超纯水基本参数
  • 品牌
  • 威立特
  • 型号
  • H2O
  • CAS
  • 7732-18-5
  • 保存条件
  • 避光、常温
  • 产品等级
  • 一级
  • 密度
  • 1000000
  • 厂家
  • 苏州威立特环保科技有限公司
  • 产品规格
  • 25KG/桶
  • 执行标准
  • 国标
  • 有效物质含量
  • 1
  • 产地
  • 苏州
超纯水企业商机

原理:离子交换树脂分为阳离子交换树脂和阴离子交换树脂。对于含有酸性或碱性官能团的有机污染物,离子交换树脂可以通过离子交换反应将其去除。例如,带有羧基(-COOH)的有机酸可以与阳离子交换树脂上的氢离子(H⁺)进行交换,从而被树脂吸附;带有氨基(-NH₂)的有机碱可以与阴离子交换树脂上的氢氧根离子(OH⁻)进行交换而被吸附。应用:在超纯水制备的离子交换步骤中,除了去除水中的无机离子外,也可以对部分有机污染物起到一定的去除作用。不过,离子交换树脂主要针对的是含有特定官能团的有机污染物,对于非离子型或中性的有机物去除效果有限。而且,树脂在吸附一定量的有机污染物后,需要进行再生或更换。超纯水的分配系统要防止死角与细菌滋生。安徽实验室超纯水售价

超纯水

超纯水的物理性质与普通水有着微妙的差异。由于其几乎不含矿物质,其导电性极低,电阻率通常高达 18.2 兆欧・厘米以上,这一特性使得它在一些特殊的电气设备冷却系统中被广泛应用。在高能量密度的电子设备,如大型计算机服务器和超导磁体的冷却中,超纯水能够高效地带走热量,同时不会因导电而引发短路等电气故障。而且,超纯水的表面张力相对较大,这使得它在某些微流控芯片和纳米材料制备过程中具有独特的应用价值。例如在微流控通道中,超纯水的高表面张力有助于控制液体的流动行为,实现精确的样品处理和分析,为微纳尺度的科学研究和技术开发提供了有力的工具。安徽实验室超纯水售价超纯水的 pH 值通常接近中性,但稳定性要求极高。

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连接管道:采用耐酸碱的塑料管道(如 UPVC 或 PVDF)连接清洗水箱、清洗泵和反渗透膜组件,管道直径根据流量计算确定,同时要保证连接牢固、无泄漏。化学药剂,酸性清洗剂:如柠檬酸,纯度不低于 99%,用于去除钙、镁等无机盐垢。根据膜污染程度,将柠檬酸配制成 0.2% - 0.5%(质量分数)的溶液,例如,对于 5m³ 的清洗水箱,需称取 10 - 25kg 柠檬酸,先在少量水中溶解后再加入清洗水箱并补充水至规定体积。碱性清洗剂:可选用氢氧化钠,纯度不低于 96%,用于去除有机物和生物膜污染。配制成 0.1% - 0.3%(质量分数)的氢氧化钠溶液,操作方法同酸性清洗剂配制。氧化剂清洗剂:如过氧化氢(浓度为 30%)或次氯酸钠(有效氯含量不低于 10%),用于处理生物膜和一些难以氧化的有机物。过氧化氢溶液浓度可配制成 0.1% - 0.3%(体积分数),次氯酸钠溶液有效氯浓度控制在 200 - 500ppm,配制时需注意安全,在通风良好的环境下操作并穿戴防护用品。

关闭反渗透系统的进水阀门、产水阀门和浓水阀门,将系统与原水供应和后续用水环节隔离开。打开浓水排放阀和产水排放阀,将反渗透膜组件内的水排空,可利用压缩空气吹扫膜组件,尽量排净残留水,但要注意控制空气压力,一般不超过 0.3MPa,防止对膜造成损伤。清洗剂助剂:如十二烷基苯磺酸钠等表面活性剂,可提高清洗效果,添加量一般为清洗液总量的 0.05% - 0.1%(质量分数)。连接管道:采用耐酸碱的塑料管道(如 UPVC 或 PVDF)连接清洗水箱、清洗泵和反渗透膜组件,管道直径根据流量计算确定,同时要保证连接牢固、无泄漏。将清洗液通过泵循环通过膜元件,循环时间根据污染程度而定,一般为 30-60 分钟。循环结束后,可让膜元件在清洗液中浸泡 15-30 分钟,使清洗剂与污染物充分接触反应,增强清洗效果分析实验中,超纯水作为空白对照,确保结果准确性。

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例如在电子工业的半导体制造领域,特别是高精度芯片制造过程中,通常要求超纯水的电阻率接近或达到 18.2 MΩ・cm。这是因为芯片制造工艺对水中离子杂质极为敏感,即使微量的离子存在也可能导致芯片性能下降或出现故障。而在一些对水质要求稍低的行业,如一般的化学分析实验室,超纯水电阻率达到 10 - 18 MΩ・cm 左右也可能满足基本的实验需求。对于超纯水的微生物含量,通常要求每毫升水中的细菌菌落数(CFU/mL)低于 10 甚至更低。在一些对微生物极其敏感的领域,如制药行业的注射剂生产和生命科学研究中的细胞培养实验,超纯水的微生物标准要求更加严格,要求达到无菌状态,即每毫升水中的细菌菌落数几乎为零。精密仪器清洗需超纯水,避免杂质残留损害仪器。山东超纯水大全

超纯水的储存与使用过程需防止静电产生。安徽实验室超纯水售价

电子行业 在半导体制造领域,超纯水的应用极为关键。芯片制造过程中,从硅片的清洗、光刻、蚀刻到离子注入等各个工序,都需要超纯水。例如,在硅片清洗过程中,超纯水可以有效去除硅片表面的颗粒、有机物和金属离子等杂质。因为芯片的线宽非常小,微小的杂质颗粒都可能导致芯片短路或出现性能问题。在光刻工艺中,超纯水用于冲洗光刻胶,确保光刻图案的准确性。其高纯度能够避免水中杂质对光刻胶的溶解特性产生影响,从而保障芯片的高精度制造。 对于电子元器件的生产,如电路板的制作,超纯水也不可或缺。它用于清洗电路板,去除焊接过程中产生的助焊剂残留物、金属屑等杂质。这些杂质如果残留在电路板上,可能会引起电路的腐蚀或短路,影响电子产品的可靠性和使用寿命。安徽实验室超纯水售价

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