严格来说,提纯的工艺流程也不是很复杂。主要是利用氟化氢的挥发性以及不同物质沸点不同,采用精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、减压蒸馏、气体吸收等技术对氟化氢进行纯化。在此过程中,要把三价砷的氟化物氧化成五价,以免它跟着氟化氢一起蒸馏出来。然后用高纯水溶解氟化氢,再过超滤膜过滤杂质,之后进行检验和无尘灌装。我们国家相关的纯化工艺技术有很多。随着我国化学工艺研究水平的提高,一套合格的生产工艺设计并不难,难就难在生产厂房和设备上了。先说生产厂房,虽说我国已经发展成为基建强国,但对于超净高纯氢氟酸厂房这样的特殊基建还没有成熟经验。这样的厂房要求与外界严密隔离,要设置多重的过滤系统,争取不让任何灰尘进入生产区。厂房不只要有双层的门窗和多重的通风过滤系统,而且要精打细算到每个工作区都用小的隔断隔开,设置单独的过滤系统,保证外来的“新鲜空气”,经过多重过滤和杀细菌以后达到万级以上的净化度,灌装车间甚至要求达到百级以上。氢氟酸使用时必须使用标准化的化学测量工具和方法。氢氟酸厂家
电子级氢氟酸是由无水氢氟酸经进一步处理得到的优越氢氟酸产品。电子级氢氟酸主要用于集成电路和超大规模集成电路芯片的清洗和腐蚀领域,是微电子行业生产所需的关键基础化工原材料之一。随着我国集成电路、半导体等行业快速发展,电子级氢氟酸市场需求不断增长,推动我国电子级氢氟酸行业产量不断上升。2010-2016年,我国电子级氢氟酸行业产量由3.9万吨增长至12.5万吨,年均复合增长率为21.4%;2017年,我国电子级氢氟酸行业产量达到15.0万吨以上。受下游市场需求不断增长的推动,我国电子级氢氟酸行业产量快速上升。目前,国产电子级氢氟酸用量只占到国内需求的不足5%,仍几乎完全依赖进口。氢氟酸厂家氢氟酸通常存在于氟石和融融岩石等矿物中。
杂质砷是电子级氢氟酸中需要控制的一种重要杂质指标,在氢氟酸原料中砷一般以三价态形式存在,而且AsF3与氢氟酸的沸点相差不大,所以只靠精馏对其分离的效果不会十分理想。为去除杂质砷,可在精馏前,加入适量的强氧化剂(如高锰酸钾等)将三价态的砷进行氧化,使其在精馏过程中沉积于塔釜中而被除去。生产设备与工艺:生产设备全采用碳钢衬聚四氟乙烯材料,生产工艺采用常压、全封闭、连续化,采用热水低温(小于100度)精馏.蒸馏工艺,工艺参数采用DCS集散控制系统生产。高纯水制备:通过离子交换与过滤器先制得普通纯水,再经过反渗透、电渗析后进入杀细菌、超微过滤制得高纯水。
注意事项工程控制:密闭操作,注意通风。尽可能机械化、自动化。提供安全淋浴和洗眼设备。呼吸系统防护:可能接触其烟雾时,佩戴自吸过滤式防毒面具(全面罩)或空气呼吸器。紧急事态抢救或撤离时,建议佩戴氧气呼吸器。眼睛防护:呼吸系统防护中已作防护。身体防护:穿橡胶耐酸碱服。手部防护:戴橡胶耐酸碱手套。其他防护:工作现场禁止吸烟、进食和饮水。工作完毕,淋浴更衣。单独存放被毒物污染的衣服,洗后备用。保持良好的卫生习惯。主要用途:用作分析试剂、高纯氟化物的制备、玻璃蚀刻及电镀表面处理等。禁配物:强碱、活性金属粉末、玻璃制品。废弃处置方法: 用过量石灰水中和,析出的沉淀填埋处理或回收利用,上清液稀释后排入废水系统。使用氢氟酸必须参照化学安全规范和操作规程。
玻璃刻字:先在玻璃瓶上涂一层石蜡,再用锐器刻上字,再用氢氟酸在刻字的石蜡上涂抹一遍,.稍等片刻字迹即可显现出来。原理:氢氟酸能够腐蚀二氧化硅(SiO2)。接触氢氟酸后的初始救护措施通常包括在接触部位涂上葡萄糖酸钙凝胶。如果接触范围过广,又或者延误时间太长的话,医护人员可能会在周围组织中注射钙盐溶液。但无论如何,接触氢氟酸后必须得到及时并且专业的护理。即使能得到及时防治,身体表面少于10%的面积暴露在氢氟酸中也会是致命的。身体少于2%的面积暴露在氢氟酸中也有可能是致命的。氢氟酸可以对人体和周围环境造成严重的危害。氢氟酸厂家
使用氢氟酸处理物品前,必须进行全方面清洁和检查。氢氟酸厂家
“电子氢氟酸在集成电路、半导体制作、太阳能光伏和液晶显示屏等领域应用普遍,是微电子行业生产所需的关键基础化工原材料之一。”电子级氢氟酸是微电子行业的关键性基础化工材料之一, 主要用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)制造中 ,用于晶圆表面清洗、芯片加工过程中的清洗和蚀刻等工序。在太阳能光伏行业中,用于硅片表面清洗、蚀剂等领域。硅锭到硅片,再到电池片的一道工艺程序:清洗制绒环节会用到产品。在液晶显示器行业,用于玻璃基板清洗、氮化硅、二氧化硅蚀剂等。在TFT—LCD、半导体产业中也被普遍使用。还可用作分析试剂、原子能工业化学试剂和制备高纯度的含氟化学品。氢氟酸厂家