L:钢瓶标准气的浓度(ppm);Qs:钢瓶标准气的流量(Lömin);Qa:压缩空气的流量(Lömin;用此法配气时,在压缩空气的管路中应安装选择性过滤器(净化器),以除去空气中影响配气纯度的杂质。此外配气出口的总流量应略大于用气口的流量,以保证所配气体的浓度与纯度。2.渗透管动态配气法(1)渗透管及渗透率的测定渗透管是动态配气法中的另一种气源,其结构见图5。740)">在安培瓶1中装入产生原料气的液体(如汽油等),用不锈钢加固环3将聚四氟乙烯塑料帽2和安培瓶1的颈部紧封牢固,塑料帽的上端是比较薄(壁厚在1毫米以下)的渗透面4。由于原料液体的挥发性,使安培瓶中有一定蒸气压,气体分子在蒸气压力的作用下,通过渗透面向外渗透。单位时间的渗透量叫渗透率。在一定温度下,渗透率的大小决定于渗透面的厚度和面积的大小等因素。渗透面越大,壁越薄,渗透率就越大。制作渗透管时,就是通过改变渗透面积和厚度的办法,以获得不同渗透率的渗透管。任何渗透管在使用前都必须知道其渗透率。渗透率的测定方法是:在一干燥瓶的底部装入粒状氢氧化钠,上面盖一层尼龙纱网,将渗透管放入干燥瓶中的纱网上。加盖后,渗透出来的气体(汽油蒸气)就会被氢氧化钠吸收。由于液体的蒸气压与温度有关。四川工业气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。福建标准气体厂家直销
混合罐。标准气体分压法1、适用范围分压法适用于制备常温下是气体，含量在1~60%的标准混合气体2、所需设备配气设备：气瓶汇流排，压力表，阀门，真空泵，管道，气瓶卡具。标准气体扩散法1、适用范围扩散法适用于制备常温下是液体的有机气体2、所需设备配气设备：气瓶，阀门，流量控制阀，流量计，液体组分，分析仪表气瓶，卡具。标准气体容积法1、适用范围静态容积法适用于实验室制备多种小、少量的标准气体，压力接近大气压力。2、所需设备配气设备：气瓶，气瓶减压阀门，定体积管，压力计，真空泵。标准气体饱和法1、适用范围饱和法法适用于易于冷凝的气体和蒸汽。2、所需设备配气设备：气瓶，气瓶减压阀门，冷凝器，饱和器，恒温控制器，压力计，循环风机。标准气体流量法1、适用范围流量比法法是动态配气方法，是严格控制一定比例的组分气体和释稀释气体的流量，经混合而得到的标准气体。2、所需设备气瓶，气瓶减压阀门，单向阀，流量控制器，压力表，管道，机箱。标准气体稀释法1、适用范围稀释法法法是制备低含量标准气体的方法之一。2、所需设备气瓶，气瓶减压阀门，流量控制器，压力表，管道。标准气体体积法1、适用范围体积比法是简单的配气方法。福建标准气体厂家直销福建工业气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
所以渗透率也随温度改变而改变。因此,在测定渗透率时,必须将干燥瓶放入恒温水浴中,温度控制精度要达到±011℃。在恒温放置过程中,每隔一定的时间(至少12小时)用精密天平快速称量渗透管一次(必须在10分钟内称完),相邻两次的重量差就是渗透管在该时间段的渗透量。测出渗透量后,就可用下式求出该渗透管的渗透率。740)">式中:G:渗透率(Lgömin);△G:相邻两次称量的重量差(mg);△S:相邻两次称量的时间间隔(min);实际测定时,记录一系列称量和时间数据,用上式计算渗透率并求其平均值。或以称量数据为纵坐标,时间为横坐标,绘制渗透率的特性曲线,所得直线的斜率即为渗透率。(2)渗透管动态配气装置用已知渗透率的渗透管配制标准气体的装置如图6所示。740)">将渗透管放在气体发生瓶中,再将气体发生瓶放入恒温水浴中,恒温水浴的温度要与测定渗透率时的温度相同(一般为25±1℃),这样就可不作温度校正。稀释气(压缩空气)经**、活性炭和氢氧化钠净化器2除去水分和杂质后,再经流量控制阀和流量计3进入气体发生瓶7(即混合器)中,将渗透出来的气体分子带出,就得到标准气体。标准气体的浓度可由下式求出(在25℃和一个大气压下)。740)">式中:z:所配标准气体的浓度(ppm)。
配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的**低浓度为10-6级,组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。3、电子气体(Electronicgases)：半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4_6m+p-_4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺；高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(超大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。4.外延气体(Cpita***algases)：在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即硅烷、二氯二氢硅、三氯氢硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。5.蚀刻气体(Etchinggases)：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉。重庆乙烯标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。
**经济基本都保持着两位数的增长，即便受到**金融危机的影响，2009年GDP也能保持8%以上的增长，2011年也达到9%以上。经济的增长会带来很多好处：首先，经济的发展给企业带来了蓬勃发展的机会，企业便会创造更多的利润，使企业有能力进行投资;其次，经济的快速发展必然带动相关产业的投资。经济的发展更使气体产业受益匪浅，气体相关产业扩大投资，必然要增加对气体的需求。所以说经济快速增长时期，也是进***体投资的**好时机。随着**经济的快速发展，作为国民经济基础工业要素之一的工业气体行业，在国民经济中的重要地位和作用日益凸显。2000年后，工业气体行业进入快速发展阶段，庞大的市场需求为**气体行业带来广阔的发展空间，未来我国工业气体行业将继续保持快速发展趋势。预计未来5年期间，**工业气体市场将保持至少11%的增长率，工业气体的应用领域十分***，传统行业主要为钢铁、化工，新兴的应用领域包括金属加工、煤化工、玻璃、电力、电子、医疗、公路养护、食品饮料等各行各业。2008年，钢铁、化工两个行业的占比为57%，有色以及其他行业对氧气的应用相对分散，总共占比为43%。到2015年。钢铁、化工两个行业的占比将下降到47%，而其他行业上升到53%。重庆二氧化碳标准气体源头厂家推荐四川侨源气体股份有限公司。福建标准气体厂家直销
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G:渗透管的渗透率(Lg/min);M:液体的摩尔质量(g/mol);Q:稀释气体的流量(L/min);VM:配气状态下气体的摩尔体积(L/mol)。标准气体配制方法编辑包括气体的发生,一定体积或一定质量物质的量取及用空气稀释至一定浓度等步骤。气体发生由于各种物质的物理、化学性质不同,它们的存在形式各异,因此,获得标准气体的方法也不相同。对于以液体状态存在的挥发性较大的物质,可利用液体的挥发作用来制取。此外,也可以利用化学反应来制取。用后一种方法所产生的气体常常含有杂质,需先用适当的方法除去杂质后,贮存到适当的容器中,测定浓度后备用。表1列出了一些常见气体的发生方法。740)"height=268>贮存无论用什么方法产生的标准气体,通常都要收集到适当的容器中保存。生产厂家一般都是将其压入钢瓶或玻璃钢瓶中,并用清洁气体稀释成一定浓度,作为商品出售。在生产车间或实验室中可用玻璃容器、塑料袋或注射器临时保存。但要注意,被贮存的气体不能与容器发生化学作用,也不能通过器壁或缝隙漏掉。空气稀释用上述方法所获得的标准气体,浓度一般都比较大,不宜直接作为标准气体使用,而是把它作为原料气。福建标准气体厂家直销
