图10示出了根据本公开的实施例的使用亚波长结构的元分子的示例。图11是示出根据本文公开的某些实施例的从用在光投影仪系统中的光源发射辐射的方法的流程图。尽管将参考说明性实施例继续下面的详细描述，但是根据本公开，很多替代、修改、和变形将是明显的。具体实施方式用在结构化光投影仪中的激光源包括衬底、衬底上的一个或多个***vcsel、以及衬底上的一个或多个第二vcsel。一个或多个***vcsel各自具有***孔径宽度并且各自单独地在衬底的表面上延伸。一个或多个第二vcsel各自具有不同于***孔径宽度的第二孔径宽度并且各自单独地在衬底的表面上延伸。根据一些实施例，可以使用光刻技术对***vcsel和第二vcsel进行图案化。使用具有不同孔径宽度的vcsel的阵列提供了具有不同波长的发射辐射，从而提供了不同的斑点图案。当在检测器上被接收时不同的斑点图案被平均，此时斑点噪声减小。vcsel还可以包括多个亚波长结构以操控光输出。这种亚波长结构还可以用在包括标准vcsel在内的其他vcsel的表面上。在任意这些情况中，激光源可以与图像传感器结合在一起，以提供光投影仪系统。总体概述如上所述，仍然有与结构化光照明(sli)相关联的很多未解决的问题。更具体地。菲涅尔透镜的原理答疑解惑。珠海菲涅尔透镜 灯塔
可以确定在***多个vcsel结构和第二多个vcsel结构之间的孔径宽度的大小，使得从发射的辐射生成任意数目的不同横向激光模式和斑点模式。通过从具有不同孔径宽度的vcsel结构发射辐射，可以降低斑点噪声。在使用具有两个不同孔径宽度的两组vcsel结构的示例中，斑点噪声降低大约可以使用附加的vcsel结构阵列，其中每个阵列具有不同的孔径宽度，以将斑点噪声降低因数其中n是不同vcsel阵列的数目。接着，在操作1106，在由***和第二vscel结构发射的辐射被从物体反射出来之后，在检测器处接收该辐射。所接收的辐射可被用来定义物体的数字3d图像。当然，在一些实施例中，如先前结合系统所描述的，可以执行附加操作。具体地，辐射可以从与***和第二多个vcsel结构布置在相同衬底上的第三多个vcsel结构发射。第三多个vcsel结构中的每个vcsel结构包括不同于***和第二多个vcsel结构的孔径宽度的孔径宽度，使得从第三多个vcsel结构发射的辐射产生了不同于***和第二斑点图案的第三斑点图案。除非一其他方式明确声明，否则可以明白的是，诸如“处理”、“计算”、“运算”、“确定”之类的术语指的是计算机或计算系统或类似电子计算设备的动作和/或处理。现代化菲涅尔透镜大概费用菲涅尔透镜红外材料模板有哪些？
d4)的多个vcsel的第四区域608。孔径宽度d1-d4中的每个孔径宽度可以彼此相差相同的数量。例如，孔径宽度d1-d4中的每个孔径宽度可以相差500nm、1μm、2μm、或3μm。在另一示例中，孔径宽度d1-d4可以是给定范围(例如，1μm到10μm)内的任意值。在所示出的具有不同孔径宽度的vcsel阵列的四个区域的示例中(产生四个不同的斑点图案)，总斑点噪声降低大约50％尽管图6示出了*四个区域，但是衬底302的表面上可包括分别具有给定孔径宽度的vcsel阵列的任意数目的区域。另外，每个区域可以具有任何形状或大小。在一些实施例中，任意区域可以部分或完全地与任何其他区域重叠。亚波长结构集成与几何光学相比，亚波长结构(sws)提供了在更小的尺度上实现几乎平坦的无相差光学的可能。sws可以由操纵光的波阵面、极化、或强度的亚波长散射器阵列构成。像大多数基于衍射的光学设备一样，sws通常被设计为比较好在一个波长或窄波长范围内操作。sws的一个示例包括电介质传输阵列，该电介质传输阵列提供偏振和相位的亚波长空间控制和高发射。这些设备基于制造在平面衬底上的具有不同几何形状的高折射率介电纳米谐振器(散射器)的亚波长阵列。具有各种几何形状的散射器向所发送的光赋予不同的相位。
菲涅尔透镜应用在投影系统中的优势就是，通过聚焦或调整光线准直从而增加增体显示亮度，如果取消准直镜，光线在穿过面板时会大量损失，显示中会出现明显的热斑效应，降低显示屏幕四周亮度。同样，在LCD屏幕的另一面我们也必须将光线从面板上集中到投影透镜中。在观看屏幕前使用菲涅尔透镜所增加的亮度，在下图中看光线分布。比较常用的是以下几个方面的应用：菲涅尔透镜被证明比较好应用就是在投影系统中，其作用就是准直光线和聚焦光线。菲涅尔透镜将光源发出的束光源调整为平行光，显著提高显示面板四周亮度，消除了太阳斑效应，从而提高整体显示亮度均匀性。通常菲涅尔透镜与其他显示元件（如柱面镜）一起使用。菲涅尔透镜阵列价格咨询。
因此使用词语“顶”并不将该层限制到任何具体的空间或几何关系。本文描述的任意vcsel结构可以包括用于操控光输出的一个或多个元原子800。应该理解的是，为了清楚起见*示出了单个元原子，但是任意数目的元原子可以被图案化在顶层802上。尽管在本实施例中示出了圆柱形状，但是任意形状可以用于元原子800。元原子800可以具有基于来自vcsel的发射光的峰值波长的直径。例如，元原子800可以具有范围在λ/10到λ/5之间的总直径。类似地，元原子800的总厚度取决于来自vcsel的发射光的峰值波长。例如，元原子800可以具有大约λ/2的厚度。芯材804可以是具有相对较低的折射率但是高沉积速率的材料，因此提高了制造元原子800时的吞吐量。例如，芯材804可以是氮化硅(si3n4)，并且可以使用化学气相沉积(cvd)或物***相沉积(pvd)技术沉积。随后可以使用标准等离子体蚀刻工艺对所沉积的氮化硅层进行蚀刻，以形成每个元原子800的芯材804。壳材806可以是具有相对较高的折射率(或者至少比芯材804的折射率高)的材料。例如，诸如氧化钛(tio2)或硅之类的材料可被用于壳材806，并且可以通过使用原子层沉积(ald)技术来非常薄地沉积。ald允许壳材806以非常薄的厚度共形地覆盖芯材804的外表面上。例如。菲涅尔透镜模具24小时服务客服电话。珠海菲涅尔透镜 灯塔
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本申请大体涉及成像领域，具体地涉及高计算效率的结构化光成像系统。背景技术：创建3d图像的一种途径被称为结构化光照明(sli)技术。在sli技术中，光图案被投射到3d物体表面上。sli系统包括相机和投影仪(照明器)。3d物体被放置在与投影仪和相机相距预定距离的参考平面上。在使用中，投影仪将结构化光图案投射到3d物体表面上。结构化光图案可以是一系列条纹线或网格或任何其他图案。当结构化光图案被投射到3d物体表面上时，其被3d物体表面扭曲。相机捕捉在结构化光图案中具有的扭曲的3d物体表面的图像。然后，图像被存储在图像文件中，以供图像处理设备处理。在一些情况下，多个结构化光图案被投影仪(照明器)投射到3d物体表面上，并且具有结构化光图案的3d物体的多个图像被相机捕捉。在图像文件的处理期间，对结构化光图案中的扭曲进行分析，并且执行计算以确定3d物体表面上的各个点相对于参考表面的参考测量结果。这种图像处理使用标准测距或三角测量方法。相机和投影图案之间的三角测量角导致与表面的深度直接相关的扭曲。一旦这些测距技术被用来确定3d物体表面上的多个点的位置，则3d物体的3d数据表示即可被创建。3d物体的数字再造在包括图像识别(例如。珠海菲涅尔透镜 灯塔
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