因于与激光相关联的噪声和采样误差，因为激光条纹的中心可能不是在相机的像素中心成像并且可能不是检测到的强度峰值。当在图像上定位激光条纹的中心时出现采样误差。存在尝试从激光条纹提取相关信息的诸如，比较大强度、强度中心、高斯拟合、以及过零点之类的图像处理技术。与这些技术中的若干技术相关联的问题在于，其给出了比较高峰值的位置，但是该位置不是条纹的真实中心。与激光相关联的噪声主要采取激光斑点的形式，该激光斑点当从该部分的表面被反射出来时是激光的强度剖面的振荡并且是由激光的相干导致的。可以使用对接收的图像的数字后处理来补偿激光斑点。但是，这会是计算密集的并且导致相对较高的功率消耗，并且进一步导致3d图像的创建的延迟。因此，根据本公开的实施例，结构化光投影仪采用新型激光源设计，该激光源设计在相对于标准技术不增加计算负担的条件下减少或基本消除了激光斑点。另外。辽宁热红外透镜价位
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