电池湿法设备Topcon工艺RCA槽式清洗设备主要功能去除多晶硅沉积的正面(LPCVD)PECVD绕镀层，去除表面剩余的BSG。优势：闭环运动控制系统，保证输送机构运动平稳性。l抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，完整的保护正面的同时，对背面作抛光处理。l烘干槽：采用高压风机+高效过滤器的方式，l进口PLC控制，稳步提升设备的产能。l采用机械臂慢提方式，设备满足干湿分离，匹配高效电池发展趋势l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃l引进半导体清洗工艺，保证硅片表面的洁净度。电池湿法设备配合先进的清洗技术，可有效去除电池极板上的杂质和污染物，提高电池的电化学性能。西安高效湿法刻蚀
湿法设备包括湿法制绒设备（Perc 工艺）、制绒设备（Topcon工艺）、湿法刻蚀设备（Perc 工艺）、RCA槽式清洗设备（Topcon工艺）、电池湿法背抛清洗设备（Topcon工艺）、湿法制绒设备（HJT工艺）、电池湿法背抛清洗设备（XBC工艺）、制绒清洗设备（XBC工艺）等设备；釜川生产制造的湿法设备能与多种主流工艺如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在设备结构、功能、产能和安全性等方面进行了升级。其作用是对太阳能电池用硅片进行清洗制绒处理，从而提升电池的质量和效率。西安HJT湿法设备厂家湿法刻蚀设备（Perc 工艺）抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，完整的保护正面的同时。
电池湿法设备主要是对太阳能电池用硅片进行清洗处理，2022年成功研发双六道大产能去PSG清洗设备，并实现量产，结构稳定性、产能、安全性升级。去PSG工艺首先将绕扩层PSG进行去除，利用背面PSG保护，在槽式清洗中完成去绕度工艺。为寻求更为稳定的硅片传输，整机设计为双五道/双六道分布结构，料台归正宽度可调，兼容更多规格的硅片，并为后续18X硅片更大产能改造提供了预留窗口；去PSG设备布局前后通透，给设备使用者提供了便捷性；上料台搭配了大流量全新滴液泵；。
电池湿法设备Perc工艺，湿法制绒设备功能是去除切割损伤层和表面脏污2.使用强碱腐蚀晶体硅表面形成规则金字塔状绒面，增加硅片对太阳光的吸收，降低反射率3.增加硅片表面积，进而PN结面积也响应增加。设备优势•采用机械臂慢提方式，设备满足干湿分离，匹配高效电池发展趋势。工艺槽采用经典的内外槽循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃。电池湿法设备能改善电池表面微观结构，提升硅片表面洁净度，降低表面污染，从而提升电池转化效率。电池湿法RCA槽式清洗设备（Topcon工艺）引进半导体清洗工艺，保证硅片表面的洁净度。
湿法设备通常包括湿法制绒设备（Perc 工艺）、制绒设备（Topcon工艺）、湿法刻蚀设备（Perc 工艺）、RCA槽式清洗设备（Topcon工艺）、电池湿法背抛清洗设备（Topcon工艺）、湿法制绒设备（HJT工艺）、电池湿法背抛清洗设备（XBC工艺）、制绒清洗设备（XBC工艺）等；釜川生产制造的湿法设备能与多种主流工艺如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在设备结构、功能、产能和安全性等方面进行了升级。其作用是对太阳能电池用硅片进行清洗制绒处理，从而提升电池的质量和效率。电池湿法背抛清洗设备（Topcon工艺）拥有闭环运动控制系统，保证输送机构运动平稳性。四川HJT湿法设备报价
电池湿法背抛清洗设备（Topcon工艺）进口PLC控制，稳步提升设备的产能。西安高效湿法刻蚀
电池湿法设备Topcon工艺RCA槽式清洗设备主要功能去除多晶硅沉积的正面(LPCVD)PECVD绕镀层，去除表面剩余的BSG。优势：闭环运动控制系统，保证输送机构运动平稳性。l抛光槽：上表面采用水膜保护及辊轮带液方式，完整的保护正面的同时，对背面作抛光处理。l烘干槽：采用高压风机+高效过滤器的方式，l进口PLC控制，稳步提升设备的产能。l采用机械臂慢提方式，设备满足干湿分离，匹配高效电池发展趋势l工艺槽采用经典的内外槽的循环模式，能快速有效的将新添加药水以及添加剂充分搅拌均匀，槽内控温精度误差＜±1℃l引进半导体清洗工艺，保证硅片表面的洁净度。光伏电池湿法制绒设备，与多种主流工艺如PERC、TOPCON、HPBC等相匹配，在设备结构、功能、产能和安全性等方面进行了升级。西安高效湿法刻蚀
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