美国IONPURE EDI模块企业商机

美国ionpureEDI模块的进水指标:

◎通常为单级反渗透或二级反渗透的渗透水

◎TEA(总可交换阴离子,以CaCO3计):<25ppm。

◎电导率:<40μS/cm

◎PH:6.0~9.0。当总硬度低于0.1ppm时,EDI比较好工作的pH范围为8.0~9.0。

◎温度:5~35℃。

◎进水压力:<4bar(60psi)。

◎硬度:(以CaCO3计):<1.0ppm。

◎有机物(TOC):<0.5ppm。

◎氧化剂:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。

◎变价金属:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。

◎H2S:<0.01ppm。

◎二氧化硅:<0.5ppm。

◎色度:<5APHA。

◎二氧化碳的总量:<10ppm。

◎ SDI15min:<1.0。 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保各种型号出售。北京原装美国IONPURE EDI模块货源充足

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美国IONPUREIP-LXM30Z模块不需要化学再生,可连续运行,进而不需要传统水处理工艺的混合离子交换设备再生所需的酸碱液,以及再生所排放的废水。其主要特点如下:

美国IONPUREIP-LXM30Z模块的净水基本过程

  ·连续运行,产品水水质稳定

  ·容易实现全自动控制

  ·无须用酸碱再生

  ·不会因再生而停机

  ·节省了再生用水及再生污水处理设施

  ·产水率高(可达95%)

  ·无须酸碱储备和酸碱稀释运送设施

  ·占地面积小

  ·使用安全可靠,避免工人接触酸碱

  ·降低运行及维护成本

  ·设备单元模块化,可灵活的组合各种流量的净水设施

  ·安装简单、费用低廉

  ·设备初投资大 天津批发美国IONPURE EDI模块价格美国IONPURE EDI模块上海纯超环保欢迎比价。

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无需投加化学药品,可连续生产高纯度水 应用IONPURE LX 技术在生产高纯水过程中,无需投加有害的再生化学物,不存在废水中和问题,因此可连续生产,同时降低了成本。其通常用来进一步去除反渗透产品水中残留的二氧化碳、盐、硅、硼和有机碳化物(TOC)。 IONPURE LX 模块使用离子滲透膜、离子交换树脂以及电流来连续地生产高纯度水,无需为装置的再生而停机。当注入的反渗透产水当量电导率小于40µs/cm 时,LX系统的除盐率可达到99%以上,根据不同的应用,可生产电阻率在10-18MΩ•cm之间的更高质量的水。 主要供货型号:(配套电源供应) IP-LXM45Z ,IP-LXM30Z, IP-LXM24Z ,IP-LXM18Z ,IP-LXM10Z ,IP-LXM04Z

西门子EDI模块作为超纯水设备的主要部件,一旦损坏将直接造成抛光混床树脂的寿命缩短,增加运行成本,严重影响生产。

导致西门子EDI模块故障的主要原因:

  1、西门子EDI模块长期在大电流,低于额定流量情况下运行,极板侧积聚的热量得不到有效散发,造成EDI接近两极的膜片和隔网较早发热变形,EDI浓水压差增大,水质和水量下降,严重会碳化漏水。

  2、西门子EDI模块长期没有清洗保养,EDI的膜片和通道结垢,进出水压差增大,造成产水水质下降,电流无法调节,电压上升。

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安全

1)避免接触氢氧化钠,过乙酸,过氧化氢及氯代烃等具有腐蚀性的化学物质,过氧化氢是氧化剂。

2)将整个管线降压以避免高压化学药剂喷溅。

3) EDI系统在高电压下运行,在任何维护工作前,确保整流器不通电并锁定。

清洗化学品规范

  所有化学品应必须达到推荐使用的等级或者更好。 氯化钠(NaCl),食用级(≥99.80%), ACS或USP级醋酸(CH3COOOH)以及过氧化氢(H2O2)30%:ACS级,或达到水系统清洗的商用浓度。盐酸(HCl)ACS或技术级氢氧化钠(NaOH):球状, NF, ACS或净化级; 或50%w/w 溶液。 美国IONPURE EDI模块上海纯超环保欢迎选购。浙江零售美国IONPURE EDI模块量大从优

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影响ionpureEDI模块性能的主要污染物有二氧化碳、悬浮颗粒及胶体等,这些污染物会带来以下危害:

  1、氧化剂:给水中的氧化剂会氧化树脂和离子交换膜,并导致树脂和膜的降解从而降低交换容量和选择透过性能。氧化还会引起树脂裂解,造成进出水压力降上升,膜堆寿命缩短。

  2、活性金属:很低浓度的活性金属即可以催化氧化交换树脂和膜,并可被大量树脂和膜吸附使其交换能力下降,使树脂和膜的离子传导作用减弱,从而造成ionpureEDI模块性能衰减。

  3、悬浮颗粒和胶体:颗粒和胶体物质可以用污染指 数值表征。水中的悬浮颗粒和胶体物质会对树脂及膜形成污染,并造成ionpureEDI模块内部流道的堵塞,使膜堆给水压力升高。 北京原装美国IONPURE EDI模块货源充足

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