电镀行业中，纯水用于电镀液配制、镀件漂洗等工序，水质的好坏直接影响镀层的质量和性能。水中的金属离子、有机物和杂质会导致镀层出现、麻点、结合力差等问题。合鑫为某电镀园区设计的 60T/H 纯水设备，采用 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 双级反渗透 + 离子交换” 工艺，产水重金属离子（Fe、Cu、Zn 等）＜0.1ppb，电导率＜2μS/cm。设备配备重金属在线检测仪，一旦水质超标，立即自动排放并报警。园区企业使用该设备后，电镀产品的合格率从 88% 提升至 96%，每年减少返工成本超 150 万元，增强了园区企业的市场竞争力。超滤设备高效处理大量原水。湖南小型纯水设备
合鑫水处理科技注重纯水设备的售后服务，建立了完善的服务体系。公司拥有专业的技术服务团队，能够为用户提供设备安装、调试、培训和定期维护等一站式服务。在设备安装过程中，技术人员会根据用户的现场环境和用水需求，合理规划设备布局和管道连接，确保设备安装规范。安装完成后，对用户操作人员进行系统培训，使其掌握设备的操作方法、日常维护和常见故障处理技巧。此外，公司还提供 24 小时在线技术支持，及时响应用户的服务需求。湖南小型纯水设备纳滤膜特性，使合鑫纳滤设备实现选择性过滤。
半导体封装测试环节中，芯片清洗、引线键合、塑封等工序对水质要求极高，微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或性能下降。合鑫为某半导体封装企业定制的 15T/H 纯水设备，采用 “预处理 + 双级反渗透 + EDI+0.1μm 终端过滤” 工艺，产水电阻率≥16MΩ・cm，颗粒度（≥0.1μm）＜30 个 /ml，TOC＜8ppb。设备配备的高精度在线监测系统，可实时监控水质变化，并自动调整运行参数。该企业引入设备后，封装产品的良品率从 93% 提升至 98%，每年减少因水质问题导致的损失超 500 万元，增强了企业在半导体封装领域的竞争力。
胶片生产过程中，乳剂制备、胶片冲洗等工序对水质要求严格，水中的杂质、金属离子和微生物会影响胶片的感光度、分辨率和保存期限。合鑫为某胶片生产企业设计的 12T/H 纯水设备，采用 “多介质过滤 + 活性炭吸附 + 反渗透 + 离子交换 + 超滤” 工艺，去除水中的悬浮物、有机物、重金属离子和微生物，产水电阻率≥10MΩ・cm，微生物＜1CFU/ml，重金属离子＜0.1ppb。设备处理后的纯水用于胶片生产，可提高胶片的质量和性能。该企业使用后，胶片的感光度和分辨率稳定性提高，产品在市场上的竞争力增强。组合设备协同工作，满足复杂水质需求。
电子芯片制造、线路板生产对纯水水质要求严苛，微量杂质都会影响产品性能。合鑫为某半导体企业定制的50T/H纯水系统，采用双级反渗透+EDI（电去离子）工艺，产水电阻率稳定在15MΩ・cm以上，TOC（总有机碳）＜10ppb，颗粒度（≥μm）＜100个/ml。设备配备PLC智能控制系统，可实时监测压力、流量、电导率等12项参数，并自动调节运行状态。自2023年投产以来，该企业芯片良品率从92%提升至，年减少次品损失超800万元。依据GMP标准，医药制剂、注射用水需严格控制微生物与内。合鑫为某制药厂设计的20T/H纯水设备，采用“预处理+双级反渗透+EDI+臭氧杀菌+μm终端过滤”工艺，产水符合《中国药典》纯化水要求，微生物＜10CFU/100ml，内＜。设备管道采用316L不锈钢材质，内壁抛光处理（Ra≤μm），配备CIP自动清洗与SIP在线灭菌系统，有效防止微生物滋生。该厂使用后，药品生产批次合格率提升至100%，顺利通过FDA认证。 多介质过滤，为合鑫后续纯水深度处理打基础。山东化妆品厂纯水设备
合鑫纯水设备能去除水中异味。湖南小型纯水设备
合鑫水处理科技不断致力于纯水设备的技术创新，与国内多所高校和科研机构开展合作，共同研发新技术、新工艺。公司在反渗透膜技术、EDI技术、水质监测技术等方面取得了多项成果，并将这些成果应用于纯水设备的升级改造中。例如，公司研发的新型抗污染反渗透膜，抗污染能力比传统膜元件提高了50%，使用寿命延长了2倍，为用户带来了更好的使用体验和经济效益。在生物制药行业，合鑫纯水设备为生物制品的生产提供了关键的水质保障。生物制药过程对水质的微生物和内要求极高，合鑫纯水设备通过采用先进的消毒技术和精密的过滤系统，能够有效去除水中的微生物和内，确保水质符合生物制药的要求。设备还具备完善的验证文件，帮助企业顺利通过FDA、EMA等国际药品监管机构的认证。 湖南小型纯水设备
